無氰自催化化學(xué)鍍金：主鹽采用Na3[Au(SO3)2],金層厚度可達(dá)1.5μm，已用在高密度柔性線路板和電子陶瓷上鍍金。非甲醛自催化化學(xué)鍍銅：用于線路板的通孔鍍和非導(dǎo)體表面金屬化。革除有毒甲醛代之以廉價無毒次磷酸鹽，目前國內(nèi)外尚無商業(yè)化產(chǎn)品。已基本完成實驗室研究，沉積速度3~4μm/h，壽命達(dá)10循環(huán)（MTO）以上，鍍層致密、光亮。但有待進(jìn)一步完善和進(jìn)行中試考驗。純鈀電鍍：Ni會引發(fā)皮炎，歐盟早已拒絕含Ni飾品進(jìn)口，鈀是比較好的代Ni金屬。本項目完成于1997年，包括二種工藝，一是薄鈀電鍍，厚度0.1~0.2μm， 已用在白銅錫上作為防腐裝飾性鍍層和防銀變色層；二是厚鈀電鍍，厚度達(dá)3μm無裂紋（目前的國際水平），因鈀昂貴，目前尚未進(jìn)入國內(nèi)市場。ABS鍍金請找常州金韜源環(huán)保節(jié)能科技有限公司，歡迎來電咨詢。蘇州金屬鍍金電鍍廠

除油劑金屬表面常附有油污和其它不潔物，影響電鍍時金屬離子的沉積，因此鍍件必須除油、除銹以保證鍍件表面有良好鍍層。動、植物油油污可用堿性液處理除去。機(jī)油、潤滑油、凡士林、防銹油等礦物油油污。可用有機(jī)溶劑法、化學(xué)法和電化學(xué)法除油。有機(jī)溶劑除油常用的溶劑有煤油、汽油、苯類和氯代烴等。上述方法盡管效果很好，但若在溶劑中加少量油溶性表面活性劑(如油酸與三乙醇胺、油溶性O(shè)P乳化劑(OP-4,OP一7)、脂肪醇聚氧乙烯醚(AEO-3,AEO-7)、失水山梨醇油酸醋(Span-80)等均會收到事半功倍的除油效果。有機(jī)溶劑除油存在不安全性和毒性隱患，除油成本高，能耗大等缺點，近年來已被水基型去油劑所代替。表面活性劑除油它是利用表面活性劑對油/水所具有的乳化作用，使油被乳化成均勻的乳液以達(dá)到在水中的溶解。用做水基型除油劑的有單純表面活性劑:如陰離子型LAS,AES。非離子型OP-10,AEO-9等。復(fù)配型表面活性劑:如LAS與AEO-9復(fù)配、LAS與Ninol(尼納爾)復(fù)配。助劑與表面活性劑復(fù)配:它是表面活性劑與助洗劑(三聚磷酸鈉和硅酸鹽)、銹蝕劑的復(fù)配。宿州銅鍍金技術(shù)ABS鍍金請找常州金韜源環(huán)保節(jié)能科技有限公司。

電鍍就是通過電沉積的方式在工件表面鍍一層或多層金屬鍍層，給予工件美麗的外觀或特定的功能要求。電鍍目的：為了得到具有某種特性的金屬層，如：硬度、光亮度、耐腐性及在電鑄方面復(fù)制同樣的形狀.電鍍液：溶液中在陽極與陰極間金屬離子移動的導(dǎo)電介質(zhì).如何維護(hù)電鍍液？持續(xù)的化學(xué)分析、赫氏槽電鍍測試、添加化學(xué)品、去除污染物、定期凈化、缺陷/次品的常規(guī)檢查、物理測試。ph值：用來度量酸堿度的；pH值的范圍處于0-14之間；小于7的為酸性，大于7且小于等于14的為堿性，7.0為中性。

鎳溶液的種類預(yù)鍍鎳、半光亮鎳、高硫鎳、光亮鎳、微孔鎳（鎳封）、電位較正的鎳層、氨基磺酸鎳、化學(xué)沉鎳。預(yù)鍍鎳：用于加強結(jié)合力的起始鎳層、為在不銹鋼上電鍍和返鍍進(jìn)行的活化、低pH值，pH<1.0。半光亮鎳：防腐、高填、延展性好、柱狀結(jié)構(gòu)、鍍層電位較正、含硫量低至<0.005%。高硫鎳：用來的防腐保護(hù)層、橫向腐蝕，而非縱向。氨基磺酸鎳電鑄、非常好的延展性、低應(yīng)力?；瘜W(xué)鎳：在鋁材上電鍍、在塑料上電鍍、防腐蝕、硬度、厚度分布均勻、耐磨損。鍍鉻：在裝飾性電鍍里，鉻由于耐變暗性而作為然后的鍍層、有硬度、厚度在0.1–0.5u之間、經(jīng)久耐用。電鍍金請找常州金韜源環(huán)保節(jié)能科技有限公司，歡迎來電詳詢。

電鍍技術(shù)發(fā)展到現(xiàn)在，已經(jīng)成為非常重要的現(xiàn)代加工技術(shù)，它早已經(jīng)不僅只是金屬表面防護(hù)和裝飾加工手段，盡管防護(hù)和裝飾電鍍?nèi)匀徽茧婂兗庸さ暮艽蟊戎?。電?的功能性用途則越來越普遍。尤其是在電子工業(yè)、通信和***、航天等領(lǐng)域大量在采用功能性電鍍技術(shù)。電鍍不僅只可以鍍出漂亮的金屬鍍層，還可以鍍出各種二元 合金、三元合金乃至于四元合金；還可以制作復(fù)合鍍層、納米材料；可以在金屬材料上電鍍，也可以在非金屬材料上電鍍。。。。ABS鍍金請找常州金韜源環(huán)保節(jié)能科技有限公司，歡迎來電洽談?；窗步饘馘兘饛S

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磁控濺射鍍膜設(shè)備：磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種多功能、高效率的鍍膜設(shè)備?？筛鶕?jù)用戶要求配置旋轉(zhuǎn)磁控靶、中頻孿生濺射靶、非平衡磁控濺射靶、直流脈沖疊加式偏壓電源等，組態(tài)靈活、用途普遍，主要用于金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件鍍鋁、銅、鉻、鈦金、銀及不銹鋼等金屬膜或非金屬膜及滲金屬DLC膜，所鍍膜層均勻、致密、附著力強等特點，可普遍用于家用電器、鐘表、工藝美術(shù)品、玩具、車燈反光罩以及儀器儀表等表面裝飾性鍍膜及工模具的功能涂層。a、旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜機(jī)；旋轉(zhuǎn)磁控濺射鍍膜技術(shù)，是國內(nèi)外的磁控濺射鍍膜技術(shù)，靶材利用率達(dá)到70～80%以上，基體鍍膜均勻，色澤一致。b、平面磁控濺射鍍膜機(jī)；c、中頻磁控濺射鍍膜機(jī)；d、射頻磁控濺射鍍膜機(jī)?？梢栽诮饘倩蚍墙饘伲ㄋ芰?、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼及金屬反應(yīng)物（氧化物、氮化物、炭化物）、半導(dǎo)體金屬及反應(yīng)物。所鍍膜層均勻、致密、附著力好等特點。蘇州金屬鍍金電鍍廠