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河北光學(xué)真空鍍膜機書籍

來源: 發(fā)布時間:2021-02-09

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。 適用材料: 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無模具費用,但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時進(jìn)行水轉(zhuǎn)印,時間成本一般每周期不會超過10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言,水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料,減少了廢料泄漏和材料浪費的可能。 真空鍍膜機的升級改造。河北光學(xué)真空鍍膜機書籍

【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中容易產(chǎn)生da量灰塵,這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中,時間久了容易對轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法:如果灰塵不多,可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵;如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統(tǒng)除掉灰塵。 2、旋片式真空泵冒煙和噴油:指旋片式真空泵在運轉(zhuǎn)中排氣口冒煙或者噴油,冒煙。處理方法:冒煙闡明泵的進(jìn)氣口外,包括管道、閥門、容器有修理的狀況。 3、噴油,闡明進(jìn)氣口外有da量的漏點,以至是進(jìn)氣口暴露da氣。處理方法:封住泵的進(jìn)氣口使泵運轉(zhuǎn),假如不噴油的話,闡明有漏點;排氣閥片損壞,檢查排氣閥片能否損壞,改換壞的排氣閥片。 4、被抽氣體的溫度可能過高。處理方法:降低被抽氣體的溫度,或能夠加一個相應(yīng)的換熱器。 5、配合的間隙改da。這是長期被抽氣體內(nèi)含有粉塵等,形成旋片和定子之間磨損后的間隙增da。處理方法:檢查間隙能否過da,改換新的零部件。 6、泵內(nèi)的油路不通或者不暢,泵腔內(nèi)沒有堅持一定量的油量。處理方法:檢查油路能否暢通,并加同類型的真空泵油。 四川真空鍍膜機哪家好真空鍍膜機的操作培訓(xùn)。

【真空鍍膜之金屬拉絲】金屬拉絲:是指通過研磨產(chǎn)品在工件表面形成線紋,并且起到裝飾效果的一種表面處理手段。根據(jù)拉絲后紋路的不同可分為:直紋拉絲、亂紋拉絲、波紋、旋紋 適用材料:幾乎所有的金屬材料都可以使用金屬拉絲工藝 工藝成本:工藝方法簡單,設(shè)備需求簡單,材料消耗比較少,成本比較低廉,經(jīng)濟效益尤其高 環(huán)境影響:純金屬制品,表面無油漆等任何化學(xué)化工物質(zhì),600度高溫不燃燒,不會產(chǎn)生有毒氣體,符合消防標(biāo)準(zhǔn)的環(huán)保要求

【真空鍍膜機之真空泵的安裝和指導(dǎo)】真空泵安裝指導(dǎo) 1、泵應(yīng)安裝在地面結(jié)實堅固的場所,周圍應(yīng)留有充分的余地,便于檢查、維護(hù)、保養(yǎng)。 2、泵底座下應(yīng)保持地基水平,底座四角處建議墊減震橡皮或用螺栓澆制安裝,確保泵運轉(zhuǎn)平穩(wěn),振動小。 3、泵與系統(tǒng)的連接管道應(yīng)密封可靠,對小泵可采用金屬管路連接密封墊采用耐油橡膠,對小泵可采用真空膠管連接,管道管徑不得小于泵吸氣口徑,且要求管路短而少彎頭。(焊接管路時應(yīng)qing除管道中焊渣,嚴(yán)禁焊渣進(jìn)入泵腔。) 4、在連接管路中,用戶可在泵進(jìn)氣口上方安裝閥門及真空計,隨時可檢查泵的極限壓力。 5、按電動機標(biāo)牌規(guī)定連接電源,并接地線和安裝合適規(guī)格的熔斷器及熱繼電器。 6、泵通電試運轉(zhuǎn)時,須取下電機皮帶,確認(rèn)泵轉(zhuǎn)向符合規(guī)定方向方可投入使用,以防泵反轉(zhuǎn)噴油。(轉(zhuǎn)向按防護(hù)罩指示方向) 7、對于有冷卻水的泵,按規(guī)定接通冷卻水。 8、如泵口安裝電磁閥時,閥與泵應(yīng)同時動作。 9、當(dāng)泵排出氣體影響工作環(huán)境時,可在排氣口裝接管道引離或裝接油霧過濾器?!?廣東真空鍍膜機廠家。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級),濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前*實用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機設(shè)備與工藝濺鍍機由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputter gun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30- 40%,圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse), 直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。 射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。 脈沖:泛用,*新發(fā)展出 真空鍍膜機公司的排名。湖南真空鍍膜機多少錢一臺

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【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等*高,Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-10原子/離子。 離子可以直流輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生,在10-1—10 Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。 正常輝光放電(glow discharge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。 任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。 河北光學(xué)真空鍍膜機書籍

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