【光學鍍膜之CVD化學氣相沉積法反應(yīng)可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進來,以擴散機制傳輸基板表面。理想狀況下,前置物在基板上的濃度是零,亦即在基板上立刻反應(yīng),實際上并非如此。 (2)前置反應(yīng)物吸附在基板上,此時仍容許該前置物在基板上進行有限程度的表面橫向移動。 (3)前置物在基板上進行化學反應(yīng),產(chǎn)生沉積物的化學分子,然后經(jīng)積聚成核、遷移、成長等步驟,*后聯(lián)合一連續(xù)的膜。 (4)把多余的前置物以及未成核的氣體生成物去吸附。 (5)被去吸附的氣體,以擴散機制傳輸?shù)街髁鳉庀?,并?jīng)傳送排出。 光學鍍膜機真空四個階段。江西維修光學鍍膜機
【光學薄膜的特點】表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復雜得多。這是因為:制備時,薄膜的光學性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,其表面和界面是粗糙的,從而導致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各向異性;膜層具有復雜的時間效應(yīng)。不同物質(zhì)對光有不同的反射、吸收、透射性能,光學薄膜就是利用材料對光的這種性能,并根據(jù)實際需要制造的。湖北鼎新機械光學鍍膜機光學鍍膜機的產(chǎn)業(yè)集群。
【光學鍍膜機的清洗】設(shè)備使用一個星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時,應(yīng)對工作室及襯板進行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里,氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。 注:襯板必須烘干水份才能安裝,烘干前,襯板的水分盡量抹干,工作架等部件用砂紙清潔后,需要把真空室的所有灰塵清理干凈,此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時,真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。 因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜,可能會造成清潔困難,可使用噴沙等方法來清潔。
【光學鍍膜之蒸發(fā)源的類型和特點】 ①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì) 。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。 ③電子束加熱源:用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000℃)的材料。 特點:能在金屬、半導體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜,其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的??梢圆煌某练e速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜,因而可得到不同顯微結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)(單晶、多晶或非晶等)的薄膜; 薄膜的純度很高;易于在線檢測和控制薄膜的厚度與成分;厚度控制精度*高可達單分子層量級。 廣東光學鍍膜機廠家。
【光學鍍膜機維護與保養(yǎng)之光路的檢修與維護】光路調(diào)整的先決條件是:確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學膜厚測量儀的接地點,必須單獨歸至主機接點牢固接地。 導磁板及掃描圈的維護:導磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護,如需拆卸,請注意永磁鐵的極向,及導磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實,請不要使用硬尖的東西撬動,否則有可能會造成損壞。 光學鍍膜機是什么樣的?浙江光學鍍膜機觀察窗玻璃
光學鍍膜機的應(yīng)用領(lǐng)域。江西維修光學鍍膜機
【光學薄膜制備技術(shù)之物理qi相學沉積(PVD)】 物理qi相沉積法,簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽,蒸汽再凝結(jié)到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同,又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā):光學薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造,此方法簡單、經(jīng)濟、操作方便。 2) 濺射:指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面,通過動量傳遞,使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射),在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強,純度高,可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍:兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果,離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍:在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器—離子源,產(chǎn)生離子束,在熱蒸發(fā)進行的同時,用離子束轟擊正在生長的膜層,形成致密均勻結(jié)構(gòu)(聚集密度接近于1),使膜層的穩(wěn)定性提高,達到改善膜層光學和機械性能。 江西維修光學鍍膜機
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