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測(cè)量膜厚儀供貨

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-02-01

光譜儀主要包括六部分,分別是:光纖入口、準(zhǔn)直鏡、光柵、聚焦鏡、區(qū)域檢測(cè)器、帶OFLV濾波器的探測(cè)器。光由光纖進(jìn)入光譜儀中,通過濾波器和準(zhǔn)直器后投射到光柵上,由光柵將白光色散成光譜,經(jīng)過聚焦鏡將其投射到探測(cè)器上后,由探測(cè)器將光信號(hào)傳入計(jì)算機(jī)。光纖接頭將輸入光纖固定在光譜儀上,使得來自輸入光纖的光能夠進(jìn)入光學(xué)平臺(tái);濾波器將光輻射限制在預(yù)定波長(zhǎng)區(qū)域;準(zhǔn)直鏡將進(jìn)入光學(xué)平臺(tái)的光聚焦到光譜儀的光柵上,保證光路和光柵之間的準(zhǔn)直性;光柵衍射來自準(zhǔn)直鏡的光并將衍射光導(dǎo)向聚焦鏡;聚焦鏡接收從光柵反射的光并將光聚焦到探測(cè)器上;探測(cè)器將檢測(cè)到的光信號(hào)轉(zhuǎn)換為nm波長(zhǎng)系統(tǒng);區(qū)域檢測(cè)器提供90%的量子效率和垂直列中的像素,以從光譜儀的狹縫圖像的整個(gè)高度獲取光,顯著改善了信噪比。當(dāng)光路長(zhǎng)度增加,儀器的分辨率越高,也越容易受到靜態(tài)振動(dòng)等干擾因素的影響,需采取一些減小噪聲的措施。測(cè)量膜厚儀供貨

干涉法和分光光度法都是基于相干光形成等厚干涉條紋的原理來確定薄膜厚度和折射率。不同于薄膜自發(fā)產(chǎn)生的等傾干涉,干涉法是通過設(shè)置參考光路來形成參考平面和測(cè)量平面間干涉條紋,因此其相位信息包含兩個(gè)部分,分別是由掃描高度引起的附加相位和由薄膜內(nèi)部多次反射引起的膜厚相位。干涉法的測(cè)量光路使用面陣CCD接收參考平面和測(cè)量平面間相干波面的干涉光強(qiáng)分布。與以上三種點(diǎn)測(cè)量方式不同,干涉法能夠一次性生成薄膜待測(cè)區(qū)域的表面形貌信息,但因存在大量軸向掃描和數(shù)據(jù)解算,完成單次測(cè)量的時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng)。防水膜厚儀制造公司操作需要一定的專業(yè)技能和經(jīng)驗(yàn),需要進(jìn)行充分的培訓(xùn)和實(shí)踐。

白光光譜法具有測(cè)量范圍大、連續(xù)測(cè)量時(shí)波動(dòng)范圍小的優(yōu)點(diǎn),可以解決干涉級(jí)次模糊識(shí)別的問題。但在實(shí)際測(cè)量中,由于誤差、儀器誤差和擬合誤差等因素的影響,干涉級(jí)次的測(cè)量精度仍然受到限制,會(huì)出現(xiàn)干擾級(jí)次的誤判和干擾級(jí)次的跳變現(xiàn)象。這可能導(dǎo)致計(jì)算得出的干擾級(jí)次m值與實(shí)際譜峰干涉級(jí)次m'(整數(shù))之間存在誤差。因此,本文設(shè)計(jì)了以下校正流程圖,基于干涉級(jí)次的連續(xù)特性得到了靶丸殼層光學(xué)厚度的準(zhǔn)確值。同時(shí),給出了白光干涉光譜測(cè)量曲線。

在白光干涉中,當(dāng)光程差為零時(shí),會(huì)出現(xiàn)零級(jí)干涉條紋。隨著光程差的增加,光源譜寬范圍內(nèi)的每條譜線形成的干涉條紋之間會(huì)發(fā)生偏移,疊加后整體效果導(dǎo)致條紋對(duì)比度降低。白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)精度高,可以進(jìn)行測(cè)量。采用白光干涉原理的測(cè)量系統(tǒng)具有抗干擾能力強(qiáng)、動(dòng)態(tài)范圍大、快速檢測(cè)和結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊等優(yōu)點(diǎn)。雖然普通的激光干涉與白光干涉有所區(qū)別,但它們也具有許多共同之處。我們可以將白光看作一系列理想的單色光在時(shí)域上的相干疊加,而在頻域上觀察到的就是不同波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的干涉光強(qiáng)變化曲線。通過測(cè)量反射光的干涉來計(jì)算膜層厚度,利用膜層與底材的反射率和相位差來實(shí)現(xiàn)測(cè)量。

薄膜在現(xiàn)代光學(xué)、電子、醫(yī)療、能源和建材等技術(shù)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,可以提高器件性能。但是由于薄膜制備工藝和生產(chǎn)環(huán)境等因素的影響,成品薄膜存在厚度分布不均和表面粗糙度大等問題,導(dǎo)致其光學(xué)和物理性能無法達(dá)到設(shè)計(jì)要求,嚴(yán)重影響其性能和應(yīng)用。因此,需要開發(fā)出精度高、體積小、穩(wěn)定性好的測(cè)量系統(tǒng)以滿足微米級(jí)工業(yè)薄膜的在線檢測(cè)需求。當(dāng)前的光學(xué)薄膜測(cè)厚方法無法同時(shí)兼顧高精度、輕小體積和合理的成本,而具有納米級(jí)測(cè)量分辨率的商用薄膜測(cè)厚儀器價(jià)格昂貴、體積大,無法滿足工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的在線測(cè)量需求。因此,提出了一種基于反射光譜原理的高精度工業(yè)薄膜厚度測(cè)量解決方案,研發(fā)了小型化、低成本的薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng),并提出了一種無需標(biāo)定樣品的高效穩(wěn)定的膜厚計(jì)算算法。該系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)微米級(jí)工業(yè)薄膜的厚度測(cè)量。增加光路長(zhǎng)度可以提高儀器分辨率,但同時(shí)也會(huì)更容易受到振動(dòng)等干擾,需要采取降噪措施。膜厚儀測(cè)量?jī)x

精度高的白光干涉膜厚儀通常采用Michelson干涉儀的結(jié)構(gòu)。測(cè)量膜厚儀供貨

在初始相位為零的情況下,當(dāng)被測(cè)光與參考光之間的光程差為零時(shí),光強(qiáng)度將達(dá)到最大值。為探測(cè)兩個(gè)光束之間的零光程差位置,需要精密Z軸向運(yùn)動(dòng)臺(tái)帶動(dòng)干涉鏡頭作垂直掃描運(yùn)動(dòng)或移動(dòng)載物臺(tái),垂直掃描過程中,用探測(cè)器記錄下干涉光強(qiáng),可得白光干涉信號(hào)強(qiáng)度與Z向掃描位置(兩光束光程差)之間的變化曲線。干涉圖像序列中某波長(zhǎng)處的白光信號(hào)強(qiáng)度隨光程差變化示意圖,曲線中光強(qiáng)極大值位置即為零光程差位置,通過零過程差位置的精密定位,即可實(shí)現(xiàn)樣品表面相對(duì)位移的精密測(cè)量;通過確定最大值對(duì)應(yīng)的Z向位置可獲得被測(cè)樣品表面的三維高度。測(cè)量膜厚儀供貨