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重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-01-17

【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】: 真空泵:真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來(lái)講,真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理,真空泵基本上可以分為兩種類(lèi)型,即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵(Rough Vacuum Pump):一般用于抽粗真空,有油泵和 干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種: 旋轉(zhuǎn)葉片泵:油泵,極限真空可達(dá)10&3Torr,抽速1~650CFM 隔膜泵:干泵,極限真空1Torr左右,抽速<10CFM 往復(fù)式活塞泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速6~32CFM 渦旋式真空泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速12~25CFM 螺旋泵:干泵,極限真空10&3Torr,抽速30~318CFM 成都真空鍍膜機(jī)的生產(chǎn)廠家。重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料,把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點(diǎn)是基片相對(duì)于離子源和靶是du立的,它的溫度可以單獨(dú)控制?;ǔ=拥匚?,它和靶與高頻電路無(wú)關(guān),不會(huì)象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊,因而溫度較低。所以只要配置一臺(tái)較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型,控溫范圍為-10℃~50℃,精度≤0。5℃),實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品臺(tái)的單獨(dú)控溫,就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長(zhǎng)不同階段的溫度需要進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造,設(shè)計(jì)、加工了專(zhuān)門(mén)的金屬樣品架,放上樣品后蓋上金屬壓片,用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺(tái)上,可使樣品和控溫的樣品臺(tái)有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個(gè)測(cè)溫鉑電阻,用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊,再用導(dǎo)線引出與高精度的萬(wàn)用表相連,以監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中的樣品溫度。天津真空鍍膜機(jī)的膜系真空鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥,用來(lái)連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提,之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候,機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(zhǎng)是什么原因?】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的;(2)即使真空室沒(méi)有漏氣,因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣,而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。 (3)也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。 (4)真空室有漏水。 (5)抽空管道有漏氣。 真空鍍膜機(jī)技術(shù)教程。

【真空鍍膜機(jī)電控柜的操作】 1、玻璃真空鍍膜機(jī)開(kāi)水泵、氣源 2、開(kāi)總電源 3、開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 4、開(kāi)機(jī)械泵、予抽,開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。 5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開(kāi)前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子qiang電源。 真空鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。廣西蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)品牌排行。重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)

【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五da系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時(shí)間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值;因此,只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí),自動(dòng)化程序才會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機(jī)能長(zhǎng)時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn);降低故障時(shí)間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機(jī)器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機(jī)器利用率等。重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司主要經(jīng)營(yíng)范圍是機(jī)械及行業(yè)設(shè)備,擁有一支專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)和良好的市場(chǎng)口碑。公司自成立以來(lái),以質(zhì)量為發(fā)展,讓匠心彌散在每個(gè)細(xì)節(jié),公司旗下光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備深受客戶(hù)的喜愛(ài)。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念,在機(jī)械及行業(yè)設(shè)備深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì),打造機(jī)械及行業(yè)設(shè)備良好品牌。國(guó)泰真空憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專(zhuān)業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。