【真空鍍膜機真空系統(tǒng)檢漏法之真空計檢漏法】常用的真空計檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計法與電離真空計法。以熱傳導(dǎo)真空計法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時，要保證被檢系統(tǒng)處于一個壓力不變的動態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會通過漏孔進入被檢系統(tǒng)，因為示漏氣體的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會發(fā)生波動變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計法利用的即是示漏氣體進入后導(dǎo)致的離子流變化來進行換算。真空系統(tǒng)檢漏中應(yīng)用真空計檢漏法要考慮示漏氣體種類與真空計的特性的配合，選擇示漏氣體對應(yīng)的特性差異要明顯有別于原有氣體成分，如熱傳導(dǎo)真空計的熱傳導(dǎo)能力、電離真空計的電離電位。其次為便于準(zhǔn)確地觀察前后數(shù)據(jù)變化，要保證被檢前被檢系統(tǒng)壓力處于穩(wěn)定的平衡狀態(tài)，測量的真空計規(guī)管也要處于穩(wěn)定的狀態(tài)，防止虛假數(shù)據(jù)誤導(dǎo)。同時真空計規(guī)管存在惰性，需要觀察足夠的時間。光學(xué)真空鍍膜機制造商。天津離子束清洗射頻離子源生產(chǎn)廠家

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴散泵抽真空腔的時候，機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動作。黑龍江真空鍍膜射頻離子源價格真空鍍膜機的工作原理和構(gòu)成。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后)，由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染)，通常要拆卸后重新處理再安裝．而用反應(yīng)氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理．有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理：在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學(xué)反應(yīng)清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化／還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì)，表面反應(yīng)速率的da小通過調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向，這些參數(shù)是不同的。

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。真空鍍膜機類型推薦。

【真空鍍膜機常見故障之旋片泵故障及處理方法】1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中容易產(chǎn)生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時間久了容易對轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統(tǒng)除掉灰塵。2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運轉(zhuǎn)中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進氣口外，包括管道、閥門、容器有修理的狀況。3、噴油，闡明進氣口外有da量的漏點，以至是進氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進氣口使泵運轉(zhuǎn)，假如不噴油的話，闡明有漏點；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞的排氣閥片。4、被抽氣體的溫度可能過高。處理方法：降低被抽氣體的溫度，或能夠加一個相應(yīng)的換熱器。5、配合的間隙改da。這是長期被抽氣體內(nèi)含有粉塵等，形成旋片和定子之間磨損后的間隙增da。處理方法：檢查間隙能否過da，改換新的零部件。6、泵內(nèi)的油路不通或者不暢，泵腔內(nèi)沒有堅持一定量的油量。處理方法：檢查油路能否暢通，并加同類型的真空泵油。成都真空鍍膜機的生產(chǎn)廠家。北京離子束清洗射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)

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【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會轟擊負電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點材料也容易濺鍍，但對非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。天津離子束清洗射頻離子源生產(chǎn)廠家

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