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【關(guān)于反射式濾光片】在手機(jī)領(lǐng)域另一個(gè)應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種,它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學(xué)玻璃上交替鍍多層高折射率光學(xué)膜,達(dá)到可見光波段的高透(400-630nm),近紅外波段光線的截止(700-1100nm),截止部分干擾成像質(zhì)量的近紅外光,因?yàn)橥ㄟ^反射方式截止紅外光線,所以容易產(chǎn)生二次反射,產(chǎn)生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍(lán)玻璃為基材,通過藍(lán)玻璃中光吸收物質(zhì)來過濾紅外光,同時(shí)通過一面鍍紅外截止膜,一面鍍?cè)鐾改硗瑫r(shí)提升紅外的截止性能和可見光的透過率,從下圖反射率對(duì)比圖可以看出藍(lán)玻璃短波方向透過率更高、整體透過率曲線過渡更圓滑,所以實(shí)拍效果se彩還原性更自然。光學(xué)鍍膜設(shè)備故障解決方法?河北光學(xué)鍍膜設(shè)備機(jī)廠
【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外,鏡頭的透過率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹脂作為鏡片基材,為了減少鏡片反射,提升透過率,我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜(減反膜),它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜,可在特定波長范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下,光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用,則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射,實(shí)驗(yàn)測得,光通過透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二),因此鍍?cè)鐾改た墒乖摴鈱W(xué)系統(tǒng)的透過率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對(duì)某一波段光線起作用,為了提升寬波段下鏡片透過率,手機(jī)鏡頭AR膜一般包含多個(gè)膜層,以材料折射率高低相間隔分布,通過建模軟件,每一層膜的厚度都被優(yōu)化,就可以改善光學(xué)元件在特定波長范圍內(nèi)的性能。從膜系層數(shù)而言,我們一般設(shè)定為1到8層,較多的膜層數(shù)能優(yōu)化寬光譜波段范圍內(nèi)的反射率,減弱光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)由于光線反射引起的鬼影。遼寧光學(xué)鍍膜設(shè)備機(jī)廠光學(xué)鍍膜設(shè)備廠家排名。
【檢測光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法】一種檢測光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性的方法,包括下列步驟:第一步:設(shè)計(jì)本發(fā)明雙腔濾光片膜系;第二步:模擬計(jì)算膜層厚度變化對(duì)所訴雙腔濾光片峰值透過率及中心波長的影響;第三步:計(jì)算尖峰極值點(diǎn)透過率比值與膜層光學(xué)厚度比值,中心波長與總光學(xué)厚度,兩組數(shù)學(xué)關(guān)系.第四步:根據(jù)第三步的數(shù)學(xué)關(guān)系,求解計(jì)算膜厚的公式;第五步:從工件盤中心到邊緣擺放數(shù)量大于2的基片,沉積本發(fā)明所述雙腔濾光片,測量出每一片的中心波長和尖峰極值透過率,用第四步的公式計(jì)算出每一片兩種膜層厚度,得到鍍膜機(jī)鍍膜膜厚度分布即膜厚均勻性.實(shí)驗(yàn)表明:本發(fā)明可以快速準(zhǔn)確獲得光學(xué)鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性數(shù)據(jù),為鍍膜機(jī)鍍膜膜厚均勻性修正提供依據(jù)。
【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后方法正確,補(bǔ)救的成功率比較高中斷的原因形式不一: ①停電 ②機(jī)器故障 ③人為中斷(發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤、疑問后中斷) 中斷后信息: (一)知道鍍到第幾層,已鍍各層的膜厚; (二)知道到第幾層,*后一層膜的膜厚不確定; (三)不知道鍍了多少。 光學(xué)鍍膜設(shè)備國內(nèi)有哪些產(chǎn)商?
【常見的光學(xué)鍍膜材料】常見的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種: 1、氟化鎂材料特點(diǎn):無se四方晶系粉末,純度高,用其制備光學(xué)鍍膜可提高透過率,不出崩點(diǎn)。 2、二氧化硅材料特點(diǎn):無se透明晶體,熔點(diǎn)高,硬度大,化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。 3、氧化鋯材料特點(diǎn) 白se重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點(diǎn) 光學(xué)鍍膜設(shè)備技術(shù)教程。陜西光學(xué)鍍膜設(shè)備平臺(tái)
光學(xué)鍍膜設(shè)備使用時(shí),需要注意哪些問題?河北光學(xué)鍍膜設(shè)備機(jī)廠
【光學(xué)薄膜的特點(diǎn)】表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。不同物質(zhì)對(duì)光有不同的反射、吸收、透射性能,光學(xué)薄膜就是利用材料對(duì)光的這種性能,并根據(jù)實(shí)際需要制造的。河北光學(xué)鍍膜設(shè)備機(jī)廠
成都國泰真空設(shè)備有限公司致力于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。國泰真空深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備。國泰真空致力于把技術(shù)上的創(chuàng)新展現(xiàn)成對(duì)用戶產(chǎn)品上的貼心,為用戶帶來良好體驗(yàn)。國泰真空創(chuàng)始人盧成,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務(wù)。