【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法，其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中，水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式，以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點主要有：①對靶材的面積和形狀不作要求，且可實現(xiàn)大面積鍍膜，且膜層均勻性好、膜厚可控、濺射工藝重復性好；②可用的膜材廣fan，只要能做成靶材的任何材料都可實現(xiàn)濺射，因此可制備絕大多數(shù)材料的薄膜，包括合金和化合物等；③薄膜與基片的附著力強，膜層純度高、致密；④成膜速度快，生產(chǎn)效率高。 光學鍍膜設(shè)備廠家qian十。北京光學鍍膜設(shè)備原理

【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設(shè)計時的膜厚、折射率允差太小，試制時的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣，制造中稍有偏差就導致分光不良。設(shè)計的膜料折射率與實際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實被的中心波長(膜厚)與希望達到的中心波長(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯;如膜料用錯、程序用錯、預熔時沒關(guān)擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發(fā)速率、基片旋轉(zhuǎn)速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產(chǎn)的同種光學材料(基片材料和膜料)在光學性能化學性能有所不同(有時同廠家不同生產(chǎn)批次也有不同),生產(chǎn)過程中(特別是大批量生產(chǎn))材料突然變更(末作論證),就可能造成分光不良。 用于測試分光的比較片表面特性變異,造成分光測試不良(也許鏡片的分光是OK的,可以比較二者的反射膜se)。這也許是容易忽視的一個問題,又是一個常見的可題,特別是高折射率的測試比較片表面形成一層腐蝕層,相當于有了一層減反膜(很薄),膜層不是堆積在基片上,而是堆積在蝕層上,于是比較片上的分光就會不準確、不穩(wěn)定。 上海光學鍍膜設(shè)備廠光學鍍膜設(shè)備日常怎么維護？

【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上，在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復制模具，即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下： ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座，模座上根據(jù)不同復制模具尺寸固定安裝模具（模具上有排列方式和紋路效果）； ---轉(zhuǎn)印設(shè)備的自動滴膠噴嘴會根據(jù)產(chǎn)品的用膠量預設(shè)好噴在模具上的光刻膠，膠層上面覆蓋菲林片（膜片）； ---機臺在完成覆蓋膜片工序后由人為確認擺放位置，然后進入到滾壓區(qū)，把膜片和膠水進行滾壓； ---機臺進入到固化區(qū)，由產(chǎn)品所需光固能量照射進行固化； ---機臺旋轉(zhuǎn)到剝離區(qū)，把膜片進行剝離； ---剝離的膜片上有轉(zhuǎn)印出模具效果（紋路、排列等）； ---使用尺寸合適的保護膜（PE/PET），利用覆膜機進行隔離保護并等待后工序。

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下， 使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產(chǎn)生，所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關(guān)鍵部件，大多數(shù)蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應法和激光蒸發(fā)法等。目前，采用真空蒸鍍法生產(chǎn)鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產(chǎn)。 光學鍍膜設(shè)備真空四個階段。

【磁控濺射鍍光學膜的技術(shù)路線】 （a）陶瓷靶濺射：靶材采用金屬化合物靶材，可以直接沉積各種氧化物或者氮化物，有時候為了得到更高的膜層純度，也需要通入一定量反應氣體）； （b）反應濺射：靶材采用金屬或非金屬靶，通入稀有和反應氣體的混合氣體，進行濺射沉積各種化合物膜層。 （c）離子輔助沉積：先沉積一層很薄的金屬或非金屬層，然后再引入反應氣體離子源，將膜層進行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術(shù)方案，在濺射沉積光學膜時，都會存在靶中毒現(xiàn)象，從而導致膜層沉積速度非常慢，對于上節(jié)介紹各種光學膜來說，膜層厚度較厚，膜層總厚度可達數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本，從而限制了磁控濺射鍍膜在光學上的應用。 光學鍍膜設(shè)備的工作原理和構(gòu)成。廣東光學鍍膜設(shè)備廠家

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【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光，折射光經(jīng)薄膜下表面反射，又經(jīng)上表面折射后得第二束光，這兩束光在薄膜的同側(cè)，由同一入射振動分出，是相干光，屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源)，則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉，故屬定域干涉。對兩表面互相平行的平面薄膜，干涉條紋定域在無窮遠，通常借助于會聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對楔形薄膜，干涉條紋定域在薄膜附近。 實驗和理論都證明，只有兩列光波具有一定關(guān)系時，才能產(chǎn)生干涉條紋，這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點： 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動方向相同; 兩束光波的相位差保持恒定。薄膜干涉兩相干光的光程差公式為：　Δ=ntcos(α) ± λ/2 　　式中n為薄膜的折射率;t為入射點的薄膜厚度;α為薄膜內(nèi)的折射角;λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個界面(一個是光疏介質(zhì)到光密介質(zhì)，另一個是光密介質(zhì)到光疏介質(zhì))上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣fan應用于光學表面的檢驗、微小的角度或線度的精密測量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。 北京光學鍍膜設(shè)備原理

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