主要PVD方法的特點：半導體、顯示面板使用濺射鍍膜法（1）金屬提純：靶材純度要求高。金屬提純的主要方式有化學提純與物理提純，化學提純主要分為濕法提純與火法提純，通過電解、熱分解等方式析出主金屬。物理提純則是通過蒸發(fā)結(jié)晶、電遷移、真空熔融法等步驟提純得到主金屬。（2）制造加工：塑性變形、熱處理、控制晶粒取向：需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進行工藝設(shè)計，然后進行反復的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標，再經(jīng)過焊接、機械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。靶材制造涉及的工序精細繁多，技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少。靶材制造的方法主要有熔煉法與粉末冶金法。熔煉法主要有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉、真空電子束熔煉等方法，通過機械加工將熔煉后的鑄錠制備成靶材，該方法得到的靶材雜質(zhì)含量低、密度高、可大型化、內(nèi)部無氣孔，但若兩種合金熔點、密度差異較大則無法形成均勻合金靶材。粉末冶金法主要有熱等靜壓法、熱壓法、冷壓-燒結(jié)法三種方法，通過將各種原料粉混合再燒結(jié)成形的方式得到靶材，該方法優(yōu)點是靶材成分較為均勻、機械性能好，缺點為含氧量較高。ITO靶材被廣泛應(yīng)用于各大行業(yè)之中。四川氧化鋅陶瓷靶材

主要PVD方法的特點：（3）濺射鍍膜：在濺射鍍膜過程中，濺射靶材需要安裝在機臺中完成濺射反應(yīng)，濺射機臺專業(yè)性強、精密度高，市場長期被美國、日本跨國集團壟斷。（4）終端應(yīng)用：1）半導體芯片：單元器件中的介質(zhì)層、導體層與保護層需要鉭、鎢、銅、鋁、鈦等金屬。2）平板顯示器件：為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術(shù)鍍膜需要鉬、鋁、ITO等材料；3）薄膜太陽能電池——第三代，濺射鍍膜工藝是被優(yōu)先選用的制備方法，靶材是不可或缺的原材料；4）計算機儲存器：磁信息存儲、磁光信息存儲和全光信息存儲等。在光盤、機械硬盤等記錄媒體，需要用鉻基、鈷基合金等金屬材料。廣西氧化物陶瓷靶材市場價AZO薄膜是一種透明導電膜，與ITO薄膜相似的光學和電學特性，制備工藝簡單、價格低、無毒和穩(wěn)定性好等特點。

靶材作為半導體、顯示面板、光伏電池等的關(guān)鍵原料，預計2025年全球市場規(guī)模將達333億美元，從下游來看，能夠認為半導體靶材市場、顯示面板靶材市場以及光伏面板靶材市場未來成長空間較大，國產(chǎn)替代需求強烈。而HJT電池靶材有望快速實現(xiàn)國產(chǎn)替代國產(chǎn)靶材廠商有望在HJT電池時代實現(xiàn)靶材上的彎道超車。對于異質(zhì)結(jié)電池這個全新領(lǐng)域，靶材還未大規(guī)模應(yīng)用，考慮到電池廠商與海外企業(yè)合作研發(fā)效率較低，同時隆華科技等國內(nèi)的靶材廠商品質(zhì)已經(jīng)在顯示面板領(lǐng)域得到充分展現(xiàn)。因此從HJT電池靶材應(yīng)用源頭開始，HJT電池靶材國產(chǎn)化就已先行一步。

液晶面板，作為現(xiàn)代顯示技術(shù)的重要組成部分，廣泛應(yīng)用于電視、電腦顯示器、手機屏幕等領(lǐng)域。而靶材，則是液晶面板制造過程中不可或缺的關(guān)鍵材料。一、靶材在液晶面板中的作用靶材主要用于制備液晶面板中的薄膜，這些薄膜對液晶面板的顯示效果和使用壽命有著至關(guān)重要的影響。高質(zhì)量的靶材能夠確保薄膜的均勻性和穩(wěn)定性，從而提高液晶面板的對比度和色彩飽和度，為用戶提供更加逼真的視覺體驗。二、常見的液晶面板靶材種類在液晶面板制造中，常見的靶材種類包括金屬靶材、合金靶材和氧化物靶材等。這些靶材具有不同的物理和化學性質(zhì)，因此需要根據(jù)具體的生產(chǎn)工藝和產(chǎn)品需求進行選擇。例如，某些高等液晶面板可能需要使用高純度的金屬靶材以確保薄膜的導電性和透光性。靶材間隙對大面積鍍膜的影響除了致密化，如果靶材在生產(chǎn)過程中出現(xiàn)異常，大顆粒會因受熱而脫落或縮孔。

氧化鈮由于其獨特的物理和化學性質(zhì)而被廣地應(yīng)用于現(xiàn)代技術(shù)的許多領(lǐng)域。例如，利用其較強的紫外線吸收能力，可將其用作紫外敏感材料的保護膜；利用其薄膜折射率較高的特性，可與SiO2等配合可制備具有不同折射率的薄膜。由于這些明顯的優(yōu)點，氧化鈮靶材被廣地應(yīng)用于太陽能電池、液晶顯示器、離子顯示器、收集觸屏、光學玻璃、氣體傳感器等眾多領(lǐng)域。隨著科技的不斷發(fā)展以及應(yīng)用領(lǐng)域的不斷延伸，氧化鈮靶材的需求量也不斷增大。目前，市場上使用的多的是氧化鈮平面靶材，大都采用真空熱壓法來制備。但是采用該方法，氧化鈮靶坯厚度較大，加工過程中需要通過機加工剖片工藝加工達到所需的厚度要求。鈣鈦礦太陽電池在短短數(shù)十年間不斷刷新轉(zhuǎn)換效率。陜西陶瓷靶材售價

ITO主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發(fā)光二極管。四川氧化鋅陶瓷靶材

陶瓷靶材和金屬靶材各自優(yōu)缺點：1.導電性:金屬靶材都具有導電性,可以適應(yīng)各種不同電源類型機臺,而陶瓷靶材因為大部分不具備導電性,只能使用射頻電源.2.導熱性:金屬靶材導熱性能好,濺射時可以大功率運行.陶瓷靶材導熱性較差,濺射時功率不宜過高.復合性:3.金屬靶材內(nèi)很難摻入其他陶瓷類物質(zhì),濺射后膜層功能比較單一.陶瓷靶材可以根據(jù)需要摻入不同金屬及陶瓷類物質(zhì),濺射后可以形成多種物質(zhì)組成的復合膜層,這點陶瓷靶材比金屬靶材占優(yōu).四川氧化鋅陶瓷靶材