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楊浦區(qū)工業(yè)微納3D打印設(shè)備

來源: 發(fā)布時間:2024-12-22

Nanoscribe公司成立于2007年,總部位于德國卡爾斯魯厄,秉持著卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的技術(shù)背景的德國卡爾蔡司公司的支持,經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長,已然成為微納米生產(chǎn)的帶領(lǐng)者,一直致力于推動諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。如今,Nanoscribe客戶遍布全球30個國家,超過1500名用戶正在使用Nanoscribe3D打印系統(tǒng)。這些大學(xué)包含哈佛大學(xué)、加州理工學(xué)院、牛津大學(xué)、倫敦帝國理工學(xué)院和蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。為了拓展并加強中國及亞太地區(qū)的銷售推廣和售后服務(wù)范圍,Nanoscribe于2017年底在上海成立了獨資子公司-納糯三維科技(上海)有限公司。自Nanoscribe進(jìn)軍中國市場以來,已有20多家出名大學(xué)和研究所成為了Nanoscribe用戶,其中包括多所C9前列高校聯(lián)盟成員,例如:北京大學(xué),復(fù)旦大學(xué),南京大學(xué)等等。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術(shù)信息。楊浦區(qū)工業(yè)微納3D打印設(shè)備

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多年來,Nanoscribe在微觀和納米領(lǐng)域一直非常出色,并且參與了很多3D打印的項目,包括等離子體技術(shù)、微光學(xué)等工業(yè)微加工相關(guān)項目。如今,Nanoscribe正在與美因茲大學(xué)和帕德博恩大學(xué)在內(nèi)的其他行業(yè)帶領(lǐng)機(jī)構(gòu)一起開發(fā)頻率和功率穩(wěn)定的小型二極管激光器。該團(tuán)隊的項目為期三年,名為Miliquant,由德國聯(lián)邦教育和研究部(簡稱BMBF)提供資助。他們的研發(fā)成果——3D打印光源組件,將用于量子技術(shù)創(chuàng)新,并可以應(yīng)用在醫(yī)療診斷、自動駕駛和細(xì)胞紅外顯微鏡成像之中。研發(fā)團(tuán)隊將開展多項實驗,開發(fā)工業(yè)傳感器和成像系統(tǒng),這就需要復(fù)雜的研發(fā)工作,還需要開發(fā)可靠的組件,以及組裝和制造的新方法。黃浦區(qū)工業(yè)微納3D打印技術(shù)常見的3D打印技術(shù)有哪些?歡迎咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司。

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科學(xué)家們基于Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP),發(fā)明了GRIN光學(xué)微納制造工藝。這種新的制造技術(shù)實現(xiàn)了簡單一步操作即可同時控制幾何形狀和折射率來打印自由曲面光學(xué)元件。憑借這種全新的制造工藝,科學(xué)家們完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特別小的可聚焦可見光的龍勃透鏡(15μm直徑)。相似于人類眼睛晶狀體的梯度,這種球面晶狀體的折射率向中心逐漸增加,使其具有獨特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系統(tǒng)可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)(2GL®)可用于工業(yè)領(lǐng)域2.5D微納米結(jié)構(gòu)原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設(shè)計重新定義了典型復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納光學(xué)元件的微納加工制造。該技術(shù)結(jié)合了灰度光刻的出色性能,以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。特別常見的微納3D打印方法是增材制造。

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3D微納加工技術(shù)應(yīng)用于材料工程領(lǐng)域。材料屬性可以通過成分和幾何設(shè)計來調(diào)整和定制。通過使用Nanoscribe的3D微納加工解決方案,可以實現(xiàn)具有特定光子,機(jī)械,生物或化學(xué)特性的創(chuàng)新超材料和仿生微結(jié)構(gòu)。Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手,由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具,在科學(xué)和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說,在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上,可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點,您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。微納3D打印推薦納糯三維科技(上海)有限公司。黃浦區(qū)工業(yè)微納3D打印技術(shù)

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Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。楊浦區(qū)工業(yè)微納3D打印設(shè)備