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云南玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

來源: 發(fā)布時間:2023-03-02

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學反應清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應速率的da小通過調(diào)整反應氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。真空鍍膜機故障解決方法?云南玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導電與否,可分為導電真空鍍膜(VM)和不導電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當操作不當應拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。在重新開機前,要注意檢漏工作。首先啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴散泵部分真空度是否達到標準,否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。成都AR/IR鍍膜空心陰極霍爾離子源源頭實力廠家真空鍍膜機的升級改造。

【真空鍍膜機真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機溶劑中,使之成為飽和溶液;然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面,這一過程中,為了提升效果、縮短浸泡時間,可以在抽真空或者加壓條件下對其進行浸泡。如果存在漏孔,熒光劑溶液會因毛細作用滲入到其中;qing除表面多余的溶液,待有機溶劑揮發(fā)后,熒光材料便會在漏孔中殘留下來;此時再用紫外線燈光照射,漏孔位置就會觀察到明顯的熒光點。在進行紫外光源照射時,對于一些存在盲孔、表面不平的器件,可能也會存在殘留熒光材料,因此玻璃真空器件好在背面進行照射觀察;為了提高對比度也可以采用濾光放da鏡,過濾掉紫外線以外的其他光線,來獲得更佳的觀察效果;而在熒光材料的選擇時要注意其發(fā)光顏色和被檢真空部件的顏色要有明顯的反差。熒光檢漏法不僅用于真空系統(tǒng)檢漏中,而且也被用于鑄件、模壓金屬件以及焊接件的裂紋檢查等。

【真空鍍膜真空的基本概念】:真空的劃分:粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr極高真空<10E&12Torr流導(導通量):表示真空管道通過氣體的能力,單位為升/秒(L/S)。一般情況下,管道越短,直徑越da,表面越光滑,越直的管道流導也越da。流量:單位時間內(nèi)流過任意截面的氣體量,單位為Torr·L/s或Pa·L/s。抽氣速率:在一定的壓強和溫度下,單位時間內(nèi)由泵進氣口處抽走的氣體稱為抽氣速率,簡稱抽速。單位一般為L/S或m3/hr或CFM。極限真空:真空容器經(jīng)充分抽氣后,穩(wěn)定在某一真空度,此真空度稱為極限真空。國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。

【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。真空鍍膜機是什么樣的?云南玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

真空鍍膜機的主要用途?云南玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計原則及常用技術(shù)指標】真空設(shè)備設(shè)計原則:(1)先功能,后結(jié)構(gòu)。先給出指標參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設(shè)計,后校核。由粗到細。鍍膜機常用技術(shù)指標:鍍膜方法:CVD,PVD(蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復合鍍);被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機)膜厚不均勻程度;功率;高電壓。云南玻璃鍍膜空心陰極霍爾離子源怎么選

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