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天津光學鍍膜設備機廠

來源: 發(fā)布時間:2021-03-03

【光學鍍膜出現(xiàn)劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留,有些劃痕在鍍膜前不容易發(fā)現(xiàn),前工程檢驗和鍍前上傘檢查都不容易發(fā)現(xiàn),而在鍍膜后會將劃痕顯現(xiàn)。 2.各操作過程中的作業(yè)過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善思路:檢討個作業(yè)過程和相關器具材料,消除劃痕和膜傷。 (一)強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范。 (二)訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失。 (三)改善鏡片擺放間隔。 (四)改善鏡片搬運方法。 (五)改善擺放器具、包裝材料。 (六)改善超聲波清洗工藝參數(shù)。 (七)加強前工程檢驗和鍍前檢查 光學鍍膜設備故障解決方法?天津光學鍍膜設備機廠

【光譜特性不良產(chǎn)生的原因】膜系設計時的膜厚、折射率允差太小,試制時的分光曲線在技術要求的邊緣,制造中稍有偏差就導致分光不良。設計的膜料折射率與實際的折射率有差異,或發(fā)生了變異。實被的中心波長(膜厚)與希望達到的中心波長(膜厚)有差異,或發(fā)生了変異。( tooling值(也有F值)有偏差)。制造中出了差錯;如膜料用錯、程序用錯、預熔時沒關擋板等。工藝條件改變:真空度、充氧星、加熱溫度、蒸發(fā)速率、基片旋轉速度、離子輔助條件等。材料變更,如不同廠家生產(chǎn)的同種光學材料(基片材料和膜料)在光學性能化學性能有所不同(有時同廠家不同生產(chǎn)批次也有不同),生產(chǎn)過程中(特別是大批量生產(chǎn))材料突然變更(末作論證),就可能造成分光不良。 用于測試分光的比較片表面特性變異,造成分光測試不良(也許鏡片的分光是OK的,可以比較二者的反射膜se)。這也許是容易忽視的一個問題,又是一個常見的可題,特別是高折射率的測試比較片表面形成一層腐蝕層,相當于有了一層減反膜(很薄),膜層不是堆積在基片上,而是堆積在蝕層上,于是比較片上的分光就會不準確、不穩(wěn)定。 新疆光學鍍膜設備管理光學鍍膜設備故障維修技巧有哪些?

【光學炫彩紋理的歷史】光學炫彩紋理早期名稱“UV紋理”,用于手機成型按鍵。2006年由日本人發(fā)明,在2007年開始大面積應用。早期的UV紋理主要作用不是用于外觀加強,而是用于手感增強,主要是以鋼板模具技術制作,技術和紋理十分粗糙。電鑄模具技術應運市場應運而生,優(yōu)點是比鋼板模具更精細,可以做出一些CD紋路的線條,即便紋理的細膩程度有所提升,制作模具的難度依然困擾著紋理工藝的發(fā)展。 PR(Photo Resist)模具技術隨后誕生,主要是通過曝光顯影的方式制作出微納米級別的紋理不僅線條更精細,而且可以將多種效果疊加在一起,實現(xiàn)多重疊加的特殊外觀效果。目前,鋼板模具和電鑄模具這兩種工藝很難做出比較精細化的紋理,基本已經(jīng)淘汰。所以當下國內(nèi)*常用的紋理制作技術是RP模具技術,也就是我們經(jīng)常提及的UV紋理轉印。

【光學真空鍍膜機如何保養(yǎng)】 一、定期更換擴散泵油,擴散泵油使用一段時間,約二個月,因在長期高溫環(huán)境,雖然較高真空時才啟動擴散泵,但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴散泵油起反應,擴散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解,使其品質(zhì)下降,而延長抽氣時間。在我們認為時間延長得太多時,應予更換; 二、真空泵。機械泵油、維持泵油在使用二個月,油質(zhì)會發(fā)生變化。因油可能抽入水分、雜質(zhì)及其它原因,而使用油粘性變差,真空下降,故需要更換。如為新設備,在使用頭半個月即應更換,因在磨合期,油含磨合鐵粉較多,會加劇磨損。 三、要注意清潔衛(wèi)生。定期將設備及其周圍環(huán)境衛(wèi)生搞好,常保持設備內(nèi)外清潔,將設備周圍環(huán)境整理有條,有一個好的工作環(huán)境,以保安全。 光學鍍膜設備使用時,需要注意哪些問題?

【光譜分光不良的補救處理】1.對于第(yi)種情況,比較好處理,只要確認前面鍍的沒錯,程序沒有用錯,就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時,交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般是0.2-1nm左右),如果該層剩下的膜厚已不足15-20秒蒸鍍時,要考慮降低蒸發(fā)速率或干脆不鍍,通過后續(xù)層調(diào)整膜厚解決。 2.對于第(二)(三)種情況的處理比較復雜一些 模擬:根據(jù)已經(jīng)實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 測試比較片片是指隨鏡片-起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現(xiàn)目標的**方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片(1-2片)或測試片,確認補se膜系的可行性補se鍍:對試鍍情況確認后實施補se鍍。補se鍍前,確認基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其它不良。 關于光學鍍膜設備,你知道多少?山東光學鍍膜設備租賃

光學鍍膜設備技術教程。天津光學鍍膜設備機廠

【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式(層狀生長)】單層生長模式(Frank一VanderMerwe型),又稱之為弗蘭克一范德摩夫型,是層狀生長模式。該類型的生長便是業(yè)內(nèi)說的理想的外延生長,作為同質(zhì)外延,如若是異質(zhì)外延,在引入失配位錯之后,便形成外延生長。而在晶體失配位錯發(fā)生前,那些沉積的原子是根據(jù)基片的晶體同期來排列的。通常把這種結構稱作“膺結構”。這種膜生長一般是在光學鏡片鍍膜時,沉積的原子和基底原子之間的相互作用力很da,da過沉積的原子之間的聚合力的情況下,沉積的原子會構成一種二維的簿層堆積,堆積成層狀的鍍膜生長模式。天津光學鍍膜設備機廠

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