QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實現(xiàn)高精度增材制造，以達到比較高水平的生產(chǎn)力和打印質量。作為一款真正意義上的全能機型，該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義 增材制造技術已經(jīng)應用于多個領域，譬如航天、新材料、先進制造。MEMS增材制造無掩膜光刻

德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的排名在前的開發(fā)商，也是 BICO集團（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D 打印機，用于制造微納米級的精細結構。據(jù)該公司稱，新的Quantum X 形狀加入了該公司屢獲殊榮的Quantum X產(chǎn)品線，其晶圓處理能力使“3D 微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng) (MEMS) 應用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和 Nanoscribe 專有的雙光子灰度光刻 (2GL) 技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何 2.5D 或 3D 形狀的結構，在面積達 25 cm2 的區(qū)域上都具有亞微米級精度、浙江工業(yè)級增材制造三維微納米加工系統(tǒng)Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司邀您了解增材制造工藝的分類。

Nanoscribe是非常獨特的納米和微米級3D打印技術。該公司成立于2007年，目前已經(jīng)在激光光刻行業(yè)處于領頭的地位。Nanoscribe公司的Photonic Professional GT光刻系統(tǒng)主要通過在微尺度上運用激光來固化感光材料。3D打印材料主要包括液態(tài)的光敏材料和固態(tài)的旋涂光刻材料。憑著其獨特的微尺度3D 打印技術與人性化的軟件，Nanoscribe毫無疑問是增材制造領域里的一股顛覆性力量。ORNL的科學家們使用Nanoscribe的增材制造系統(tǒng)來構建世界上特別小的指尖陀螺， 該迷你玩具的寬度只為100微米（與人類頭發(fā)的寬度相當） 

   傳統(tǒng)上，調(diào)節(jié)板和冷卻臺是銅焊的。將多個零件釬焊在一起以創(chuàng)建單個組件。增材制造在此提供的優(yōu)勢在于，可以設計結構一體化的零件，從而減少零件的數(shù)量，并替代釬焊。單一的結構對設計迭代也帶來了直觀的好處，我們可以想象，要通過傳統(tǒng)的供應鏈，訂購多個零件可能需要一兩個月才能得到，因為必須通過訂購系統(tǒng)，有人必須加工，有人必須組裝，有人可能需要測試進行質量檢查。然后才進入到供貨物流系統(tǒng)中，而將這些不同的零件組裝在一起后，才可以對其進行后續(xù)的一個測試。這使得每一次設計迭代都變得緩慢而昂貴。但是，通過3D打印-增材制造技術，就可以省去所有這些步驟。增材制造（Additive Manufacturing，AM）技術是采用材料逐漸累加的方法制造實體零件的技術。

雖然半導體行業(yè)一直在使用3D打印技術，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構成了光刻或制造機器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關于他們應用3D打印技術的內(nèi)幕，因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少，對外界揭示其優(yōu)化設備性能的技術，這種主觀動機并不強。增材制造改善半導體工藝是多方面的，從輕量化，到隨形冷卻,再到結構一體化實現(xiàn)，根據(jù)3D科學谷的市場觀察，增材制造使得半導體設備中的零件性能邁向了一個新的進化時代！在許多情況下，3D打印-增材制造可能使這些系統(tǒng)能夠更接近理論上預期的工作環(huán)境，而不是在機器操作上做出妥協(xié)。 Nanoscribe在中國的子公司納糯三維告訴您增材制造技術在工業(yè)制造領域中的意義是什么。天津進口增材制造無掩膜激光直寫

如需了解增材制造的信息，請咨詢咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。MEMS增材制造無掩膜光刻

隨著各行各業(yè)的發(fā)展及科技的進步，人們可以用3D打印創(chuàng)建在人體內(nèi)傳導藥物的載體，可以用3D打印來建造房子。人們還可以用3D打印創(chuàng)作出精美的珠寶首飾和設計，甚至可以用這項技術做出巨大的藝術雕塑。Nanoscribe 公司專注于微觀3D打印技術，通過該用戶可以得到尺寸微小的高質量產(chǎn)品。全新推出的Quantum X平臺新型超高速無掩模光刻技術主要是基于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的***性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了**復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。   MEMS增材制造無掩膜光刻