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廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-02-08

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否,可分為導(dǎo)電真空鍍膜(VM)和不導(dǎo)電真空鍍膜(NCVM)兩種。 VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導(dǎo)電,一般用在通訊類、3C類對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上,抽的速度會(huì)顯然變慢,當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級(jí)噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴(kuò)散泵油,并裝回機(jī)體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前,要注意檢漏工作。首先啟動(dòng)維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴(kuò)散泵部分真空度是否達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),否則要進(jìn)行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。 國(guó)產(chǎn)真空鍍膜機(jī)哪家好?廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

【機(jī)械泵分類】機(jī)械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。 機(jī)械泵是從da氣開(kāi)始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計(jì)與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級(jí)泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級(jí)機(jī)械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí),單位時(shí)間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計(jì)算:Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸氣結(jié)束時(shí)空腔截面積,L表示空腔長(zhǎng)度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過(guò)程,Vs表示當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時(shí)候,吸氣結(jié)束,此時(shí)空腔內(nèi)的體積*da,轉(zhuǎn)速為n。機(jī)械泵排氣的效果還與電機(jī)的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當(dāng)電機(jī)的皮帶比較松,電機(jī)轉(zhuǎn)速很慢的時(shí)候,機(jī)械泵的排氣效果也會(huì)變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點(diǎn)檢,機(jī)械泵油的密封效果也需要常常點(diǎn)檢,油過(guò)少,達(dá)不到密封效果,泵內(nèi)會(huì)漏氣,油過(guò)多,把吸氣孔堵塞,無(wú)法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。 河南蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)真空度多少?

【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate:膜層承受體。 試驗(yàn)基片testing substrate:在鍍膜開(kāi)始、鍍膜過(guò)程中或鍍膜結(jié)束后用作測(cè)量和(或)試驗(yàn)的基片。 鍍膜材料coating material:用來(lái)制取膜層的原材料。 蒸發(fā)材料evaporation material:在真空蒸發(fā)中用來(lái)蒸發(fā)的鍍膜材料。 濺射材料sputtering material:有真空濺射中用來(lái)濺射的鍍膜材料。 膜層材料(膜層材質(zhì))film material:組成膜層的材料。 蒸發(fā)速率evaporation rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),蒸發(fā)出來(lái)的材料量,除以該時(shí)間間隔 濺射速率sputtering rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),濺射出來(lái)的材料量,除以該時(shí)間間隔。 沉積速率deposition rate:在給定時(shí)間間隔內(nèi),沉積在基片上的材料量,除以該時(shí)間間隔和基片表面積。 鍍膜角度coating angle:入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng),在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí)),濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前*實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputter gun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30- 40%,圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse), 直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。 射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。 脈沖:泛用,*新發(fā)展出 電子束蒸發(fā)真空鍍膜機(jī)是什么?

【真空鍍膜機(jī)概述】: 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五da系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時(shí)間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值;因此,只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí),自動(dòng)化程序才會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機(jī)能長(zhǎng)時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn);降低故障時(shí)間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機(jī)器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機(jī)器利用率等。磁控濺射真空鍍膜機(jī)是什么?福建pvd真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)機(jī)組是怎樣的?廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料,把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點(diǎn)是基片相對(duì)于離子源和靶是du立的,它的溫度可以單獨(dú)控制?;ǔ=拥匚?,它和靶與高頻電路無(wú)關(guān),不會(huì)象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊,因而溫度較低。所以只要配置一臺(tái)較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型,控溫范圍為-10℃~50℃,精度≤0。5℃),實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品臺(tái)的單獨(dú)控溫,就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長(zhǎng)不同階段的溫度需要進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造,設(shè)計(jì)、加工了專門的金屬樣品架,放上樣品后蓋上金屬壓片,用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺(tái)上,可使樣品和控溫的樣品臺(tái)有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個(gè)測(cè)溫鉑電阻,用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊,再用導(dǎo)線引出與高精度的萬(wàn)用表相連,以監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中的樣品溫度。廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

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