【光學(xué)鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式(層狀生長)】單層生長模式(Frank一VanderMerwe型),又稱之為弗蘭克一范德摩夫型,是層狀生長模式。該類型的生長便是業(yè)內(nèi)說的理想的外延生長,作為同質(zhì)外延,如若是異質(zhì)外延,在引入失配位錯之后,便形成外延生長。而在晶體失配位錯發(fā)生前,那些沉積的原子是根據(jù)基片的晶體同期來排列的。通常把這種結(jié)構(gòu)稱作“膺結(jié)構(gòu)”。這種膜生長一般是在光學(xué)鏡片鍍膜時,沉積的原子和基底原子之間的相互作用力很da,da過沉積的原子之間的聚合力的情況下,沉積的原子會構(gòu)成一種二維的簿層堆積,堆積成層狀的鍍膜生長模式。光學(xué)鍍膜設(shè)備怎么保養(yǎng)?廣西光學(xué)鍍膜設(shè)備保養(yǎng)
【光學(xué)鍍膜出現(xiàn)劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留,有些劃痕在鍍膜前不容易發(fā)現(xiàn),前工程檢驗和鍍前上傘檢查都不容易發(fā)現(xiàn),而在鍍膜后會將劃痕顯現(xiàn)。 2.各操作過程中的作業(yè)過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善思路:檢討個作業(yè)過程和相關(guān)器具材料,消除劃痕和膜傷。 (一)強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范。 (二)訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失。 (三)改善鏡片擺放間隔。 (四)改善鏡片搬運方法。 (五)改善擺放器具、包裝材料。 (六)改善超聲波清洗工藝參數(shù)。 (七)加強前工程檢驗和鍍前檢查 湖北萊寶光學(xué)鍍膜設(shè)備成都國泰光學(xué)鍍膜設(shè)備怎么樣?
【光學(xué)薄膜的定義】 涉及光在傳播路徑過程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過分層介質(zhì)膜層時的反射、透(折)射和偏振等特性,以達到我們想要的在某一或是多個波段范圍內(nèi)的光的全部透過或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光. 光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或duli基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性. 一般來說,光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝.所謂的干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個加工過程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到裝飾用的金se、銀se或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品.但是在實際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運用的范圍小于濕式涂布.濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。
【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光,折射光經(jīng)薄膜下表面反射,又經(jīng)上表面折射后得第二束光,這兩束光在薄膜的同側(cè),由同一入射振動分出,是相干光,屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源),則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉,故屬定域干涉。對兩表面互相平行的平面薄膜,干涉條紋定域在無窮遠,通常借助于會聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對楔形薄膜,干涉條紋定域在薄膜附近。 實驗和理論都證明,只有兩列光波具有一定關(guān)系時,才能產(chǎn)生干涉條紋,這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點: 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動方向相同; 兩束光波的相位差保持恒定。薄膜干涉兩相干光的光程差公式為: Δ=ntcos(α) ± λ/2 式中n為薄膜的折射率;t為入射點的薄膜厚度;α為薄膜內(nèi)的折射角;λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個界面(一個是光疏介質(zhì)到光密介質(zhì),另一個是光密介質(zhì)到光疏介質(zhì))上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣fan應(yīng)用于光學(xué)表面的檢驗、微小的角度或線度的精密測量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。 光學(xué)鍍膜設(shè)備技術(shù)教程。
【光學(xué)鍍膜基本原理】光的干涉在薄膜光學(xué)中廣fan應(yīng)用:光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在材料基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩se分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理。光學(xué)鍍膜設(shè)備培訓(xùn)資料。貴州光學(xué)鍍膜設(shè)備價格
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【入射光的反射定律】照射到任何表面的光遵守光的反射、折射定律。表面平整的物體(這里以可以透光的玻璃為例)放置在空氣中,有一束光照射前表面時,將在入射點O 發(fā)生反射和折射。普通玻璃的反射率在8%左右,存在著眩光刺眼和透射影象的清晰度低等問題,甚至造成環(huán)境的不協(xié)調(diào)。在平板顯示、光伏發(fā)電、汽車玻璃、攝像鏡頭等領(lǐng)域均存在減反射(Anti -Reflectance,簡稱AR)的需求。 AR膜又稱增量膜,其主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光,從而增加這些元件的透光量。AR膜是應(yīng)用*廣、產(chǎn)量*大的一種光學(xué)膜,很多領(lǐng)域必須鍍膜,否則無法達到應(yīng)用的要求。如由18塊透鏡組成的35mm 自動變焦照相機,如果每個玻璃和空氣的界面有4%的反射,則沒有AR 的鏡頭光透過率為27%,鍍膜一層(剩余反射1.3%)的鏡頭光透過率為66%,鍍膜多層(剩余反射0.5%)的為85%。廣西光學(xué)鍍膜設(shè)備保養(yǎng)
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