電解拋光

電解拋光（Electropolishing）：以被拋光工件為陽(yáng)極，不溶性金屬為陰極，兩極同時(shí)浸入到電解槽中，通以直流電離反應(yīng)而產(chǎn)生有選擇性的陽(yáng)極溶解，從而達(dá)到工件表面除去細(xì)微毛刺和光亮度增大的效果。

典型產(chǎn)品：建筑結(jié)構(gòu)，食物處理儲(chǔ)存和醫(yī)療制藥產(chǎn)量適合：?jiǎn)渭酱笈拷钥少|(zhì)量：表面高亮，光滑且衛(wèi)生速度：中等的生產(chǎn)速度，5-30分鐘/周期

適用材料

大多數(shù)金屬都可以被電解拋光，其中較常用于不銹鋼的表面拋光（尤其適用于奧氏體核級(jí)不銹鋼）。

不同材料不可同時(shí)進(jìn)行電解拋光，甚至不可以放在同一個(gè)電解溶劑里。

工藝成本

電解拋光整個(gè)過(guò)程基本由自動(dòng)化完成，所以人工費(fèi)用很低。

環(huán)境影響

電解拋光采用危害較小的化學(xué)物質(zhì)，整個(gè)過(guò)程需要少量的水且操作簡(jiǎn)單，另外可以延長(zhǎng)不銹鋼的屬性，起到讓不銹鋼延緩腐蝕的作用。 鐵鍍金請(qǐng)找常州金韜源，歡迎來(lái)電。南京黃銅鍍金價(jià)格

潤(rùn)濕劑

對(duì)電鍍用潤(rùn)濕劑的基本要求:較好地降低電極與鍍液界面間的界面張力;使鍍液易于在電極表面鋪展以達(dá)到勻鍍目的;對(duì)鍍液要有一定的抗鹽、抗酸堿和抗溫性等。常用潤(rùn)濕劑有:陰離子型有十二醇硫酸醋鈉鹽(K-12)、無(wú)泡潤(rùn)濕劑261(2一乙基已醇硫酸醋鈉)、滲透劑一OT琥珀酸二辛酯磺酸鈉),LAS和AES等。非離子型有:滲透劑JFC,OP-7等。國(guó)外為常用的潤(rùn)濕劑有琥珀酸雙酯磺酸鈉和磷酸雙酯鈉鹽。潤(rùn)濕劑十二烷基磺酸鈉[11]的含量對(duì)鍍層外觀有一定的影響，當(dāng)合金鍍液含有適量的十二烷基磺酸鈉時(shí)，合金鍍層表面平整、光亮；當(dāng)合金鍍液中不含十二烷基磺酸鈉時(shí)，合金鍍層表面有時(shí)會(huì)有析氫引起的白色條紋；當(dāng)含量太低時(shí)，起不到潤(rùn)濕劑的作用；當(dāng)含量太高時(shí)，鍍液混濁或產(chǎn)生大量細(xì)微氣泡，附著在陰極周?chē)?。由此可?jiàn)，十二烷基磺酸鈉能夠提高鍍液的潤(rùn)濕性，但它在鍍液中的含量不宜超過(guò)0.3g／L。 金屬鍍金費(fèi)用鋼鍍金請(qǐng)找常州金韜源，歡迎來(lái)電詢(xún)價(jià)。

陽(yáng)極氧化

主要是鋁的陽(yáng)極氧化，是利用電化學(xué)原理，在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3（氧化鋁）膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性。適用材料：鋁、鋁合金等鋁制品。工藝成本：生產(chǎn)過(guò)程中，水、電的消耗是相當(dāng)大的，特別是在氧化工序。機(jī)器本身的熱耗，需要不停地用循環(huán)水進(jìn)行降溫，噸電耗往往在1000度左右。環(huán)境影響：陽(yáng)極氧化在能效方面不算出色，同時(shí)在鋁電解生產(chǎn)中，陽(yáng)極效應(yīng)還會(huì)產(chǎn)生對(duì)大氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。

整平劑

整平劑與光亮劑的作用不同，后者的主要作用是提高鍍層的光亮度但不一定能填平基體表面微觀的凹凸不平。而前者的作用主要是填平基體的微觀凹凸不平但不一定具有明顯的光亮作用。例如：光亮鍍銅工藝可以獲得光亮的鍍層但不能填平基體表面存在的劃痕，而半光亮鎳電鍍工藝得到的鎳鍍層呈乳白色，沒(méi)有明顯的光亮度，但鍍層表面很細(xì)致均勻，在它的表面繼續(xù)電鍍光亮鎳，起亮的速度很快。一美國(guó)專(zhuān)利[12]表示在酸性鍍銅溶液中使用一種整平添加劑，可以填充鍍件表面亞微米級(jí)的縫隙,?？梢栽谙率龌衔镏羞x擇：聚丙烯酸、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚(4一苯乙烯磺酸鈉及順丁烯二酸)共聚物等。 ABS鍍金請(qǐng)找常州金韜源，歡迎來(lái)電詳談。

    在表面處理行業(yè)中，電鍍銀技術(shù)一直是螺釘、螺帽等連接件防粘接表面處理的重要技術(shù)之一，傳統(tǒng)的電鍍銀大多為鍍銀，鍍銀槽液具備有良好的分散能力和覆蓋能力，獲得鍍層結(jié)晶光滑細(xì)致，允許使用的電流密度范圍和溫度范圍寬，對(duì)雜質(zhì)的敏感度小，工藝容易控制，槽液操作和維護(hù)簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn)，但同時(shí)也具有劇毒、高污染、污水處理成本高等缺點(diǎn)，該技術(shù)正在逐步被無(wú)氰鍍銀技術(shù)取代，故無(wú)氰鍍銀技術(shù)得到了快速發(fā)展，且在民用電鍍企業(yè)中實(shí)現(xiàn)應(yīng)用。不過(guò)，由于鍍銀技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)，尤其是在槽液穩(wěn)定性方面是無(wú)氰電鍍槽液無(wú)法比擬的，因此在大多行業(yè)，鍍銀技術(shù)依然被使用。鍍銀槽液在長(zhǎng)期使用過(guò)程中，會(huì)不斷地引入有機(jī)物、鉻離子、鎳離子、硫離子、氯離子等雜質(zhì)，隨著雜質(zhì)含量的逐步增加，鍍液的分散能力、導(dǎo)電性、鍍層的純度等嚴(yán)重降低，極大影響電鍍銀的效率和鍍層質(zhì)量。 鋅合金鍍金請(qǐng)找常州金韜源，歡迎來(lái)電詢(xún)價(jià)。臺(tái)州鋁鍍金價(jià)格

鋼鍍金請(qǐng)找常州金韜源，歡迎來(lái)電詳詢(xún)。南京黃銅鍍金價(jià)格

其他化學(xué)成分的濃度

化學(xué)鍍鎳浴中還含有多種有機(jī)羧酸鹽作為絡(luò)合劑、緩沖劑、穩(wěn)定劑等，其深度的測(cè)定在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行比較困難；大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室采用高效液相色譜分離，紅外、紫外可見(jiàn)光譜、質(zhì)譜定性定量分析。化學(xué)鍍鎳浴中有害金屬離子則采用發(fā)射光譜、原子吸收光譜定性定量分析。

化學(xué)鍍鎳浴穩(wěn)定性的測(cè)定

 取試驗(yàn)化學(xué)鍍鎳液50mL，盛于100mL的試管中，浸入已經(jīng)恒溫至60±1℃的水浴中，注意使試管內(nèi)溶液面低于恒溫水浴液面約2cm。半小時(shí)后，在攪拌下，使用移液管量取濃度為100×10-6的氯化鈀溶液1ml于試管內(nèi)。記錄自注入氯化鈀溶液至試管內(nèi)，化學(xué)鍍?cè)￠_(kāi)始出現(xiàn)混濁(沉淀)所經(jīng)歷的時(shí)間，以秒表示。這是一種測(cè)定化學(xué)鍍鎳浴穩(wěn)定性的加速試驗(yàn)方法，可作為鑒別不同化學(xué)鍍鎳浴穩(wěn)定性時(shí)的參考；亦可用于化學(xué)鍍鎳浴在使用過(guò)程中穩(wěn)定性的監(jiān)控，如果上述試驗(yàn)出現(xiàn)混濁時(shí)間明顯加快，說(shuō)明化學(xué)鍍鎳浴處于不穩(wěn)定狀態(tài)。 南京黃銅鍍金價(jià)格

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