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武漢哪里的PCB設計布局

來源: 發(fā)布時間:2023-03-08

FPGA管換注意事項,首先和客戶確認是否可以交換以及交換原則,其次,在FPGA交換管腳期間,不允許有原理圖的更改,如果原理圖要更改,在導入更改之后再調整管腳,管換的一般原則如下,在調整時應嚴格意遵守:(1)基本原則:管腳不能調整,I/O管腳、Input管腳或者Output管腳可調整。(2)FPGA的同一BANK的供電電壓相同,如果兩個Bank電壓不同,則I/O管腳不能交換;如果電壓相同,應優(yōu)先考慮在同一BANK內交換,其次在BANK間交換。(3)對于全局時鐘管腳,只能在全局時鐘管腳間進行調整,并與客戶進行確認。(4)差分信號對要關聯(lián)起來成對調整,成對調整,不能單根調整,即N和N調整,P和P調整。(5)在管腳調整以后,必須進行檢查,查看交換的內容是否滿足設計要求。(6)與調整管腳之前的PCB文件對比,生產交換管腳對比的表格給客戶確認和修改原理圖文件。PCB布局布線設計規(guī)則。武漢哪里的PCB設計布局

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工藝、層疊和阻抗信息確認(1)與客戶確認阻抗類型,常見阻抗類型如下:常規(guī)阻抗:單端50歐姆,差分100歐姆。特殊阻抗:射頻線單端50歐姆、75歐姆隔層參考,USB接口差分90歐姆,RS485串口差分120歐姆。(2)傳遞《PCBLayout業(yè)務資料及要求》中的工藝要求、層疊排布信息和阻抗要求至工藝工程師,由工藝工程師生成《PCB加工工藝要求說明書》,基于以下幾點進行說明:信號層夾在電源層和地層之間時,信號層靠近地層。差分間距≤2倍線寬。相鄰信號層間距拉大。阻抗線所在的層號。(3)檢查《PCB加工工藝要求說明書》信息是否有遺漏,錯誤,核對無誤后再與客戶進行確認。隨州常規(guī)PCB設計疊層方案子流程以及規(guī)則設置。

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模塊劃分(1)布局格點設置為50Mil。(2)以主芯片為中心的劃分準則,把該芯片相關阻容等分立器件放在同一模塊中。(3)原理圖中單獨出現(xiàn)的分立器件,要放到對應芯片的模塊中,無法確認的,需要與客戶溝通,然后再放到對應的模塊中。(4)接口電路如有結構要求按結構要求,無結構要求則一般放置板邊。主芯片放置并扇出(1)設置默認線寬、間距和過孔:線寬:表層設置為5Mil;間距:通用線到線5Mil、線到孔(外焊盤)5Mil、線到焊盤5Mil、線到銅5Mil、孔到焊盤5Mil、孔到銅5Mil;過孔:選擇VIA8_F、VIA10_F、VIA10等;(2)格點設置為25Mil,將芯片按照中心抓取放在格點上。(3)BGA封裝的主芯片可以通過軟件自動扇孔完成。(4)主芯片需調整芯片的位置,使扇出過孔在格點上,且過孔靠近管腳,孔間距50Mil,電源/地孔使用靠近芯片的一排孔,然后用表層線直接連接起來。

等長線處理等長線處理的步驟:檢查規(guī)則設置→確定組內長線段→等長線處理→鎖定等長線。(1)檢查組內等長規(guī)則設置并確定組內基準線并鎖定。(2)單端蛇形線同網絡走線間距S≥3W,差分對蛇形線同網絡走線間距≥20Mil。(3)差分線對內等長優(yōu)先在不匹配端做補償,其次在中間小凸起處理,且凸起高度<1倍差分對內間距,長度>3倍差分線寬,(4)差分線對內≤3.125G等長誤差≤5mil,>3.125G等長誤差≤2mil。(5)DDR同組等長:DATA≤800M按±25mil,DATA>800M按±5mil;ADDR按±100mil;DDR2的DQS和CLK按±500mil;QDR按±25mil;客戶有要求或者芯片有特殊要求時按特殊要求。(6)優(yōu)先在BGA區(qū)域之外做等長線處理。(7)有源端匹配的走線必須在靠近接收端一側B段做等長處理,(8)有末端匹配的走線在A段做等長線處理,禁止在分支B段做等長處理(9) T型拓撲走線,優(yōu)先在主干走線A段做等長處理,同網絡分支走線B或C段長度<主干線A段長度,且分支走線長度B、C段誤差≤10Mil,(10) Fly-By型拓撲走線,優(yōu)先在主干走線A段做等長處理,分支線B、C、D、E段長度<500MilPCB設計中關鍵信號布線方法。

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存儲模塊介紹:存儲器分類在我們的設計用到的存儲器有SRAM、DRAM、EEPROM、Flash等,其中DDR系列用的是多的,其DDR-DDR4的詳細參數(shù)如下:DDR采用TSSOP封裝技術,而DDR2和DDR3內存均采用FBGA封裝技術。TSSOP封裝的外形尺寸較大,呈長方形,其優(yōu)點是成本低、工藝要求不高,缺點是傳導效果差,容易受干擾,散熱不理想,而FBGA內存顆粒精致小巧,體積大約只有DDR內存顆粒的三分之一,有效地縮短信號傳輸距離,在抗干擾、散熱等方面更有優(yōu)勢,而DDR4采用3DS(3-DimensionalStack)三維堆疊技術來增大單顆芯片容量,封裝外形則與DDR2、DDR3差別不大。制造工藝不斷提高,從DDR到DDR2再到DDR3內存,其制造工藝都在不斷改善,更高工藝水平會使內存電氣性能更好,成本更低;DDR內存顆粒大范圍采用0.13微米制造工藝,而DDR2采用了0.09微米制造工藝,DDR3則采用了全新65nm制造工藝,而DDR4使用20nm以下的工藝來制造,從DDR~DDR4的具體參數(shù)如下表所示。PCB設計布局中光口的要求有哪些?鄂州PCB設計價格大全

PCB設計中存儲器有哪些分類?武漢哪里的PCB設計布局

整體布局整體布局子流程:接口模塊擺放→中心芯片模塊擺放→電源模塊擺放→其它器件擺放◆接口模塊擺放接口模塊主要包括:常見接口模塊、電源接口模塊、射頻接口模塊、板間連接器模塊等。(1)常見接口模塊:常用外設接口有:USB、HDMI、RJ45、VGA、RS485、RS232等。按照信號流向將各接口模塊電路靠近其所對應的接口擺放,采用“先防護后濾波”的思路擺放接口保護器件,常用接口模塊參考5典型電路設計指導。(2)電源接口模塊:根據信號流向依次擺放保險絲、穩(wěn)壓器件和濾波器件,按照附表4-8,留足夠的空間以滿足載流要求。高低電壓區(qū)域要留有足夠間距,參考附表4-8。(3)射頻接口模塊:靠近射頻接口擺放,留出安裝屏蔽罩的間距一般為2-3mm,器件離屏蔽罩間距至少0.5mm。具體擺放參考5典型電路設計指導。(5)連接器模塊:驅動芯片靠近連接器放置。武漢哪里的PCB設計布局

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