【光學(xué)鍍膜出現(xiàn)劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內(nèi)外有道子，膜內(nèi)的稱劃痕，膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個(gè)頑癥，雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)的劃痕: 1.前工程外觀不良?xì)埩?，有些劃痕在鍍膜前不容易發(fā)現(xiàn)，前工程檢驗(yàn)和鍍前上傘檢查都不容易發(fā)現(xiàn)，而在鍍膜后會將劃痕顯現(xiàn)。 2.各操作過程中的作業(yè)過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密，搬運(yùn)過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善思路:檢討個(gè)作業(yè)過程和相關(guān)器具材料，消除劃痕和膜傷。 （一）強(qiáng)化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范。 （二）訂立作業(yè)過失清單，監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失。 （三）改善鏡片擺放間隔。 （四）改善鏡片搬運(yùn)方法。 （五）改善擺放器具、包裝材料。 （六）改善超聲波清洗工藝參數(shù)。 （七）加強(qiáng)前工程檢驗(yàn)和鍍前檢查 光學(xué)鍍膜設(shè)備公司的排名。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備

【薄膜干涉原理之光的波動性】19世紀(jì)60年代，美國物理學(xué)家麥克斯韋發(fā)展了電磁理論，指出光是一種電磁波，使波動說發(fā)展到了相當(dāng)完美的地步。 由光的波粒二象性可知，光同無線電波、X射線、一樣都是電磁波，只是它們的頻率不同。電磁波的波長λ、頻率u和傳播速率V三者之間的關(guān)系為：V=λu 由于各種頻率的電磁波在真空中德傳播速度相等，所以頻率不同的電磁波，它們的波長也就不同。頻率高的波長短，頻率低的波長長。為了便于比較，可以按照無線電波、紅外線、可見光、紫外線、X射線和伽瑪射線等的波長(或頻率)的大小，把它們依次排成一個(gè)譜，這個(gè)譜叫電磁波譜。 在電磁波譜中，波長*長的是無線電波，無線電波又因波長的不同而分為長波、中波、短波、超短波和微波等。其次是紅外線、可見光和紫外線，這三部分合稱光輻射。在所有的電磁波中，只有可見光可以被人眼所看到。可見光的波長約在0.76微米到0.40微米之間，只占電磁波譜中很小的一部分。再次是X射線。波長*短的電磁波是y射線。 光既然是一種電磁波，所以在傳播過程中，應(yīng)該變現(xiàn)出所具有的特征---干涉、衍射、偏振等現(xiàn)象。 陜西旭日光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)鍍膜設(shè)備為什么會越來越慢？

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過率對提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過率，我們會在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長范圍內(nèi)將元器件表面的反射率*小化。未鍍膜的情況下，光學(xué)元件每個(gè)表面由于反射會產(chǎn)生約4%的能量損耗(圖一)。如果3個(gè)未鍍膜的透鏡組合使用，則在6個(gè)表面都會發(fā)生反射，實(shí)驗(yàn)測得，光通過透鏡組后共損耗21.7%的能量。如果存在AR增透膜每個(gè)表面的反射率將小于0.5%(圖二)，因此鍍增透膜可使該光學(xué)系統(tǒng)的透過率從78.3%提高至97%。通常情況下一層膜只對某一波段光線起作用，為了提升寬波段下鏡片透過率，手機(jī)鏡頭AR膜一般包含多個(gè)膜層，以材料折射率高低相間隔分布，通過建模軟件，每一層膜的厚度都被優(yōu)化，就可以改善光學(xué)元件在特定波長范圍內(nèi)的性能。從膜系層數(shù)而言，我們一般設(shè)定為1到8層，較多的膜層數(shù)能優(yōu)化寬光譜波段范圍內(nèi)的反射率，減弱光學(xué)系統(tǒng)內(nèi)由于光線反射引起的鬼影。

【如何改善光譜特性不良】工作現(xiàn)場所用膜料、芯片、硝材生產(chǎn)廠家、型號一旦確認(rèn)不要經(jīng)常變更,必須變更的應(yīng)該多次確認(rèn)。杜絕、避兔作業(yè)過失的發(fā)生。強(qiáng)每罩鏡片的分光測試監(jiān)控,設(shè)置警戒分光曲線,及時(shí)調(diào)整膜系。測試比較片管理加強(qiáng),確保進(jìn)軍鍍膜的測試比較片表面無污染、新鮮、外觀達(dá)到規(guī)定要求。在使用前,對比較片作一次測試,測定其反射率(只測一個(gè)波長點(diǎn)就可以)測定值與理論之比較?一般測定值小于理論值(虜蝕層影響),如果二值之間差異較大(比如大于1%)就應(yīng)該考慮對比較片再復(fù)新、或更換。鏡片的分光測試要在基片完全冷卻后進(jìn)行。掌握晶控片敏感度變化規(guī)律,及時(shí)修正控制數(shù)據(jù)。晶控片在新的時(shí)候與使用了若干罩后的感度是不完全一樣的,芯片的聲阻抗值會有微小變化。有些品控儀(如C5)可以設(shè)置自動修正,而大部分品控儀沒有自動修正聲阻抗值的功能。掌握了品片敏感度的規(guī)律可以在膜原設(shè)置上矯正。改善晶控探頭的冷卻效果,晶片在溫度大于50C時(shí),測量誤差較大。采用離子輔助鍍膜的工藝,可以提高成膜分光特件的穩(wěn)定性。檢討該膜系在該機(jī)臺的光控適用性。檢討光控中的人為影響。經(jīng)常檢查光控的光路、信號、測試片等。光學(xué)鍍膜設(shè)備該如何維修。

【光譜分光不良的具體情況】分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后方法正確,補(bǔ)救的成功率比較高中斷的原因形式不一： ①停電 ②機(jī)器故障 ③人為中斷(發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤、疑問后中斷) 中斷后信息： （一）知道鍍到第幾層,已鍍各層的膜厚； （二）知道到第幾層,*后一層膜的膜厚不確定； （三）不知道鍍了多少。 光學(xué)鍍膜設(shè)備怎么保養(yǎng)？四川uv光學(xué)鍍膜設(shè)備

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【柵網(wǎng)型離子源的加速過程】柵網(wǎng)組件通過向每個(gè)柵網(wǎng)施加特定電壓以從放電室提取離子。首先，屏柵相對于地為正偏壓(束流電壓)，因此放電室中的等離子體也相對于地為正偏壓。然后，加速柵相對于地為負(fù)偏壓(加速電壓)，并沿離子源中心線建立電場，放電室中靠近該電場漂移的正離子被加速。即使不使用減速柵，*外層的電勢*終也近似為零。減速柵的電位通常保持在接地電位加速的離子在通過加速柵之后減速并且以近似束流電壓的離子能量從柵網(wǎng)中射出由于已建立的電場，位于放電室或外層的電子被分離開來。上海光學(xué)鍍膜設(shè)備

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