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江蘇Nanoscribe灰度光刻技術3D打印

來源: 發(fā)布時間:2024-03-31

這款灰度光刻設備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過先進的光刻技術,它能夠在微米級別上進行精確的圖案制作,確保產品的質量和精度達到比較高水平。同時,設備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升,減少了生產過程中的誤差和損耗,提高了生產效率。這款設備具備高效的生產能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術,**縮短了生產周期。相比傳統的光刻設備,它的生產速度提高了30%,提升了我們的生產效率。同時,設備還具備多通道同時加工的能力,可以同時處理多個產品,進一步提高了生產效率和產能?;叶裙饪碳夹g可以應用于微電子、光電子、生物醫(yī)學等多個領域。江蘇Nanoscribe灰度光刻技術3D打印

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該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。Quantum X shape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統Quantum X產品系列的第二臺設備,可實現在25 cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。江蘇Nanoscribe灰度光刻技術3D打印,灰度光刻可以***縮短制造時間,提高生產效率。

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如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變,以實現對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統,雙光子聚合技術是實現微納尺度3D打印特別有效的技術,其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級,并可達到光學質量表面的要求。Nanoscribe Photonic Professional GT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。Photonic Professional GT2 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常普遍的材料-基板選擇。

Nanoscribe的無掩模光刻系統在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產中具有廣闊的應用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結構上,可以直接生產用于工業(yè)批量生產的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘什么是灰度光刻技術。

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   Nanoscribe成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,擁有卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經過十幾年的不斷研究和成長,Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者,推動著諸如力學超材料,微納機器人,再生醫(yī)學工程,微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統能夠數字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統,在充分滿足設計自由的同時,一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件,達到所見即所得。?;叶裙饪碳夹g具有高精度、高效率的特點。德國高精度灰度光刻3D打印

制備各種復雜的微納米結構,滿足不同應用領域的需求。江蘇Nanoscribe灰度光刻技術3D打印

Nanoscribe稱QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統,目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。該系統配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉換,物鏡和樣品夾持器識別會自動運行。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。江蘇Nanoscribe灰度光刻技術3D打印