德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)，該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用：多級衍射光學(xué)元件雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。灰度光刻技術(shù)可以相當(dāng)于二元套刻的多次曝光，提高了光刻效率。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作重慶雙光子灰度光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL ?)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。

該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。Quantum X shape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新Quantum X shape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)Quantum X產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備，可實現(xiàn)在25 cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。Quantum X shape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。

   QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)灰度光刻技術(shù)作為一種新型的光刻技術(shù)，具有突破傳統(tǒng)光刻技術(shù)的優(yōu)勢。

Nanoscribe的Quantum X打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù) (2GL ®)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)?。作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，Quantum X可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用?；叶裙饪踢x擇納糯三維科技（上海）有限公司。浙江超高速灰度光刻3D打印

灰度光刻技術(shù)可實現(xiàn)掩膜版的自適應(yīng)優(yōu)化。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工

Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期，包括仿生表面，微光學(xué)元件，機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。湖南高分辨率灰度光刻3D微納加工