【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢？重慶光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)廠家

【真空鍍膜機(jī)之電鍍工藝】利用電解作用使零件表面附著一層金屬膜的工藝，從而起到防止金屬氧化，提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進(jìn)美觀等作用，不少硬幣的外層亦為電鍍。適用材料：多數(shù)金屬可以進(jìn)行電鍍但是不同的金屬具有不同等級(jí)的純度和電鍍效率。其中常見(jiàn)的有：錫，鉻，鎳，銀，金和銠；2.常用于電鍍的塑料為ABS。3.鎳金屬不可用于電鍍接觸皮膚的產(chǎn)品，因?yàn)殒噷?duì)皮膚有刺激性且有毒性。工藝成本：無(wú)模具費(fèi)用，但需要夾具對(duì)零件進(jìn)行固定/時(shí)間成本取決于溫度和金屬種類/人力成本（中-高），取決于具體電鍍件的種類，例如銀器和珠寶的電鍍就需要極高的熟練工人進(jìn)行操作，因?yàn)槠鋵?duì)外觀和耐久性的要求很高環(huán)境影響:da量有毒物質(zhì)會(huì)被用在電鍍過(guò)程中，所以需要專業(yè)的分流和提取，以確保小的環(huán)境影響。湖北真空鍍膜射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)真空鍍膜機(jī)的主要用途？

【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來(lái)的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時(shí)的工作壓力，而雙室結(jié)構(gòu)中的蒸鍍室氣體量較小，可配小型抽氣機(jī)組，使設(shè)備成本降低，并節(jié)約能源；③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣，可縮短抽氣時(shí)間。卷繞式真空鍍膜機(jī)在結(jié)構(gòu)上除了有一般鍍膜機(jī)所有的結(jié)構(gòu)外，必須有一個(gè)為了實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設(shè)置的卷繞機(jī)構(gòu)。由于被鍍基體是紙或塑料，放氣量較da，因此，在真空室的結(jié)構(gòu)上又有單室和多室之分。

【射頻離子源工作原理】：氣體通過(guò)一個(gè)專門設(shè)計(jì)的氣體絕緣器進(jìn)入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過(guò)電感耦合進(jìn)入放電室離化氣體。在產(chǎn)生plasma后、用柵網(wǎng)構(gòu)成的加速系統(tǒng)將離子引出。初，離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來(lái)加負(fù)電壓的加速柵網(wǎng)將離子束引出。被引出的離子形成離子束，向靶標(biāo)輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負(fù)電壓大小所決定。離子源設(shè)備能促進(jìn)光電產(chǎn)業(yè)升級(jí)，在國(guó)內(nèi)也是一項(xiàng)“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時(shí)間長(zhǎng)、對(duì)膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點(diǎn)。真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問(wèn)題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的較da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。離子真空鍍膜機(jī)是什么？寧夏真空鍍膜射頻離子源怎么選

真空鍍膜機(jī)的主要應(yīng)用。重慶光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)廠家

【真空鍍膜機(jī)之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術(shù)，表面的鋅層是一種電化學(xué)保護(hù)層，可以防止金屬腐壞，主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。適用材料：由于鍍鋅工藝依賴于冶金結(jié)合技術(shù)，所以只適合鋼和鐵的表面處理。工藝成本：無(wú)模具費(fèi)用，周期短/人力成本中等，因?yàn)楣ぜ谋砻尜|(zhì)量很da程度上取決于鍍鋅前的人工表面處理。環(huán)境影響：由于鍍鋅工藝增長(zhǎng)了鋼鐵件40-100年的使用壽命，很好的防止了工件的生銹和腐壞，所以對(duì)保護(hù)壞境有積極的作用。另外，鍍過(guò)鋅的工件在使用壽命到期后，可以重新送返鍍鋅槽，對(duì)液態(tài)鋅的反復(fù)利用不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)或物理廢料。重慶光學(xué)薄膜射頻離子源制造生產(chǎn)廠家

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