【減反射膜的透過(guò)量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過(guò)反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹(shù)脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（1.50＋1）平方＝0.04＝4%。 鏡片有兩個(gè)表面，如果R1為鏡片前表面的量，R2為鏡片后表面的反射量，則鏡片的總反射量R＝R1＋R2。（計(jì)算R2的反射量時(shí)，入射光為100%－R1）。鏡片的透光量T＝100%-R1-R2。 由此可見(jiàn)，高折射率的鏡片如果沒(méi)有減反射膜，反射光會(huì)對(duì)戴鏡者帶來(lái)的不適感比較強(qiáng)烈。 成都國(guó)泰光學(xué)鍍膜機(jī)怎么樣？安徽真空光學(xué)鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)正

【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】：帶通濾光片、短波截止濾光片、長(zhǎng)波截止濾光片。 帶通型濾光片：選定特定波段的光通過(guò)，通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(zhǎng)（CWL），半帶寬（FWHM)，中心波長(zhǎng)透過(guò)率（Tp），截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶，通常按帶寬比中心波長(zhǎng)的值來(lái)區(qū)分，小于2%來(lái)定為窄帶，大于2%定為寬帶。比如窄帶BP808-10濾光片，寬帶的如BP650-80。 短波通型(又叫低波通)：短于選定波長(zhǎng)的光通過(guò)，長(zhǎng)于該波長(zhǎng)的光截止。 比如紅外截止濾光片，IR-CUT-650。 長(zhǎng)波通型(又叫高波通)：長(zhǎng)于選定波長(zhǎng)的光通過(guò)，短于該波長(zhǎng)的光截止 比如紅外透過(guò)濾光片，LWP-700。 安徽真空光學(xué)鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)正光學(xué)鍍膜機(jī)技術(shù)教程。

【光學(xué)薄膜的研究新進(jìn)展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認(rèn)為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導(dǎo)率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學(xué)惰性強(qiáng)和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數(shù)jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導(dǎo)率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導(dǎo)彈的整流罩材料。 類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過(guò)金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無(wú)定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導(dǎo)率高、化學(xué)惰性強(qiáng)、良好的光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究?jī)r(jià)值和廣fan的應(yīng)用前景，引起學(xué)術(shù)界極大興趣。美國(guó)已經(jīng)將類金剛石薄膜材料作為國(guó)家21世紀(jì)的戰(zhàn)略材料之一。

【濺射鍍膜的特點(diǎn)】濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺鍍具有電鍍層與基材的結(jié)合力強(qiáng)，電鍍層致密，均勻等優(yōu)點(diǎn)。濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高，可生產(chǎn)10nm以下的極薄連續(xù)膜,靶材的壽命長(zhǎng)，可長(zhǎng)時(shí)間自動(dòng)化連續(xù)生產(chǎn)。靶材可制作成各種形狀，配合機(jī)臺(tái)的特殊設(shè)計(jì)做更好的控制及*有效率的生產(chǎn) 濺鍍利用高壓電場(chǎng)做發(fā)生等離子鍍膜物質(zhì)，使用幾乎所有高熔點(diǎn)金屬，合金和金屬氧化物，如：鉻，鉬，鎢，鈦，銀，金等．但加工成本相對(duì)較高。關(guān)于光學(xué)鍍膜機(jī)，你知道多少？

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同，波長(zhǎng)相同的光波疊加，那么光波的振幅增強(qiáng)；如果二個(gè)光波原由相同，波程相差，如果這二個(gè)光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí)，d=555/4=139nm 對(duì)于減反射膜層，許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波（波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過(guò)?。ā?39nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色，如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過(guò)厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色，我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中yang部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3）鍍減反射膜技術(shù) ：有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機(jī)鏡片在超過(guò)100 °C時(shí)便會(huì)發(fā)黃，隨后很快分解。 光學(xué)鍍膜機(jī)品牌排行。廣東光學(xué)鍍膜機(jī)原理

光學(xué)鍍膜機(jī)的工作原理和構(gòu)成。安徽真空光學(xué)鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)正

【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對(duì)靶面的陽(yáng)極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽(yáng)極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。 ①反應(yīng)濺射法：即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上，適用濺射化合物膜。 ②高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過(guò)匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行，適用濺射絕緣膜。 安徽真空光學(xué)鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)正

成都國(guó)泰真空設(shè)備有限公司辦公設(shè)施齊全，辦公環(huán)境優(yōu)越，為員工打造良好的辦公環(huán)境。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務(wù)，以誠(chéng)信、敬業(yè)、進(jìn)取為宗旨，以建錦成國(guó)泰產(chǎn)品為目標(biāo)，努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè)。公司以用心服務(wù)為重點(diǎn)價(jià)值，希望通過(guò)我們的專業(yè)水平和不懈努力，將一般項(xiàng)目：泵及真空設(shè)備制造‘泵及真空設(shè)備銷售；機(jī)械設(shè)備銷售；機(jī)械零件、零部件銷售；光學(xué)儀器銷售；光學(xué)玻璃銷售；功能玻璃和新型光學(xué)材料銷售；電子元器件批發(fā)；技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開(kāi)發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣。等業(yè)務(wù)進(jìn)行到底。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求，也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的光學(xué)鍍膜設(shè)備，真空鍍膜設(shè)備，光學(xué)真空鍍膜機(jī)，紅外鍍膜設(shè)備。