【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。 表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機(jī)械打磨,化學(xué)處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處理就是對工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。 常用表面處理的工藝有:真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。 真空鍍膜機(jī)的工作原理。重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)
【真空鍍膜機(jī)電控柜的操作】 1、玻璃真空鍍膜機(jī)開水泵、氣源 2、開總電源 3、開維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。 4、開機(jī)械泵、予抽,開渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。 5、觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開電子qiang電源。 湖南真空鍍膜機(jī)多少錢一臺成都國泰真空鍍膜機(jī)怎么樣?
【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高,水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。 適用材料: 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印,適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無模具費(fèi)用,但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印,時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言,水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料,減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。
【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時(shí)間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。
【真空鍍膜之絲網(wǎng)印刷】絲網(wǎng)印刷:通過刮板的擠壓,使油墨通過圖文部分的網(wǎng)孔轉(zhuǎn)移到承印物上,形成與原稿一樣的圖文。絲網(wǎng)印刷設(shè)備簡單、操作方便,印刷、制版簡易且成本低廉,適應(yīng)性強(qiáng)。 常見的印刷品有:彩色油畫、招貼畫、名片、裝幀封面、商品標(biāo)牌以及印染紡織品等。 適用材料: 幾乎所有的材料都可以絲網(wǎng)印刷,包括紙張,塑料,金屬,陶藝和玻璃等。 工藝成本:模具費(fèi)用低,但是還是取決于顏色的數(shù)量,因?yàn)槊恳环N顏色都要單獨(dú)制版。人力成本偏高,尤其當(dāng)涉及到多彩印刷。 環(huán)境影響:淺色絲印油墨對環(huán)境影響較小,然而含有PVC和甲醛的油墨具有有害的化學(xué)物質(zhì),需及時(shí)回收和處理以防污染水資源。 真空鍍膜機(jī)的主要用途?河南高真空鍍膜機(jī)廠家
真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些?重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級),濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前*實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室,排氣系統(tǒng),濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang(sputter gun)。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型,其中平面型分為矩型和圓型,靶材料利用率30- 40%,圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為:直流(DC)、射頻(RF)、脈沖(pulse), 直流:800-1000V(Max)導(dǎo)體用,須可災(zāi)弧。 射頻:13.56MHZ,非導(dǎo)體用。 脈沖:泛用,*新發(fā)展出 重慶磁控濺射真空鍍膜機(jī)
成都國泰真空設(shè)備有限公司致力于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備,是一家生產(chǎn)型的公司。公司業(yè)務(wù)分為光學(xué)鍍膜設(shè)備,真空鍍膜設(shè)備,光學(xué)真空鍍膜機(jī),紅外鍍膜設(shè)備等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于機(jī)械及行業(yè)設(shè)備行業(yè)的發(fā)展。國泰真空秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。