【關(guān)于反射式濾光片】在手機(jī)領(lǐng)域另一個(gè)應(yīng)用較多的是紅外截止濾光片又稱IR-cut Filter。從原理分有反射式濾光片和吸收式濾光片兩種，它們采用了不同的玻璃基材。 反射式濾光片原理是在普通光學(xué)玻璃上交替鍍多層高折射率光學(xué)膜，達(dá)到可見光波段的高透（400-630nm），近紅外波段光線的截止（700-1100nm），截止部分干擾成像質(zhì)量的近紅外光，因?yàn)橥ㄟ^反射方式截止紅外光線，所以容易產(chǎn)生二次反射，產(chǎn)生雜光和鬼影。 吸收式濾光片主要以藍(lán)玻璃為基材，通過藍(lán)玻璃中光吸收物質(zhì)來過濾紅外光，同時(shí)通過一面鍍紅外截止膜，一面鍍增透膜來同時(shí)提升紅外的截止性能和可見光的透過率，從下圖反射率對比圖可以看出藍(lán)玻璃短波方向透過率更高、整體透過率曲線過渡更圓滑，所以實(shí)拍效果se彩還原性更自然。紅外光學(xué)鍍膜設(shè)備制造商。安徽光學(xué)鍍膜設(shè)備保養(yǎng)

【柵網(wǎng)型離子源的加速過程】柵網(wǎng)組件通過向每個(gè)柵網(wǎng)施加特定電壓以從放電室提取離子。首先，屏柵相對于地為正偏壓(束流電壓)，因此放電室中的等離子體也相對于地為正偏壓。然后，加速柵相對于地為負(fù)偏壓(加速電壓)，并沿離子源中心線建立電場，放電室中靠近該電場漂移的正離子被加速。即使不使用減速柵，*外層的電勢*終也近似為零。減速柵的電位通常保持在接地電位加速的離子在通過加速柵之后減速并且以近似束流電壓的離子能量從柵網(wǎng)中射出由于已建立的電場，位于放電室或外層的電子被分離開來。浙江光學(xué)鍍膜設(shè)備國產(chǎn)光學(xué)鍍膜設(shè)備真空四個(gè)階段。

【薄膜干涉原理之光的波動性】19世紀(jì)60年代，美國物理學(xué)家麥克斯韋發(fā)展了電磁理論，指出光是一種電磁波，使波動說發(fā)展到了相當(dāng)完美的地步。 由光的波粒二象性可知，光同無線電波、X射線、一樣都是電磁波，只是它們的頻率不同。電磁波的波長λ、頻率u和傳播速率V三者之間的關(guān)系為：V=λu 由于各種頻率的電磁波在真空中德傳播速度相等，所以頻率不同的電磁波，它們的波長也就不同。頻率高的波長短，頻率低的波長長。為了便于比較，可以按照無線電波、紅外線、可見光、紫外線、X射線和伽瑪射線等的波長(或頻率)的大小，把它們依次排成一個(gè)譜，這個(gè)譜叫電磁波譜。 在電磁波譜中，波長*長的是無線電波，無線電波又因波長的不同而分為長波、中波、短波、超短波和微波等。其次是紅外線、可見光和紫外線，這三部分合稱光輻射。在所有的電磁波中，只有可見光可以被人眼所看到?？梢姽獾牟ㄩL約在0.76微米到0.40微米之間，只占電磁波譜中很小的一部分。再次是X射線。波長*短的電磁波是y射線。 光既然是一種電磁波，所以在傳播過程中，應(yīng)該變現(xiàn)出所具有的特征---干涉、衍射、偏振等現(xiàn)象。

【如何改善由于設(shè)計(jì)膜系導(dǎo)致的光譜特性不良】膜系設(shè)計(jì)時(shí)的膜厚、折射率允差太小，試制時(shí)的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。膜系設(shè)計(jì)中選用膜料的折射率應(yīng)與使用膜料使用機(jī)臺吻合。膜系設(shè)計(jì)盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%)，特別是敏感層，要有一定的允差(1%)。控制厚度與實(shí)際測試厚度的" tooling"值，要準(zhǔn)確,并經(jīng)常確認(rèn)調(diào)整。設(shè)計(jì)的技術(shù)要求必須高于圖紙?zhí)岢龅募夹g(shù)要求，設(shè)計(jì)時(shí)考慮基片變異層折射率變化帶來的影響，設(shè)計(jì)時(shí)考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。光學(xué)鍍膜設(shè)備國內(nèi)有哪些產(chǎn)商？

【如何清洗光學(xué)鍍膜機(jī)】設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí)，應(yīng)對工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時(shí)間長短以及不傷襯板為原則。 因此，襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。安裝襯板時(shí)，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。 光學(xué)鍍膜設(shè)備為什么會越來越慢？陜西af光學(xué)鍍膜設(shè)備

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【如何改善光譜特性不良】工作現(xiàn)場所用膜料、芯片、硝材生產(chǎn)廠家、型號一旦確認(rèn)不要經(jīng)常變更,必須變更的應(yīng)該多次確認(rèn)。杜絕、避兔作業(yè)過失的發(fā)生。強(qiáng)每罩鏡片的分光測試監(jiān)控,設(shè)置警戒分光曲線,及時(shí)調(diào)整膜系。測試比較片管理加強(qiáng),確保進(jìn)軍鍍膜的測試比較片表面無污染、新鮮、外觀達(dá)到規(guī)定要求。在使用前,對比較片作一次測試,測定其反射率(只測一個(gè)波長點(diǎn)就可以)測定值與理論之比較?一般測定值小于理論值(虜蝕層影響),如果二值之間差異較大(比如大于1%)就應(yīng)該考慮對比較片再復(fù)新、或更換。鏡片的分光測試要在基片完全冷卻后進(jìn)行。掌握晶控片敏感度變化規(guī)律,及時(shí)修正控制數(shù)據(jù)。晶控片在新的時(shí)候與使用了若干罩后的感度是不完全一樣的,芯片的聲阻抗值會有微小變化。有些品控儀(如C5)可以設(shè)置自動修正,而大部分品控儀沒有自動修正聲阻抗值的功能。掌握了品片敏感度的規(guī)律可以在膜原設(shè)置上矯正。改善晶控探頭的冷卻效果,晶片在溫度大于50C時(shí),測量誤差較大。采用離子輔助鍍膜的工藝,可以提高成膜分光特件的穩(wěn)定性。檢討該膜系在該機(jī)臺的光控適用性。檢討光控中的人為影響。經(jīng)常檢查光控的光路、信號、測試片等。安徽光學(xué)鍍膜設(shè)備保養(yǎng)

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