【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生,在10-1—10Pa真空度,在兩極間加高壓產(chǎn)生放電,正離子會轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材,而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜,即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍,但對非導(dǎo)體靶材須以射頻(RF)或脈沖(pulse)濺射;且因?qū)щ娦暂^差,濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬<5W/cm2。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。黑龍江光學(xué)鍍膜射頻離子源怎么選
【真空鍍膜機(jī)常見故障之旋片泵故障及處理方法】1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中容易產(chǎn)生da量灰塵,這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中,時間久了容易對轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。處理方法:如果灰塵不多,可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵;如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統(tǒng)除掉灰塵。2、旋片式真空泵冒煙和噴油:指旋片式真空泵在運(yùn)轉(zhuǎn)中排氣口冒煙或者噴油,冒煙。處理方法:冒煙闡明泵的進(jìn)氣口外,包括管道、閥門、容器有修理的狀況。3、噴油,闡明進(jìn)氣口外有da量的漏點(diǎn),以至是進(jìn)氣口暴露da氣。處理方法:封住泵的進(jìn)氣口使泵運(yùn)轉(zhuǎn),假如不噴油的話,闡明有漏點(diǎn);排氣閥片損壞,檢查排氣閥片能否損壞,改換壞的排氣閥片。4、被抽氣體的溫度可能過高。處理方法:降低被抽氣體的溫度,或能夠加一個相應(yīng)的換熱器。5、配合的間隙改da。這是長期被抽氣體內(nèi)含有粉塵等,形成旋片和定子之間磨損后的間隙增da。處理方法:檢查間隙能否過da,改換新的零部件。6、泵內(nèi)的油路不通或者不暢,泵腔內(nèi)沒有堅持一定量的油量。處理方法:檢查油路能否暢通,并加同類型的真空泵油。河南光學(xué)鍍膜射頻離子源真空鍍膜機(jī)品牌有很多,你如何選擇?
【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。系統(tǒng)原理通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。系統(tǒng)配置*自動化控制器:e-ControlPLC,是控制系統(tǒng)的硬件平臺。人機(jī)界面硬件:TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦,穩(wěn)定可靠。人機(jī)界面軟件:NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺,提供真空鍍膜機(jī)的控制和監(jiān)視。
【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計原則及常用技術(shù)指標(biāo)】真空設(shè)備設(shè)計原則:(1)先功能,后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設(shè)計,后校核。由粗到細(xì)。鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo):鍍膜方法:CVD,PVD(蒸發(fā)、濺射、離子鍍、復(fù)合鍍);被鍍工件的形狀、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生產(chǎn)方式:連續(xù)、半連續(xù)、周期式。生產(chǎn)周期。生產(chǎn)量。生產(chǎn)速率。技術(shù)參數(shù);設(shè)備極限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作氣氛;漏率、抽空時間、恢復(fù)真空時間。工作(烘烤)溫度;(熱處理爐、凍干機(jī))膜厚不均勻程度;功率;高電壓。PVD真空鍍膜機(jī)的公司。
【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種,也是簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法,因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì),通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率,從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單,但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話,靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時還需要確定其位置的話,就需要配合其他方法來進(jìn)行了。靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍,再關(guān)閉閥門,隔離真空泵與真空容器,然后用真空計測量記錄真空容器中壓力隨時間的變化過程,即可得出泄漏數(shù)據(jù)?!墩婵障到y(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原因》中,螺桿真空泵廠家介紹的判斷方法即是通過靜態(tài)升壓法實(shí)現(xiàn)的,比較方便。當(dāng)然在應(yīng)用過程中,要提高準(zhǔn)確性就要減少其他因素干擾,需要在檢測之前對容器進(jìn)行凈化清洗并烘干,或者用氮?dú)膺M(jìn)行沖洗。更嚴(yán)格一點(diǎn)可以在測量規(guī)管與容器之間設(shè)置冷阱,處理釋放的可凝氣體,而對可能存在的漏孔所漏進(jìn)的空氣不會造成影響。真空鍍膜機(jī)的培訓(xùn)資料。河南光學(xué)鍍膜射頻離子源
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國泰真空GTRF-17/GTRF-23射頻離子源直流源網(wǎng)滅弧采用特殊保護(hù)方式,可以在有效的保護(hù)網(wǎng)板的時候不停機(jī),不會導(dǎo)致客戶產(chǎn)品報廢。柵網(wǎng)采用獨(dú)特的加工工藝,確保柵網(wǎng)之間的曲率和平行度,網(wǎng)孔的中心距也做精密的調(diào)整,使得投射出來的離子束更均勻。射頻中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,點(diǎn)火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理,防止拆卸過程卡死,備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨(dú)裝配在一個電柜內(nèi),RF線纜做防輻射和泄漏處理,避免對通訊、控制信號的干擾,同時也做良好的散熱處理。黑龍江光學(xué)鍍膜射頻離子源怎么選
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