光伏異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)設(shè)備，異質(zhì)結(jié)TCO的作用：在形成a-Si:H/c-Si異質(zhì)結(jié)后，電池被用一個~80納米的透明導電氧化物接觸。~80納米薄的透明導電氧化物（TCO）層和前面的金屬網(wǎng)格。透明導電氧化物通常是摻有Sn的InO（ITO）或摻有Al的ZnO。通常，TCO也被用來在電池的背面形成一個介電鏡。因此，為了理解和優(yōu)化整個a-Si:H/c-Si太陽能電池，還必須考慮TCO對電池光電性能的影響。由于其高摻雜度，TCO的電子行為就像一個電荷載流子遷移率相當?shù)偷慕饘?，而TCO/a-Si:H結(jié)的電子行為通常被假定為類似于金屬-半導體結(jié)。  TCO的功函數(shù)對TCO/a-Si:H/c-Si結(jié)構(gòu)中的帶狀排列以及電荷載流子在異質(zhì)結(jié)上的傳輸起著重要作用。此外，TCO在大約10納米薄的a-Si:H上的沉積通常采用濺射工藝；在此，應該考慮到在該濺射工藝中損壞脆弱的a-Si:H/c-Si界面的可能性，并且在工藝優(yōu)化中必須考慮到。光伏異質(zhì)結(jié)是一種高效太陽能電池，具有雙面發(fā)電和低光衰減等優(yōu)點。西安新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家

異質(zhì)結(jié)電池的清洗制絨：在沉積a-Si:H之前的晶圓清洗有兩個作用。一個是去除晶圓表面的顆粒和金屬污染。另一個是用氫氣使表面上的懸空鍵部分鈍化。清潔是降低a-Si:H/c-Si界面狀態(tài)密度的關(guān)鍵一步。不同清潔程序的效果可以通過測量清潔過的晶圓的載流子壽命來研究，這些晶圓已經(jīng)用相同的a-Si:H薄膜進行了鈍化。在高質(zhì)量硅片的塊狀區(qū)域的載流子重組可以被認為是可以忽略的，因此對載流子壽命的測量表明了表面重組，因此也表明了清潔過程的質(zhì)量。下圖顯示了在代爾夫特理工大學進行的三種不同清洗方法的比較。在晶圓兩面沉積本征a-Si:H層之前，以三種不同的方式處理（100）取向的FZ c-Si晶圓。晶圓使用標準的RCA清洗，第二個晶圓使用涉及濃硝酸的標準DIMES清洗程序進行清洗。所有三個晶圓都被浸泡在HF中，以去除原生氧化層，這是對第三個晶圓進行的處理。在預處理之后，在晶圓的兩面都沉積了120納米厚的本征a-Si:H層，每次運行都使用相同的沉積條件。使用Sinton壽命測試器測量載流子壽命，以評估鈍化質(zhì)量。使用標準RCA工藝清潔的晶圓載流子壽命高，因此鈍化效果也好。只接受HF浸漬處理的晶圓觀察到低的載流子壽命。山東雙面微晶異質(zhì)結(jié)設(shè)備哪家好光伏異質(zhì)結(jié)可以應用在各種表面上，如玻璃、塑料等，具有廣泛的應用前景。

HJT電池所有制程的加工溫度均低于250，避免了生產(chǎn)效率低而成本高的高溫擴散制結(jié)的過程，而且低溫工藝使得a-Si薄膜的光學帶隙、沉積速率、吸收系數(shù)以及氫含量得到較精確的控制，也可避免因高溫導致的熱應力等不良影響。HJT電池轉(zhuǎn)換效率高，拓展?jié)摿Υ?，工藝簡單并且降本路線清晰，契合了光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展的規(guī)律，是有潛力的下一代電池技術(shù)。HJT電池為對稱的雙面結(jié)構(gòu)，主要由 N 型單晶硅片襯底、正面和背面的本征/摻雜非晶硅薄膜層、雙面的透明導電氧化薄膜(TCO) 層和金屬電極構(gòu)成。其中，本征非晶硅層起到表面鈍化作用，P型摻雜非晶硅層為發(fā)射層，N 型摻雜非晶硅層起到背場作用。

高效異質(zhì)結(jié)太陽能電池使用晶體硅片進行載流子傳輸和吸收，并使用非晶/或微晶薄硅層進行鈍化和結(jié)的形成。頂部電極由透明導電氧化物（TCO）層和金屬網(wǎng)格組成。異質(zhì)結(jié)硅太陽能電池已經(jīng)吸引了很多人的注意，因為它們可以達到很高的轉(zhuǎn)換效率，可達26.3%，相關(guān)團隊對HJT極限效率進行更新為28.5%，同時使用低溫度加工，通常整個過程低于200℃。低加工溫度允許處理厚度小于100微米的硅晶圓，同時保持高產(chǎn)量。異質(zhì)結(jié)電池具備光電轉(zhuǎn)化效率提升潛力高、更大的降成本空間、更高的雙面率、可有效降低熱損失、更低的光致衰減、制備工藝簡單等特點，為光伏領(lǐng)域帶來了新的希望。光伏異質(zhì)結(jié)電池的使用壽命長，具有長期穩(wěn)定的能源供應能力。

高效異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)流程中使用的設(shè)備，PECVD 1.等離子化學氣相沉積（PlasmaEnhancedCVD，PECVD）是指利用輝光放電的物理作用來化學氣相沉積反應的CVD技術(shù)；2.異質(zhì)結(jié)非晶硅薄膜沉積是采用RPECVD技術(shù)，射頻等離子體增強化學氣相沉積（RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD），是PECVD的另外一種技術(shù)。它是利用射頻能量使反應氣體等離子化。優(yōu)點：低溫成膜（300-350℃），對基片影響小，避免了高溫帶來的膜層晶粒粗大；l低壓下形成薄膜厚度及成分較均勻、膜層致密、內(nèi)應力小，不易產(chǎn)生裂紋；l擴大CVD應用范圍，特別是在不同基片上制備金屬薄膜、非晶態(tài)無機薄膜等，薄膜的附著力大于普通CVD。異質(zhì)結(jié)電池以其出色的發(fā)電性能、技術(shù)延展性和低碳制造過程，脫穎而出成為主流技術(shù)之一。成都HJT異質(zhì)結(jié)PVD

異質(zhì)結(jié)電池能夠提供更高的能量轉(zhuǎn)換效率，有助于降低光伏發(fā)電的成本，提高電力系統(tǒng)的經(jīng)濟性。西安新型異質(zhì)結(jié)設(shè)備廠家

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