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四川光學(xué)鍍膜設(shè)備名稱

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-02-22

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學(xué)沉積法】化學(xué)氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應(yīng),在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。 在線CVD法鍍膜技術(shù),是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù),是目前世界上比較先進(jìn)的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進(jìn)人退火窯,且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國*早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù),能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括:原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 光學(xué)鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。四川光學(xué)鍍膜設(shè)備名稱

【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后方法正確,補(bǔ)救的成功率比較高中斷的原因形式不一: ①停電 ②機(jī)器故障 ③人為中斷(發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤、疑問后中斷) 中斷后信息: (一)知道鍍到第幾層,已鍍各層的膜厚; (二)知道到第幾層,*后一層膜的膜厚不確定; (三)不知道鍍了多少。 北京旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)鍍膜設(shè)備操作視頻。

【磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理】磁控濺射鍍膜設(shè)備的磁控濺射靶是采用靜止電磁場,而磁場是曲線型的,對數(shù)電場用于同軸圓柱形靶;均勻電場用于平面靶;S-qiang靶則位于兩者間.各部分的原理是一樣的. 電子受電場影響而加速飛向基材,在此過程中跟氬原子觸發(fā)碰撞.如果電子本身足夠30eV的能量的話,則電離出Ar?同時(shí)產(chǎn)生電子.電子依舊飛向基材,而Ar?受電場影響會(huì)移動(dòng)到陰極(也就是濺射靶),同時(shí)用一種高能量轟擊靶的表面,也就是讓靶材發(fā)生濺射. 在這些濺射粒子中,中性的靶分子或原子會(huì)沉積在基片上而成膜;而二次電子在加速飛向基材時(shí),在磁場的洛侖茲力影響之下,呈現(xiàn)螺旋線狀與擺線的復(fù)合形式在靶表面作一系列圓周運(yùn)動(dòng).該電子不但運(yùn)動(dòng)路徑長,還是被電磁場理論束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域范圍內(nèi).于此區(qū)內(nèi)電離出大量的Ar?對靶材進(jìn)行轟擊,所以說磁控濺射鍍膜設(shè)備的沉積速率高.

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法,Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下,利用高溫加熱蒸鍍材料(金屬合金或金屬氧化物)到一定溫度條件下, 使其原子或分子從表面汽化逸出,形成蒸汽流,并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生,所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件,大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應(yīng)法和激光蒸發(fā)法等。目前,采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn)。 離子光學(xué)鍍膜設(shè)備是什么?

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外,鏡頭的透過率對提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹脂作為鏡片基材,為了減少鏡片反射,提升透過率,我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜(減反膜),它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜,可在特定波長范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下,光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會(huì)產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用,則在6個(gè)表面都會(huì)發(fā)生反射,實(shí)驗(yàn)測得,光通過透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二),因此鍍增透膜可使該光學(xué)系統(tǒng)的透過率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對某一波段光線起作用,為了提升寬波段下鏡片透過率,手機(jī)鏡頭AR膜一般包含多個(gè)膜層,以材料折射率高低相間隔分布,通過建模軟件,每一層膜的厚度都被優(yōu)化,就可以改善光學(xué)元件在特定波長范圍內(nèi)的性能。從膜系層數(shù)而言,我們一般設(shè)定為1到8層,較多的膜層數(shù)能優(yōu)化寬光譜波段范圍內(nèi)的反射率,減弱光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)由于光線反射引起的鬼影。光學(xué)光學(xué)鍍膜設(shè)備制造商。河北金屬光學(xué)鍍膜設(shè)備

光學(xué)鍍膜設(shè)備的工作原理。四川光學(xué)鍍膜設(shè)備名稱

【如何改善由于設(shè)計(jì)膜系導(dǎo)致的光譜特性不良】膜系設(shè)計(jì)時(shí)的膜厚、折射率允差太小,試制時(shí)的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣,制造中稍有偏差就導(dǎo)致分光不良。膜系設(shè)計(jì)中選用膜料的折射率應(yīng)與使用膜料使用機(jī)臺(tái)吻合。膜系設(shè)計(jì)盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2%),特別是敏感層,要有一定的允差(1%)??刂坪穸扰c實(shí)際測試厚度的" tooling"值,要準(zhǔn)確,并經(jīng)常確認(rèn)調(diào)整。設(shè)計(jì)的技術(shù)要求必須高于圖紙?zhí)岢龅募夹g(shù)要求,設(shè)計(jì)時(shí)考慮基片變異層折射率變化帶來的影響,設(shè)計(jì)時(shí)考慮膜料的折射率変化及膜料之間、膜料與基片之間的匹配。四川光學(xué)鍍膜設(shè)備名稱

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