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廣東舜宇光學鍍膜設備

來源: 發(fā)布時間:2021-10-19

【鍍膜玻璃的主要產生法之化學沉積法】化學氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質氣體,供給基板,利用氣相反應,在基板表面上反應沉積出所需固體薄膜的工藝技術,該技術已成為鍍膜玻璃生產的主要制備技術。 在線CVD法鍍膜技術,是在浮法玻璃生產過程中,連續(xù)沉積化合物薄膜的CVD工藝技術,是目前世界上比較先進的鍍膜玻璃生產技術。它是以潔凈、高速牽引(8-15m/min)、高溫(600℃)的浮法玻璃為沉積襯底。換言之,薄膜沉積前,玻璃襯底即將離開錫槽但尚未進人退火窯,且未被處理凈化。國外*早采用在線CVD法連續(xù)沉積Sn02薄膜,而我國*早是用該法生產硅質鍍膜玻璃。目前,我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術,能夠穩(wěn)定地生產硅質鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔凈玻璃。在線鍍膜玻璃生產線包括:原料→熔窯→錫槽→退火窯→切割→裝箱。 光學鍍膜設備為什么會越來越慢?廣東舜宇光學鍍膜設備

【如何清洗光學鍍膜機】設備使用一個星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時,應對工作室及襯板進行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里,氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。 因此,襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。安裝襯板時,真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。如使用電子qiang及離子源輔助鍍膜,可能會造成清潔困難,可使用噴沙等方法來清潔。 廣東舜宇光學鍍膜設備光學鍍膜設備廠家排名。

【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復地蒸鍍折射率較高的電介質膜和折射率較低的電介質膜時,可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會產生很少的反射。由于每層的電介質膜的厚度都調節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d),在各層上反射的光線的相位相同,反射將相互合成加強。相反,經過多重反射向透過方向前進的光線則相互抵消變?yōu)榱?。如果電介質膜的層數(shù)足夠多,入射光線會逐漸減弱,變得幾乎不能透過。衰減的光線將全部轉為反射光。由于電解質膜沒有吸收,入射的光線將沒有損失,成為100%的反射光。

【光學鍍膜出現(xiàn)劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內外有道子,膜內的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質改善中的一個頑癥,雖然很清楚產生的原因和改善方法但難以**。 產生原因: 膜內的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留,有些劃痕在鍍膜前不容易發(fā)現(xiàn),前工程檢驗和鍍前上傘檢查都不容易發(fā)現(xiàn),而在鍍膜后會將劃痕顯現(xiàn)。 2.各操作過程中的作業(yè)過失造成鏡片劃痕。 3.鏡片擺放太密,搬運過程中造成互相磕碰形成劃痕。鏡片的擺放器具、包裝材料造成鏡片表面擦傷。超聲波清洗造成的傷痕。 膜外傷痕(膜傷) 1.鏡片的擺放器具、包裝材料造成的膜傷。 2.鍍后超聲波清洗造成的膜傷。 3.各作業(yè)過程作業(yè)過失造成的膜傷。 改善思路:檢討個作業(yè)過程和相關器具材料,消除劃痕和膜傷。 (一)強化作業(yè)員作業(yè)規(guī)范。 (二)訂立作業(yè)過失清單,監(jiān)督作業(yè)員避免作業(yè)過失。 (三)改善鏡片擺放間隔。 (四)改善鏡片搬運方法。 (五)改善擺放器具、包裝材料。 (六)改善超聲波清洗工藝參數(shù)。 (七)加強前工程檢驗和鍍前檢查 光學鍍膜設備怎么保養(yǎng)?

【磁控濺射鍍光學膜的技術路線】 (a)陶瓷靶濺射:靶材采用金屬化合物靶材,可以直接沉積各種氧化物或者氮化物,有時候為了得到更高的膜層純度,也需要通入一定量反應氣體); (b)反應濺射:靶材采用金屬或非金屬靶,通入稀有和反應氣體的混合氣體,進行濺射沉積各種化合物膜層。 (c)離子輔助沉積:先沉積一層很薄的金屬或非金屬層,然后再引入反應氣體離子源,將膜層進行氧化或者氮化等。 采用以上三種技術方案,在濺射沉積光學膜時,都會存在靶中毒現(xiàn)象,從而導致膜層沉積速度非常慢,對于上節(jié)介紹各種光學膜來說,膜層厚度較厚,膜層總厚度可達數(shù)百納米。這種沉積速度顯然增加了鍍膜成本,從而限制了磁控濺射鍍膜在光學上的應用。 電子束蒸發(fā)光學鍍膜設備是什么?貴州各類光學鍍膜設備

光學鍍膜設備品牌有很多,你如何選擇?廣東舜宇光學鍍膜設備

【單層反射膜】線射入玻璃基板時,會產生4%左右的反射而造成透過率的損失。但是,通過在玻璃基板上蒸鍍比玻璃的折射率更低的電介質膜,可以改變玻璃基板的反射率。 調節(jié)電介質膜的厚度使其光程(折射率n×膜厚d)為λ/4時,可以相互抵消玻璃基板和電介質膜,電介質膜和空氣的分界面的反射,將反射率降到*低。   但是,由于折射率受到薄膜材料的限制,所以反射率不能完全為零。而且,由于受玻璃基板折射率的限制,所以并不是所有玻璃基板都能得到防反射效果。 廣東舜宇光學鍍膜設備

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