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吉林真空鍍膜機常見問題與解決辦法

來源: 發(fā)布時間:2021-02-04

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如,在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中.要不了幾分鐘就可以形成清潔表面(工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是:在紫外線照射下,污物分子受激并離解,而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用.形成較簡單易揮發(fā)分子.如H203、CO2和N2.其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機抽真空步驟。吉林真空鍍膜機常見問題與解決辦法

【機械泵分類】機械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。 機械泵是從da氣開始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計與選用機械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級機械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運轉(zhuǎn)時,單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計算:Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸氣結(jié)束時空腔截面積,L表示空腔長度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程,Vs表示當轉(zhuǎn)子處于水平位置的時候,吸氣結(jié)束,此時空腔內(nèi)的體積*da,轉(zhuǎn)速為n。機械泵排氣的效果還與電機的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當電機的皮帶比較松,電機轉(zhuǎn)速很慢的時候,機械泵的排氣效果也會變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點檢,機械泵油的密封效果也需要常常點檢,油過少,達不到密封效果,泵內(nèi)會漏氣,油過多,把吸氣孔堵塞,無法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。 湖南蒸發(fā)卷繞式真空鍍膜機錦成國泰真空鍍膜機怎么樣?

【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】 1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。 方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,( 注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。 2.當粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個月(雨季減半),需更換新油。 方法:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上,換油時應(yīng)將油蓋打開,用布擦干凈箱內(nèi)污垢。 3.在重新開機前,要注意檢漏。 方法:啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕,否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈,或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱,否則擴散泵油會燒環(huán),真空鍍膜設(shè)備無法進入工作狀態(tài)。

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料,把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點是基片相對于離子源和靶是du立的,它的溫度可以單獨控制?;ǔ=拥匚?,它和靶與高頻電路無關(guān),不會象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊,因而溫度較低。所以只要配置一臺較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型,控溫范圍為-10℃~50℃,精度≤0。5℃),實現(xiàn)對樣品臺的單獨控溫,就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長不同階段的溫度需要進行適當調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造,設(shè)計、加工了專門的金屬樣品架,放上樣品后蓋上金屬壓片,用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺上,可使樣品和控溫的樣品臺有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個測溫鉑電阻,用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊,再用導(dǎo)線引出與高精度的萬用表相連,以監(jiān)測薄膜生長過程中的樣品溫度。真空鍍膜機技術(shù)教程。

【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate:膜層承受體。 試驗基片testing substrate:在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和(或)試驗的基片。 鍍膜材料coating material:用來制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material:在真空蒸發(fā)中用來蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material:有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material:組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate:在給定時間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來的材料量,除以該時間間隔 濺射速率sputtering rate:在給定時間間隔內(nèi),濺射出來的材料量,除以該時間間隔。 沉積速率deposition rate:在給定時間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。 真空鍍膜機品牌排行。安徽連續(xù)真空鍍膜機

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【常見的真空材料表面上的污染物類型】 1、油脂:加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等; 2、酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等; 3、表面氧化物:材料長期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物; 4、水基類:操作時的手汗、吹氣時的水汽、唾液等; 5、拋光殘渣及環(huán)境空氣中的塵埃和其它有機物等。 清洗這些污染物的目的是為了改進真空鍍膜機的工作穩(wěn)定性,使工作能夠更加順利的進行。清洗后的表面根據(jù)要求分為原子級清潔表面和工藝技術(shù)上的清潔表面兩類?!?在真空鍍膜機使用鍍膜材料鍍膜前,對鍍膜材料做簡單的表面清潔可以延長鍍膜機的使用壽命。因為各種污染物不僅使真空系統(tǒng)不能獲得所要求的真空度,還會影響真空部件連接處的強度和密封性能。前期到位的清洗工作可以減少許多麻煩,避免許多小問題的發(fā)生,對工作效率、真空鍍膜機鍍膜質(zhì)量都具有十分積極的作用??蒬ada提高真空系統(tǒng)中所有器壁和其它組件表面在各工作條件下的工作穩(wěn)定性?!?吉林真空鍍膜機常見問題與解決辦法

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