納米壓印技術(shù)分為三個步驟。第一步是模板的加工。一般使用電子束刻蝕等手段，在硅或其他襯底上加工出所需要的結(jié)構(gòu)作為模板。由于電子的衍射極限遠小于光子，因此可以達到遠高于光刻的分辨率。第二步是圖樣的轉(zhuǎn)移。在待加工的材料表面涂上光刻膠，然后將模板壓在其表面，采用加壓的方式使圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上。注意光刻膠不能被全部去除，防止模板與材料直接接觸，損壞模板。第三步是襯底的加工。用紫外光使光刻膠固化，移開模板后，用刻蝕液將上一步未完全去除的光刻膠刻蝕掉，露出待加工材料表面，然后使用化學刻蝕的方法進行加工，完成后去除全部光刻膠，然后得到高精度加工的材料。微納加工涉及領域廣、多學科交叉融合，其較主要的發(fā)展方向是微納器件與系統(tǒng)（MEMS）。攀枝花電子微納加工

ICP刻蝕GaN是物料濺射和化學反應相結(jié)合的復雜過程。刻蝕GaN主要使用到氯氣和三氯化硼，刻蝕過程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂，此為物理濺射，產(chǎn)生活性的Ga和N原子，氮原子相互結(jié)合容易析出氮氣，Ga原子和Cl離子生成容易揮發(fā)的GaCl2或者GaCl3。光刻（Photolithography)是一種圖形轉(zhuǎn)移的方法，在微納加工當中不可或缺的技術(shù)。光刻是一個比較大的概念，其實它是有多步工序所組成的。1.清洗：清洗襯底表面的有機物。2.旋涂：將光刻膠旋涂在襯底表面。3.曝光。將光刻版與襯底對準，在紫外光下曝光一定的時間。4.顯影：將曝光后的襯底在顯影液下顯影一定的時間，受過紫外線曝光的地方會溶解在顯影液當中。5.后烘。將顯影后的襯底放置熱板上后烘，以增強光刻膠與襯底之前的粘附力。雅安半導體微納加工微納加工設備主要有：光刻、刻蝕、鍍膜、濕法腐蝕、絕緣層鍍膜等！

微納測試與表征技術(shù)是微納加工技術(shù)的基礎與前提，微納測試包括在微納器件的設計、制造和系統(tǒng)集成過程中，對各種參量進行微米/納米檢測的技術(shù)。微米測量主要服務于精密制造和微加工技術(shù)，目標是獲得微米級測量精度，或表征微結(jié)構(gòu)的幾何、機械及力學特性；納米測量則主要服務于材料工程和納米科學，特別是納米材料，目標是獲得材料的結(jié)構(gòu)、地貌和成分的信息。在半導體領域人們所關(guān)心的與尺寸測量有關(guān)的參數(shù)主要包括：特征尺寸或線寬、重合度、薄膜的厚度和表面的糙度等等。未來，微納測試與表征技術(shù)正朝著從二維到三維、從表面到內(nèi)部、從靜態(tài)到動態(tài)、從單參量到多參量耦合、從封裝前到封裝后的方向發(fā)展。探索新的測量原理、測試方法和表征技術(shù)，發(fā)展微納加工及制造實時在線測試方法和微納器件質(zhì)量快速檢測系統(tǒng)已成為了微納測試與表征的主要發(fā)展趨勢。

由于納米壓印技術(shù)的加工過程不使用可見光或紫外光加工圖案，而是使用機械手段進行圖案轉(zhuǎn)移，這種方法能達到很高的分辨率。報道的很高分辨率可達2納米。此外，模板可以反復使用，無疑極大降低了加工成本，也有效縮短了加工時間。因此，納米壓印技術(shù)具有超高分辨率、易量產(chǎn)、低成本、一致性高的技術(shù)優(yōu)點，被認為是一種有望代替現(xiàn)有光刻技術(shù)的加工手段。納米壓印技術(shù)已經(jīng)有了許多方面的進展。起初的納米壓印技術(shù)是使用熱固性材料作為轉(zhuǎn)印介質(zhì)填充在模板與待加工材料之間，轉(zhuǎn)移時需要加高壓并加熱來使其固化。微納加工可以實現(xiàn)對微小尺寸物體的加工和制造。

什么是微納加工？微納加工技術(shù)的應用非常普遍。在電子領域，微納加工技術(shù)可以用于制造集成電路、傳感器、光電器件等。在光學領域，微納加工技術(shù)可以用于制造光學器件、光纖等。在生物醫(yī)學領域，微納加工技術(shù)可以用于制造生物芯片、藥物傳遞系統(tǒng)等。在能源領域，微納加工技術(shù)可以用于制造太陽能電池、燃料電池等。微納加工技術(shù)的發(fā)展對科學研究和工業(yè)生產(chǎn)都有重要意義。在科學研究方面，微納加工技術(shù)可以幫助科學家們研究材料的微觀結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，揭示微觀世界的奧秘。在工業(yè)生產(chǎn)方面，微納加工技術(shù)可以幫助企業(yè)提高產(chǎn)品的性能和質(zhì)量，降低生產(chǎn)成本，提高競爭力。在硅材料刻蝕當中，硅針的刻蝕需要用到各向同性刻蝕，硅柱的刻蝕需要用到各項異性刻蝕！雅安半導體微納加工

微納加工可以實現(xiàn)對微觀結(jié)構(gòu)的制造和調(diào)控。攀枝花電子微納加工

真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理的氣相沉積技術(shù)和化學氣相沉積技術(shù)。物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質(zhì)反應膜大多以物理的氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。物理的氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。攀枝花電子微納加工