【真空鍍膜設備的維修及保養(yǎng)方法】 1.真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。 方法：用燒堿（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發(fā)生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內的污垢。 2.當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續(xù)工作一個月（雨季減半），需更換新油。 方法：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續(xù)使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。 3.在重新開機前，要注意檢漏。 方法：啟動維持泵，關好da門，數分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕，否則要進行檢漏。檢查聯接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴散泵油會燒環(huán)，真空鍍膜設備無法進入工作狀態(tài)。 真空鍍膜機的相關資料。湖北手機真空鍍膜機

【真空鍍膜機清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質蒸發(fā)來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產生副作用。由于加熱的結果，可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較da的團粒，并同時分解成碳渣。 河南真空鍍膜機廣東真空鍍膜機廠家。

【真空鍍膜機之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性及增進美觀等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。 適用材料： 多數金屬可以進行電鍍 但是不同的金屬具有不同等級的純度和電鍍效率。其中*常見的有：錫，鉻，鎳，銀，金和銠； 常用于電鍍的塑料為ABS。 3.鎳金屬不可用于電鍍接觸皮膚的產品，因為鎳對皮膚有刺激性且有毒性。 工藝成本：無模具費用，但需要夾具對零件進行固定/時間成本取決于溫度和金屬種類/人力成本（中-高），取決于具體電鍍件的種類，例如銀器和珠寶的電鍍就需要極高的熟練工人進行操作，因為其對外觀和耐久性的要求很高 環(huán)境影響:da量有毒物質會被用在電鍍過程中，所以需要專業(yè)的分流和提取，以確保*小的環(huán)境影響。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標準方法是化學清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后)，由于真空系統(tǒng)內的各種零部件已經被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0 )和還原性氣體(H2、N H3)對金屬表面進行化學反應清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質，表面反應速率的da小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數要通過實驗來確定.對于不同的結晶取向，這些參數是不同的。真空鍍膜機的操作培訓。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術 濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。 射頻：13.56MHZ，非導體用。 脈沖：泛用，*新發(fā)展出 真空鍍膜機詳細鍍膜方法。云南求購二手真空鍍膜機

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【真空鍍膜技術專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate：膜層承受體。 試驗基片testing substrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。 鍍膜材料coating material：用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material：在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質)film material：組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate：在給定時間間隔內,蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate：在給定時間間隔內,濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate：在給定時間間隔內,沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 湖北手機真空鍍膜機

成都國泰真空設備有限公司主要經營范圍是機械及行業(yè)設備，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑。國泰真空致力于為客戶提供良好的光學鍍膜設備，真空鍍膜設備，光學真空鍍膜機，紅外鍍膜設備，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠信為本的經營理念，在機械及行業(yè)設備深耕多年，以技術為先導，以自主產品為重點，發(fā)揮人才優(yōu)勢，打造機械及行業(yè)設備良好品牌。國泰真空秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。