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礦用高壓接線盒技術(shù)創(chuàng)新,礦業(yè)電氣安全新篇章
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真空離子鍍厚功能鍍膜代替現(xiàn)行電鍍 真空離子鍍厚特性: (1)不用酸堿鹽、不用物、不產(chǎn)生六價(jià)鉻,沒(méi)有三廢排放,對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染,對(duì)人體旡害。 (2)鍍膜附著性好不易脫落,有過(guò)渡層。 (3)可鍍制厚功能鍍膜有耐磨、耐蝕、耐熱及特殊性能等鍍膜。 (4)鍍膜硬度可達(dá)Hv2000左右, 可據(jù)要求而定。 (5)鍍膜厚度可達(dá)40微米以上,可據(jù)要求而定。 (6)工件基材鋼鐵為主,有色金屬及其合金也可據(jù)要求采用。 應(yīng)用領(lǐng)域:活塞環(huán)、軸承軸瓦、葉片、搬手、篩具、壓鑄模具、 量具、絞刀、絲錐、 板牙、五金工具、機(jī)床頂針、一般耐磨件、鉗子口、零件修復(fù)等等。有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長(zhǎng)期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮。常州氧化鋅鎵靶材費(fèi)用
主要產(chǎn)品:1、鈀 顆粒 99.99%常規(guī)尺寸:φ3*6mm;量大可定做2、鈀 靶材 99.99%?常規(guī)尺寸:φ50*1mm;φ60*3mm;φ76.2*4mm等,尺寸可定做3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸:φ57*0.1mm*0.2mm4、鈀 箔片 99.92mm等,尺寸可定做二、其他:打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工。回收流程如下:稱(chēng)重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材產(chǎn)品編碼產(chǎn)品名稱(chēng)規(guī)格應(yīng)用Sc-I4006鈧x真空熔煉Li-G30610鋰顆粒99.9%φ6*10mm真空熔煉Sr-I2011鍶塊狀99%氮?dú)獍b真空熔煉Mg-G3514鎂顆粒99.93%4mm類(lèi)球形真空熔煉Mg-I3503鎂塊狀99.95%200g/塊真空熔煉Fe-G3533鐵顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Cr-G3501mm真空熔煉Al-G4066鋁顆粒99.99%φ6*6mm真空熔煉Cu-G5033銅顆粒99.999%φ3*3mm真空熔煉Cu-G3533銅顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Ti-G3033鈦顆粒99.9%φ3*3mm真空熔煉Ni-G3025鎳顆粒99.9%φ2*5mm真空熔煉V-G3015釩顆粒99.9%樹(shù)枝狀真空熔煉Mn-F2701武漢Sm靶材靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來(lái)。
由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光,因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小,拋光工藝結(jié)束后,靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度,使得拋光表面具有良好的均一性,有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光,操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大,造成拋光處理后,靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大,使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過(guò)程中,所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電,影響濺射鍍膜的均一性,造成鍍膜質(zhì)量差。拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度不均,即所述拋光片第二部分320的厚度不均。拋光片部分310的厚度與所述拋光片第三部分330的厚度相等,均為2mm~3mm。拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為分體的。在其他實(shí)施例中,所述拋光片部分、拋光片第二部分及拋光片第三部分還可以為一體成型。
本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。所述防護(hù)層400與所述拋光片300間也通過(guò)粘結(jié)劑相粘接。在其他實(shí)施例中,所述拋光片朝向所述防護(hù)層的表面上具有勾刺結(jié)構(gòu)(圖中未示出),所述防護(hù)層與所述拋光片間通過(guò)所述勾刺結(jié)構(gòu)相固定。所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層,所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面;所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。
影響磁控靶濺射電壓的主要因素有:靶面磁場(chǎng)、靶材材質(zhì)、氣體壓強(qiáng)、陰-陽(yáng)極間距等。本文詳細(xì)分析這些因素距對(duì)靶濺射電壓的影響。一、靶面磁場(chǎng)對(duì)靶濺射電壓的影響1.磁控靶的陰極工作電壓,隨著靶面磁場(chǎng)的增加而降低,也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而降低。濺射電流也隨著靶面的濺射刻蝕槽加深而加大。這是因?yàn)榘械臑R射刻蝕槽面會(huì)越來(lái)越接近靶材后面的磁鋼的強(qiáng)磁場(chǎng)。因此,靶材的厚度是有限制的。較厚的非磁性靶材能夠在較強(qiáng)的磁場(chǎng)中使用。2.鐵磁性靶材會(huì)對(duì)磁控靶的濺射造成影響,由于大部分磁力線從鐵磁性材料內(nèi)部通過(guò),使靶材表面磁場(chǎng)減少,需要很高電壓才能讓靶面點(diǎn)火起輝。除非磁場(chǎng)非常的強(qiáng),否則磁性材靶材必須比非磁性材料要薄,才能起輝和正常運(yùn)行(永磁結(jié)構(gòu)的Ni靶的典型值<0.16cm,磁控靶非特殊設(shè)計(jì)最大值一般不宜超過(guò)3mm,F(xiàn)e,co靶的最大值不超過(guò)2mm;電磁結(jié)構(gòu)的靶可以濺射厚一些的靶材,甚至可達(dá)6mm厚)才能起輝和正常運(yùn)行。正常工作時(shí),磁控靶靶材表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.025T~0.05T左右;靶材濺射刻蝕即將穿孔時(shí),其靶材表面的磁場(chǎng)強(qiáng)度大為提高,接近或大于0.1T左右。
晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。常州氧化鋅鎵靶材費(fèi)用
制備過(guò)程嚴(yán)格控制雜質(zhì)元素的引入。常州氧化鋅鎵靶材費(fèi)用
任何本領(lǐng)域技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域,具體涉及一種長(zhǎng)壽命靶材組件。背景技術(shù):目前,現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限,為提高靶材的使用壽命,節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性?,F(xiàn)有的技術(shù)都是通過(guò)磁場(chǎng)強(qiáng)度,把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來(lái)延長(zhǎng)壽命,公開(kāi)了一種靶材,包括靶材本體及基體,所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體,所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過(guò)等離子弧噴涂機(jī)噴涂熔焊在所述基體上。所述基體與所述靶材本體的結(jié)合面為呈內(nèi)凹的圓弧面。所述基體為矩形體或圓形。所述靶材的制造方法步驟如下:(1)準(zhǔn)備合金粉體;(2)準(zhǔn)備基體;(3)等離子轉(zhuǎn)移弧噴涂成型;(4)、清理被噴涂層表面,按照步驟(3)的要求再次噴涂處理,直至獲得要求厚度的靶材。本發(fā)明有益效果在于:一是生產(chǎn)的靶材無(wú)氣孔殘留;二是生產(chǎn)設(shè)備簡(jiǎn)單、投資小;三是靶材可以修復(fù)再利用。
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江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶(hù)要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶(hù)的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,客戶(hù)的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。