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貴州濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-02-15

【光學(xué)薄膜的定義】 涉及光在傳播路徑過(guò)程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過(guò)分層介質(zhì)膜層時(shí)的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個(gè)波段范圍內(nèi)的光的全部透過(guò)或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光. 光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或duli基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性. 一般來(lái)說(shuō),光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝.所謂的干式就是沒(méi)有液體出現(xiàn)在整個(gè)加工過(guò)程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個(gè)固體基材的表面上,完成涂布加工.日常生活中所看到裝飾用的金se、銀se或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品.但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運(yùn)用的范圍小于濕式涂布.濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。 光學(xué)鍍膜設(shè)備相關(guān)資料。貴州濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備

【減反射的原理】光具有波粒二相性,即從微觀上既可以把它理解成一種波、又可以把他理解成一束高速運(yùn)動(dòng)的粒子增透膜的原理是把光當(dāng)成一種波來(lái)考慮的,因?yàn)楣獠ê蜋C(jī)械波一樣也具有干涉的性質(zhì)。在鏡頭前面涂上一層增透膜(一般是氟化鈣,微溶于水),如果膜的厚度等于紅光,在增透膜中波長(zhǎng)的四分之一時(shí),那么在這層膜的兩側(cè)反射回去的紅光就會(huì)發(fā)生干涉,從而相互抵消,人們?cè)阽R頭前將看不到一點(diǎn)反光,因?yàn)檫@束紅光已經(jīng)全部穿過(guò)鏡頭了。 以簡(jiǎn)單的單層增透膜為例。設(shè)膜的厚度為 e ,當(dāng)光垂直入射時(shí),薄膜兩表面反射光的光程差為 2ne,由于在膜的上、下表面反射時(shí)都有相位突變 ,結(jié)果沒(méi)有附加的相位差,兩反射光干涉相消時(shí)應(yīng)滿足:2ne=(k+1/2)λ,膜的*小厚度應(yīng)為(K=0 ):e=λ/4n 。由于反射光相消,因而透射光加強(qiáng)。單層增透膜只能使某個(gè)特定波長(zhǎng)λ 的光盡量減少反射,對(duì)于相近波長(zhǎng)的其他反射光也有不同程度的減弱,但不是減到*弱,對(duì)于一般的照相機(jī)和目視光學(xué)儀器,常選人眼*敏感的波長(zhǎng) λ =550nm 作為“制波長(zhǎng)”,在白光下觀看此薄膜的反射光,黃綠se光*弱,紅光藍(lán)光相對(duì)強(qiáng)一些,因此鏡面呈籃紫se。 中國(guó)臺(tái)灣光學(xué)鍍膜設(shè)備價(jià)格光學(xué)鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)?

【磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法】設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi),繞垂直軸線旋轉(zhuǎn),立式旋轉(zhuǎn)鼓中心設(shè)置有旋轉(zhuǎn)密封箱,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)設(shè)置有膜厚測(cè)量?jī)x表,旋轉(zhuǎn)密封箱的上部連接有旋轉(zhuǎn)軸,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓wai圍的真空鍍膜室的側(cè)壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設(shè)備的立式旋轉(zhuǎn)鼓的側(cè)面,對(duì)鍍膜設(shè)備抽真空;轉(zhuǎn)動(dòng)立式旋轉(zhuǎn)鼓達(dá)到設(shè)定的轉(zhuǎn)速;啟動(dòng)射頻離子源;交替啟動(dòng)第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶,按工藝要求鍍制膜層。

【光學(xué)真空鍍膜機(jī)如何保養(yǎng)】 一、定期更換擴(kuò)散泵油,擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間,約二個(gè)月,因在長(zhǎng)期高溫環(huán)境,雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵,但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng),擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解,使其品質(zhì)下降,而延長(zhǎng)抽氣時(shí)間。在我們認(rèn)為時(shí)間延長(zhǎng)得太多時(shí),應(yīng)予更換; 二、真空泵。機(jī)械泵油、維持泵油在使用二個(gè)月,油質(zhì)會(huì)發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因,而使用油粘性變差,真空下降,故需要更換。如為新設(shè)備,在使用頭半個(gè)月即應(yīng)更換,因在磨合期,油含磨合鐵粉較多,會(huì)加劇磨損。 三、要注意清潔衛(wèi)生。定期將設(shè)備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好,常保持設(shè)備內(nèi)外清潔,將設(shè)備周圍環(huán)境整理有條,有一個(gè)好的工作環(huán)境,以保安全。 成都國(guó)泰光學(xué)鍍膜設(shè)備怎么樣?

【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光,折射光經(jīng)薄膜下表面反射,又經(jīng)上表面折射后得第二束光,這兩束光在薄膜的同側(cè),由同一入射振動(dòng)分出,是相干光,屬分振幅干涉。若光源為擴(kuò)展光源(面光源),則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉,故屬定域干涉。對(duì)兩表面互相平行的平面薄膜,干涉條紋定域在無(wú)窮遠(yuǎn),通常借助于會(huì)聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對(duì)楔形薄膜,干涉條紋定域在薄膜附近。 實(shí)驗(yàn)和理論都證明,只有兩列光波具有一定關(guān)系時(shí),才能產(chǎn)生干涉條紋,這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點(diǎn): 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動(dòng)方向相同; 兩束光波的相位差保持恒定。薄膜干涉兩相干光的光程差公式為: Δ=ntcos(α) ± λ/2   式中n為薄膜的折射率;t為入射點(diǎn)的薄膜厚度;α為薄膜內(nèi)的折射角;λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個(gè)界面(一個(gè)是光疏介質(zhì)到光密介質(zhì),另一個(gè)是光密介質(zhì)到光疏介質(zhì))上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣fan應(yīng)用于光學(xué)表面的檢驗(yàn)、微小的角度或線度的精密測(cè)量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。 光學(xué)鍍膜設(shè)備的主要應(yīng)用。天津致密光學(xué)鍍膜設(shè)備

光學(xué)鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。貴州濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備

【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設(shè)計(jì)時(shí)的膜厚、折射率允差太小,試制時(shí)的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣,制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。設(shè)計(jì)的膜料折射率與實(shí)際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實(shí)被的中心波長(zhǎng)(膜厚)與希望達(dá)到的中心波長(zhǎng)(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯(cuò);如膜料用錯(cuò)、程序用錯(cuò)、預(yù)熔時(shí)沒(méi)關(guān)擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發(fā)速率、基片旋轉(zhuǎn)速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產(chǎn)的同種光學(xué)材料(基片材料和膜料)在光學(xué)性能化學(xué)性能有所不同(有時(shí)同廠家不同生產(chǎn)批次也有不同),生產(chǎn)過(guò)程中(特別是大批量生產(chǎn))材料突然變更(末作論證),就可能造成分光不良。 用于測(cè)試分光的比較片表面特性變異,造成分光測(cè)試不良(也許鏡片的分光是OK的,可以比較二者的反射膜se)。這也許是容易忽視的一個(gè)問(wèn)題,又是一個(gè)常見(jiàn)的可題,特別是高折射率的測(cè)試比較片表面形成一層腐蝕層,相當(dāng)于有了一層減反膜(很薄),膜層不是堆積在基片上,而是堆積在蝕層上,于是比較片上的分光就會(huì)不準(zhǔn)確、不穩(wěn)定。 貴州濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備

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