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靶材材質(zhì)對(duì)靶濺射電壓的影響 1. 在真空條件不變的條件下,不同材質(zhì)與種類靶材對(duì)磁控靶的正常濺射電壓會(huì)產(chǎn)生一定的影響。 2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內(nèi)。 3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等) 的濺射電壓比較高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控濺射過(guò)程;而有的靶材(如氧化銦錫ITO) 的濺射電壓比較低,可以在200多伏電壓時(shí)實(shí)現(xiàn)正常的磁控濺射沉積鍍膜。 4. 實(shí)際鍍膜過(guò)程中,由于工作氣體壓力變化,或陰極與陽(yáng)極間距偏小(使真空腔體內(nèi)阻抗特性發(fā)生變化),或真空腔體與磁控靶的機(jī)械尺寸不匹配,同時(shí)選用了輸出特性較軟的靶電源等原因,導(dǎo)致磁控靶的濺射電壓(即靶電源輸出電壓)遠(yuǎn)低于正常濺射示值,則可能會(huì)出現(xiàn)靶前存雖然呈現(xiàn)出很亮的光圈,就是不能見(jiàn)到靶材離子相應(yīng)顏色的泛光,以至不能濺射成膜的狀況。5. 永磁靶表面場(chǎng)強(qiáng)是否下降太多? ---------如果下降太多,需要更換磁鋼。合肥二氧化鈦靶價(jià)錢(qián)
PECVD制備氫化非晶硅薄膜本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底,按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干,然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃,工作氣壓120Pa,射頻功率100W,氣體流量SiH4/H2=15/5sccm,沉積時(shí)間30min,制備得到a-Si:H薄膜樣品。(1)非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨著濺射功率的增大而增大,膜的均勻性將會(huì)變差;(2)非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小,非晶硅薄膜均勻性變好;(3)在0.5Pa至2.0Pa范圍內(nèi),隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大;(4)隨著濺射時(shí)間的增加,膜的厚度成非線性增加,沉積速率開(kāi)始較快,之后逐漸減慢,膜的表面粗糙度逐漸變大;(5)隨著濺射氣壓的增大,沉積速率有所降低。合肥二氧化鈦靶價(jià)錢(qián)果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開(kāi)裂或彎曲。
電致變色智能玻璃的特點(diǎn):電致變色智能玻璃在電場(chǎng)作用下具有光吸收透過(guò)的可調(diào)節(jié)性,可選擇性地吸收或反射外界的熱輻射和內(nèi)部的熱的擴(kuò)散,減少辦公大樓和民用住宅在夏季保持涼爽和冬季保持溫暖而必須消耗的大量能源。同時(shí)起到改善自然光照程度、防窺的目的。解決現(xiàn)代不斷惡化的城市光污染問(wèn)題。是節(jié)能建筑材料的一個(gè)發(fā)展方向。調(diào)光玻璃的調(diào)光原理是:在自然狀態(tài)下(斷電不加電場(chǎng)),它內(nèi)部液晶的排列是無(wú)規(guī)則的,液晶的折射率比外面聚合物的折射率低,入射光在聚合物上發(fā)生散射,呈乳白色,即不透明。當(dāng)加上電場(chǎng)(通電)以后,有彌散分布液晶的聚合物內(nèi)液滴重新排列,液晶從無(wú)序排列變?yōu)槎ㄏ蛴行蚺帕?,使液晶的折射率與聚合物的折射率相等,入射光完全可以通過(guò),形成透明狀態(tài)。
什么是真空鍍鋁膜,應(yīng)用在哪些領(lǐng)域? 真空鍍鋁薄膜是在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一種工藝,我國(guó)鍍鋁膜產(chǎn)能已達(dá)到40萬(wàn)噸。主要用于風(fēng)味食品、日用品、農(nóng)產(chǎn)品、藥品、化妝品的包裝。 真空鍍鋁薄膜是在高真空條件下,以電阻、高頻或電子束等加熱方式使鋁熔化蒸發(fā),在薄膜基材的表面附著而形成復(fù)合薄膜的一種工藝。在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層極薄的金屬鋁即成為鍍鋁薄膜或鍍鋁紙。 用于包裝上的真空鍍鋁薄膜具有鋁材用量少、耐折疊性高、阻隔性能高、抗靜電等特點(diǎn),使鍍鋁薄膜成為一種性能優(yōu)良、經(jīng)濟(jì)美觀的新型復(fù)合薄膜,在許多方面已取代了鋁箔復(fù)合材料。主要用于風(fēng)味食品、日用品、農(nóng)產(chǎn)品、藥品、化妝品等的包裝。靶中毒的解決辦法:采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。
磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些,如何改善? 1.脫膜主要表現(xiàn):點(diǎn)狀/片狀膜層脫落 原因分析:雜質(zhì)附著,清洗殘留,真空室臟,臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn), 膜層局部附著不良等。 改善:加強(qiáng)清洗,加強(qiáng)烘烤,環(huán)境管控(清潔干燥),對(duì)于多層膜系,底層須與基材匹配(吸附力、硬度、熱膨脹)。 2.裂紋/暴膜主要表現(xiàn): 網(wǎng)狀裂痕/龜裂/起泡脫膜,出爐外觀OK,放置一段時(shí)間后爆裂/起泡脫膜。 原因分析:鍍膜過(guò)程基材加熱不充分,成膜后及出爐后降溫過(guò)快,膜層應(yīng)力累積, 膜層與基材不匹配,多層膜之間參數(shù)不匹配。 改善: 基材充分預(yù)熱加熱;增加離子輔助,減小應(yīng)力;鍍膜緩慢降溫;底層須與基材匹配;多層膜之間參數(shù)不突變。 3,色差主要表現(xiàn):同爐產(chǎn)品顏色不一致 原因分析及改善:靶材分布;布?xì)猓淮艌?chǎng);遮擋。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。合肥二氧化鈦靶價(jià)錢(qián)
除嚴(yán)格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結(jié)晶取向之外,對(duì)熱處理?xiàng)l件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴(yán)格控制。合肥二氧化鈦靶價(jià)錢(qián)
玫瑰金靶材有哪些? PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的,不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別,大概分為以下幾種: 1、皇冠金(crown gold),黃金含量在22K(91.667%),由英國(guó)亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見(jiàn)的也是典型的18K玫瑰金,黃金含量也在18K(75%),但其它另含有約4%的銀和21%的銅,呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金,黃金含量在14K(58.33%),其它添加金屬為銅(41.67%)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素,用來(lái)達(dá)到不同的色調(diào)或用來(lái)改變鍍層的性能,這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。合肥二氧化鈦靶價(jià)錢(qián)
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。