【光學鍍膜的目的】:
&反射率的提高或透射率的降低
&反射率的降低或透射率的提高
&分光作用:中性分光、變se分光、偏極光分光
&光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用
&相位改變
&液晶顯示功能之影顯
&se光顯示、se光反射、偽chao及有價證券之防止
&光波的引導、光開關(guān)及集體光路
a. 在膜層中,波的干涉結(jié)果,如R%, T%都是與膜質(zhì)本身和兩邊界邊的折射率率有關(guān)系,相位變化也是如此。
b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高,有時反而降低,都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高(Ns為基底),若Nf 【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】
在完成母模制作的基礎(chǔ)之上,在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復制模具,即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。
工序流程如下:
---機臺上以玻璃或大理石材料為模座,模座上根據(jù)不同復制模具尺寸固定安裝模具(模具上有排列方式和紋路效果);
---轉(zhuǎn)印設(shè)備的自動滴膠噴嘴會根據(jù)產(chǎn)品的用膠量預設(shè)好噴在模具上的光刻膠,膠層上面覆蓋菲林片(膜片);
---機臺在完成覆蓋膜片工序后由人為確認擺放位置,然后進入到滾壓區(qū),把膜片和膠水進行滾壓;
---機臺進入到固化區(qū),由產(chǎn)品所需光固能量照射進行固化;
---機臺旋轉(zhuǎn)到剝離區(qū),把膜片進行剝離;
---剝離的膜片上有轉(zhuǎn)印出模具效果(紋路、排列等);
---使用尺寸合適的保護膜(PE/PET),利用覆膜機進行隔離保護并等待后工序。天津光學鍍膜設(shè)備名稱光學鍍膜設(shè)備哪個牌子的好? 【什么是薄膜干涉】薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得第yi束光,折射光經(jīng)薄膜下表面反射,又經(jīng)上表面折射后得第二束光,這兩束光在薄膜的同側(cè),由同一入射振動分出,是相干光,屬分振幅干涉。若光源為擴展光源(面光源),則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉,故屬定域干涉。對兩表面互相平行的平面薄膜,干涉條紋定域在無窮遠,通常借助于會聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對楔形薄膜,干涉條紋定域在薄膜附近。
實驗和理論都證明,只有兩列光波具有一定關(guān)系時,才能產(chǎn)生干涉條紋,這些關(guān)系稱為相干條件。薄膜的想干條件包括三點: 兩束光波的頻率相同; 束光波的震動方向相同; 兩束光波的相位差保持恒定。薄膜干涉兩相干光的光程差公式為: Δ=ntcos(α) ± λ/2
式中n為薄膜的折射率;t為入射點的薄膜厚度;α為薄膜內(nèi)的折射角;λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個界面(一個是光疏介質(zhì)到光密介質(zhì),另一個是光密介質(zhì)到光疏介質(zhì))上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣fan應(yīng)用于光學表面的檢驗、微小的角度或線度的精密測量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。
【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之三維核生長模式(島狀生長)】三維形核生長模式(島狀生長),三維形核生長模式(Volmec-Weber型),又稱之為沃爾默一韋伯型,是島狀生長模式。光學鏡片鍍膜按這樣方式形成時,首先是吸附于基片表面的一些原子發(fā)生遷徙的情況而形成原子團,也就是膜的形核,待至核的尺寸達到某一臨界值,也就是一個穩(wěn)定的核,而自蒸發(fā)源飛向基片的原子就在核上直接凝聚成島狀結(jié)構(gòu),再將這些小島連接起來而形成連續(xù)的一層鍍膜,所以才叫島狀的生長模式。這種膜生長一般是在真空鍍膜的原子間有很大的相互作用力的情況,加上鍍膜原子和基片的原子之間的相互作用力略小時,便會出現(xiàn)這種島狀生長方式而形成鍍膜層。光學鍍膜設(shè)備廠家qian十。 【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學沉積法】化學氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應(yīng),在基板表面上反應(yīng)沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)的主要制備技術(shù)。
在線CVD法鍍膜技術(shù),是在浮法玻璃生產(chǎn)過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術(shù),是目前世界上比較先進的鍍膜玻璃生產(chǎn)技術(shù)。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進人退火窯,且未被處理凈化。國外zui早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國zui早是用該法生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術(shù),能夠穩(wěn)定地生產(chǎn)硅質(zhì)鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產(chǎn)線包括:原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。
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【磁控濺射光學鍍膜設(shè)備及鍍膜方法】設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi),繞垂直軸線旋轉(zhuǎn),立式旋轉(zhuǎn)鼓中心設(shè)置有旋轉(zhuǎn)密封箱,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)設(shè)置有膜厚測量儀表,旋轉(zhuǎn)密封箱的上部連接有旋轉(zhuǎn)軸,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓wai圍的真空鍍膜室的側(cè)壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設(shè)備的立式旋轉(zhuǎn)鼓的側(cè)面,對鍍膜設(shè)備抽真空;轉(zhuǎn)動立式旋轉(zhuǎn)鼓達到設(shè)定的轉(zhuǎn)速;啟動射頻離子源;交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶,按工藝要求鍍制膜層。
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