氦質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)解析：真空系統(tǒng)，真空系統(tǒng)是提供質(zhì)譜室正常工作的條件。由于鎢陰極正常工作時(shí)需要具備0.001-0.01Pa的真空度，同時(shí)保證氦離子在分析器中的運(yùn)動(dòng)有較高的傳輸率，因此建立一個(gè)高真空系統(tǒng)是必要的。系統(tǒng)中的節(jié)能閥則是為了滿(mǎn)足質(zhì)譜室工作壓力的調(diào)節(jié)，該閥全開(kāi)時(shí)檢漏靈敏度較高，因此在條件允許情況下開(kāi)啟大些為宜。檢漏時(shí)為了校準(zhǔn)檢漏靈敏度，系統(tǒng)中設(shè)置了標(biāo)準(zhǔn)漏孔。輔助真空系統(tǒng)的配置，在氦質(zhì)譜儀檢漏技術(shù)中，根據(jù)被檢件的結(jié)構(gòu)，尺寸要求和具體的檢漏條件，設(shè)置具有預(yù)抽被檢件、保證檢漏儀工作真空度、進(jìn)行的氣體分流、縮短反應(yīng)時(shí)間和清理時(shí)間、降低對(duì)靈敏度的不良影響等功能的輔助真空系統(tǒng)，在某些條件下是非常必要的。相比于傳統(tǒng)檢漏方法，氦質(zhì)譜檢漏儀檢測(cè)效率高、檢漏精度要高3-4個(gè)數(shù)量級(jí)，且不會(huì)對(duì)電池造成任何影響。嘉興進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀單位

選擇氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏方法的原則：1、主要根據(jù)被檢漏設(shè)備的允許漏率為依據(jù)，由于一個(gè)設(shè)備的允許漏率是很多漏孔漏率的綜合體現(xiàn)。為找到一個(gè)單個(gè)漏孔，所選擇檢漏方法的檢漏靈敏度就要高于允許漏率1-2個(gè)數(shù)量級(jí)。如一個(gè)設(shè)備的允許漏率為10-11w，而必須選用的氦質(zhì)譜檢漏儀靈敏度為10-12∽10-13W。2、根據(jù)具體被檢對(duì)象，所用方法簡(jiǎn)便易行，經(jīng)濟(jì)實(shí)用。低噪聲、低振動(dòng)，設(shè)備堅(jiān)實(shí)牢固；性能可靠，操作簡(jiǎn)便，造型美觀，售后服務(wù)周到；自保護(hù)功能，防止本底被污染；檢漏效率高，帶故障提示和報(bào)警功能。溫州模塊式氦質(zhì)譜檢漏儀氦質(zhì)譜檢漏儀是基于質(zhì)譜法原理，以氦氣作為檢漏儀器。

氦質(zhì)譜檢漏儀常見(jiàn)的檢漏法：1、負(fù)壓法檢漏，負(fù)壓法檢漏是將被檢件接到檢漏儀的檢測(cè)口，連續(xù)向可疑的漏孔噴射示蹤氣體，示蹤氣體通過(guò)漏孔進(jìn)入檢漏儀并被檢測(cè)。一般電子器件的外殼、高壓開(kāi)關(guān)管、氧化鋅、避雷器等都應(yīng)采用這種方法檢漏。2、正壓法檢漏，正壓法檢漏與負(fù)壓法檢漏相反，吸口接在檢漏儀的檢測(cè)口，而被檢件充入規(guī)定壓力的示蹤氣體，漏孔泄漏出來(lái)氦氣被吸入檢漏儀被檢測(cè)。大型容器或內(nèi)部放氣管量很大的容器做負(fù)壓檢漏很不經(jīng)濟(jì)，而且檢漏速度慢，一般采取正壓檢漏。3、壓氦法檢漏，壓氦法檢漏是將壓有一定壓力的示蹤氣體的被檢件放入檢漏夾具中，然后連至檢漏儀將其抽空，示蹤氣體通過(guò)漏孔泄漏出來(lái)，經(jīng)檢漏儀檢測(cè)總泄漏量。

氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式：1、鐘罩法——測(cè)總漏率，將被檢件與儀器檢漏口聯(lián)接抽真空，在被檢件外面罩以充滿(mǎn)氦氣的容器，如被檢件有漏孔，氦氣便由漏孔進(jìn)入被檢件，達(dá)到質(zhì)譜管被檢測(cè)。所測(cè)漏率是被檢件的總漏率，不能確定有幾個(gè)泄漏點(diǎn)和每個(gè)漏點(diǎn)的準(zhǔn)確位置。可以看出鐘罩法是基于噴吹法的一種檢漏方法。2、背壓法——測(cè)總漏率，進(jìn)行電子元器件氣密性檢測(cè)時(shí)常用背壓法。檢漏前用特定加壓容器向被檢件壓入氦氣(由壓力和時(shí)間控制壓入的量)，然后取出被檢件，吹去表面吸附氦后放入特定檢漏罐中，再將檢漏罐聯(lián)接到檢漏儀的檢漏口上，對(duì)檢漏罐抽真空，實(shí)施檢漏。若器件有漏，則通過(guò)該漏孔壓人的氦氣又釋放出來(lái)進(jìn)入檢漏罐，到達(dá)質(zhì)譜管。用這種方法測(cè)得的漏率也是總漏率?？蓹z漏率即氦質(zhì)譜檢漏儀所能檢出的漏孔的漏率。

氦質(zhì)譜檢漏儀的噪聲主要來(lái)源于電路噪聲和本底噪聲，目前設(shè)備電子線(xiàn)路和電子元件的改進(jìn)，使得電路噪聲已經(jīng)降得很低，因此氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲成為影響設(shè)備性能的主要因素。而其本底噪聲的產(chǎn)生主要是由于本底峰的不穩(wěn)定造成的，主要形成的原因包括：一、離子源中的發(fā)射電流、加速電壓以及分析器的電磁參數(shù)不穩(wěn)定。二、真空油脂、橡膠材料、有機(jī)絕緣材料都可吸附和再釋放出氦氣，而電離規(guī)，特別是磁放電真空規(guī)對(duì)氦有記憶效應(yīng)，其表面污染時(shí)就更為嚴(yán)重。三、抽氣系統(tǒng)中抽速不穩(wěn)定和氦的反擴(kuò)散。因此，為盡量消除氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，需要針對(duì)性的采取措施，如減少采用有機(jī)材料，不用磁放電規(guī)，提高檢漏儀的工作真空度，保證穩(wěn)定抽速等等。氦質(zhì)譜檢漏儀實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)氦峰掃描、自動(dòng)調(diào)零、自動(dòng)校準(zhǔn)和自動(dòng)量程切換。嘉興進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀單位

氦質(zhì)譜檢漏儀長(zhǎng)期不使用時(shí)，用盲板將檢漏口、機(jī)械泵排氣口封上。嘉興進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀單位

氦質(zhì)譜檢漏法由于其高的靈敏度、方法的多樣性、對(duì)各種試件的適應(yīng)性以及無(wú)破壞性，使其普遍應(yīng)用。主要領(lǐng)域和產(chǎn)品如下：原子能工業(yè)氣體擴(kuò)散處理系統(tǒng)、核燃料容器；高能物理研究院加速器及其配件；電力工業(yè)高壓開(kāi)關(guān)、避雷器、發(fā)電廠冷凝器系統(tǒng)；電力工業(yè)電子器件、半導(dǎo)體、傳感器和積成電路；航空航天燃料箱、油箱、衛(wèi)星及各種電機(jī)等；儀表制造壓力傳感器、閥門(mén)、波紋管和密封焊接件等；空調(diào)制冷工業(yè)壓縮機(jī)、冷凝器、蒸發(fā)器及閥門(mén)等；真空科學(xué)與工業(yè)泵、閥門(mén)、真空規(guī)管以及鍍膜機(jī)、真空爐等真空系統(tǒng)；冶金真空電爐；低溫與壓力容器液氮和液氦儲(chǔ)存罐、生物制品容器及各類(lèi)壓力容器；輕工產(chǎn)品保溫杯、太陽(yáng)能集熱管、飲料罐口等。嘉興進(jìn)口氦質(zhì)譜檢漏儀單位

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