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河北配分子泵的真空鍍膜機(jī)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-01-30

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮?dú)鉀_洗】 氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r(shí),由于吸附能小,因而吸留表面時(shí)間極短.即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng),可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前,先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入da氣,則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半,其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小,在真空下充入氮?dú)夂?,氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的,先被氮分子占滿了,其吸附的水分子就很少了,因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了,還可以利用氮?dú)鉀_洗法來(lái)清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱,一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng),可將油污染消除。 真空鍍膜機(jī)怎么保養(yǎng)?河北配分子泵的真空鍍膜機(jī)

【真空鍍膜機(jī)之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術(shù),表面的鋅層是一種電化學(xué)保護(hù)層,可以防止金屬腐壞,主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。 適用材料: 由于鍍鋅工藝依賴于冶金結(jié)合技術(shù),所以只適合鋼和鐵的表面處理。 工藝成本:無(wú)模具費(fèi)用,周期短/人力成本中等,因?yàn)楣ぜ谋砻尜|(zhì)量很da程度上取決于鍍鋅前的人工表面處理。 環(huán)境影響:由于鍍鋅工藝增長(zhǎng)了鋼鐵件40-100年的使用壽命,很好的防止了工件的生銹和腐壞,所以對(duì)保護(hù)壞境有積極的作用。另外,鍍過(guò)鋅的工件在使用壽命到期后,可以重新送返鍍鋅槽,對(duì)液態(tài)鋅的反復(fù)利用不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)或物理廢料。 上海真空鍍膜機(jī)多少錢(qián)真空鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。 VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類、3C類對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽的速度會(huì)顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤(pán),將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤(pán),便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前,要注意檢漏工作。首先啟動(dòng)維持泵,關(guān)好da門(mén),數(shù)分鐘后,觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉(zhuǎn)印的用途越來(lái)越廣fan。 適用材料: 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見(jiàn)的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無(wú)模具費(fèi)用,但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印,時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過(guò)10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言,水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料,減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。 真空鍍膜機(jī)哪個(gè)牌子的好?

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等*高,Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生,在10-1—10 Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍,但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。 真空鍍膜機(jī)類型推薦。海南真空鍍膜機(jī)排名

真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。河北配分子泵的真空鍍膜機(jī)

【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空 <10E&12Torr 流導(dǎo)(導(dǎo)通量):表示真空管道通過(guò)氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越da,表面越光滑,越直的管道流導(dǎo)也越da。 流量:?jiǎn)挝粫r(shí)間內(nèi)流過(guò)任意截面的氣體量,單位為T(mén)orr·L/s或Pa·L/s。 抽氣速率:在一定的壓強(qiáng)和溫度下,單位時(shí)間內(nèi)由泵進(jìn)氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率,簡(jiǎn)稱抽速。單位一般為L(zhǎng)/S或m3/hr或CFM。 極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱為極限真空。河北配分子泵的真空鍍膜機(jī)

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