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江西勝利光學(xué)鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時間:2021-02-24

【光學(xué)鍍膜加工需要注意什么】當(dāng)光線進入不同傳遞物質(zhì)時(如由空氣進入玻璃),大約有5%會被反射掉,在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個加起來可以讓入射光線損失到達30%至40%?,F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜,單層增透膜可使反射減少至1.5%,多層增透膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜,光線透穿率可達95%,鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫se或是紅se,鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠se或暗紫se。 光學(xué)鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播在過程中,在不同介質(zhì)的分界面上,由于邊界條件的不同,改變了其能量的分布,對于單層薄膜來說,當(dāng)增透膜兩邊介質(zhì)不同時,薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=(n1*n2)^(1/2)時(分別是介質(zhì)1、2的折射率),才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學(xué)透鏡都是在空氣中使用,對于一般折射率在1.5左右的光學(xué)玻璃,為使單層膜達到100%的增透效果,可使n1=1.23,或接近1.23離子光學(xué)鍍膜設(shè)備是什么?江西勝利光學(xué)鍍膜設(shè)備

【光學(xué)薄膜的特點分類】主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們在國民經(jīng)濟和**建設(shè)中得到廣fan的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視.例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性. *簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)膜層.在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì).當(dāng)一束單se光平面波入射到光學(xué)薄膜上時,在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅爾公式確定。 湖北光學(xué)鍍膜設(shè)備直銷光學(xué)鍍膜設(shè)備常見故障及解決方法。

【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之固體噴涂法】噴涂鍍膜技術(shù)是將一種或多種反應(yīng)氣體或有機金屬鹽化合物溶液的霧化顆?;蛴袡C金屬鹽粉末噴涂于熱玻璃表面而熱分解成膜的工藝方法。固體粉末噴涂法*初是由美國Ford汽車公司于20世紀80年代初應(yīng)用于浮法生產(chǎn)線上的一種鍍膜方法。 固體粉末噴涂法的鍍膜區(qū)一般設(shè)置在浮法玻璃生產(chǎn)線的過渡輾臺之后、退火窯之前的位置,也就是我們通常所說的退火窯A0區(qū)。其基本原理是將一種或多種組分的有機金屬鹽粉末,借助壓縮氣載體通過特制噴槍噴涂于熱玻璃表面,利用有機金屬鹽的高溫?zé)岱纸?,在玻璃表面形成一層金屬氧化物薄膜,反?yīng)廢氣、未反應(yīng)的固體粉末以及參與反應(yīng)但并未在玻璃表面成膜的物質(zhì)經(jīng)收塵設(shè)備及時排出窯外,以保持玻璃表面和窯內(nèi)的清潔。鍍膜機組設(shè)備主要由伺服往復(fù)式自動噴涂機、送料機、振動喂料機、收塵系統(tǒng)構(gòu)成。其中,伺服往復(fù)式自動噴涂機上安裝有噴槍,噴槍是將固體粉料噴涂于熱玻璃表面而成膜的重要裝置,其噴槍結(jié)構(gòu)、重量、噴涂角度等因素對噴涂效果能夠產(chǎn)生很大影響。

【光譜分光不良的補救處理】1.對于第(yi)種情況,比較好處理,只要確認前面鍍的沒錯,程序沒有用錯,就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時,交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般是0.2-1nm左右),如果該層剩下的膜厚已不足15-20秒蒸鍍時,要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不鍍,通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 2.對于第(二)(三)種情況的處理比較復(fù)雜一些 模擬:根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 測試比較片片是指隨鏡片-起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標(biāo)的**方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片(1-2片)或測試片,確認補se膜系的可行性補se鍍:對試鍍情況確認后實施補se鍍。補se鍍前,確認基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其它不良。 光學(xué)鍍膜設(shè)備該如何維修。

【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復(fù)地蒸鍍折射率較高的電介質(zhì)膜和折射率較低的電介質(zhì)膜時,可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會產(chǎn)生很少的反射。由于每層的電介質(zhì)膜的厚度都調(diào)節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d),在各層上反射的光線的相位相同,反射將相互合成加強。相反,經(jīng)過多重反射向透過方向前進的光線則相互抵消變?yōu)榱?。如果電介質(zhì)膜的層數(shù)足夠多,入射光線會逐漸減弱,變得幾乎不能透過。衰減的光線將全部轉(zhuǎn)為反射光。由于電解質(zhì)膜沒有吸收,入射的光線將沒有損失,成為100%的反射光。光學(xué)鍍膜設(shè)備主要用途?湖南旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備

磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備是什么?江西勝利光學(xué)鍍膜設(shè)備

【磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備及鍍膜方法】設(shè)備包含真空鍍膜室、磁控濺射靶組件、立式旋轉(zhuǎn)鼓,真空鍍膜室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),立式旋轉(zhuǎn)鼓位于真空鍍膜室內(nèi),繞垂直軸線旋轉(zhuǎn),立式旋轉(zhuǎn)鼓中心設(shè)置有旋轉(zhuǎn)密封箱,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)設(shè)置有膜厚測量儀表,旋轉(zhuǎn)密封箱的上部連接有旋轉(zhuǎn)軸,旋轉(zhuǎn)密封箱內(nèi)的氣氛與真空鍍膜室隔離。多組磁控濺射靶組件設(shè)置在立式旋轉(zhuǎn)鼓wai圍的真空鍍膜室的側(cè)壁上。鍍膜方法包括將需要鍍膜的工件裝卡到鍍膜設(shè)備的立式旋轉(zhuǎn)鼓的側(cè)面,對鍍膜設(shè)備抽真空;轉(zhuǎn)動立式旋轉(zhuǎn)鼓達到設(shè)定的轉(zhuǎn)速;啟動射頻離子源;交替啟動第一種材料的磁控靶靶和第二種材料的磁控靶,按工藝要求鍍制膜層。 江西勝利光學(xué)鍍膜設(shè)備

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