【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。 　　卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分。 真空鍍膜機(jī)的相關(guān)資料。廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來(lái)越廣fan。 適用材料： 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見(jiàn)的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無(wú)模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過(guò)10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。 四川光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠家真空鍍膜機(jī)廠家排名。

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點(diǎn)是基片相對(duì)于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨(dú)控制?；ǔ＝拥匚?，它和靶與高頻電路無(wú)關(guān)，不會(huì)象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺(tái)較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品臺(tái)的單獨(dú)控溫，就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長(zhǎng)不同階段的溫度需要進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造，設(shè)計(jì)、加工了專門(mén)的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺(tái)上，可使樣品和控溫的樣品臺(tái)有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個(gè)測(cè)溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導(dǎo)線引出與高精度的萬(wàn)用表相連，以監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)過(guò)程中的樣品溫度。

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開(kāi)水、電、氣→總電源→開(kāi)維持泵→開(kāi)擴(kuò)散泵加熱→開(kāi)粗抽泵→開(kāi)預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開(kāi)粗抽閥→開(kāi)羅茨泵→如有離子轟擊，開(kāi)轟擊30秒，關(guān)轟擊→開(kāi)真空計(jì)→當(dāng)真空到6.0~7.0pa時(shí)，關(guān)粗抽閥→開(kāi)前置閥→開(kāi)精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開(kāi)轉(zhuǎn)架→開(kāi)始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開(kāi)抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開(kāi)始操作。 特別注意： 1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。 2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。 3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。 4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴(kuò)散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計(jì)。 5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。 真空鍍膜機(jī)的操作視頻。

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來(lái)達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長(zhǎng)短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^da的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣。 真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？河南連續(xù)真空鍍膜機(jī)

離子真空鍍膜機(jī)是什么？廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之氮?dú)鉀_洗】 氮?dú)庠诓牧媳砻嫖綍r(shí)，由于吸附能小，因而吸留表面時(shí)間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮?dú)獾倪@種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng)，可以dada縮短系統(tǒng)的抽氣時(shí)間。如真空鍍膜機(jī)在放入da氣之前，先用干燥氮?dú)獬淙胝婵帐覜_刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時(shí)間可縮短近一半，其原因?yàn)榈钟璧奈侥苓h(yuǎn)比水氣分子小，在真空下充入氮?dú)夂?，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時(shí)間縮短了。如果系統(tǒng)被擴(kuò)散泵油噴濺污染了，還可以利用氮?dú)鉀_洗法來(lái)清洗被污染的系統(tǒng).一般是一邊對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行烘烤加熱，一邊用氮?dú)鉀_洗系統(tǒng)，可將油污染消除。 廣西高真空鍍膜機(jī)廠家

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