【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級)，濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機設(shè)備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。 射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。 脈沖：泛用，*新發(fā)展出 真空鍍膜機詳細(xì)鍍膜方法。廣西二手光學(xué)真空鍍膜機

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。湖北箱式真空鍍膜機真空鍍膜機為什么會越來越慢？

【真空鍍膜機電控柜的操作】 1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源 2、開總電源 3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 4、開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。 5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子qiang電源。

【真空鍍膜機真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】 靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是*簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因為它不需要用額外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來進(jìn)行了。 靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍，再關(guān)閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)?！墩婵障到y(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中，螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實現(xiàn)的，比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過程中，要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾，需要在檢測之前對容器進(jìn)行凈化清洗并烘干，或者用氮氣進(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點可以在測量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱，處理釋放的可凝氣體，而對可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會造成影響。 磁控濺射真空鍍膜機是什么？

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對濕度：不da于70% 3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz； 6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。 此外，真空鍍膜設(shè)備所在實驗室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。 真空鍍膜機廠家排名。湖北真空鍍膜機常見問題與解決辦法

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【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等*高，Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生，在10-1—10 Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。 廣西二手光學(xué)真空鍍膜機

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