三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約～，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點(diǎn)。 光學(xué)鍍膜機(jī)可以制造出具有高反射率或低反射率的薄膜，可以用于制zf射鏡或透鏡等。江西光學(xué)鍍膜機(jī)好不好

【光學(xué)鍍膜之什么是蒸發(fā)鍍】通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。 薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。江西光學(xué)鍍膜機(jī)好不好光學(xué)鍍膜機(jī)可以用于制造各種光學(xué)元件，如鏡片、濾光片、反射鏡等。

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動(dòng)性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個(gè)振幅相同，波長(zhǎng)相同的光波疊加，那么光波的振幅增強(qiáng)；如果二個(gè)光波原由相同，波程相差，如果這二個(gè)光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長(zhǎng)。d=λ/4 λ=555nm時(shí)，d=555/4=139nm 對(duì)于減反射膜層，許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波（波長(zhǎng)為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過薄（〈139nm),反射光會(huì)顯出淺棕黃色，如果呈藍(lán)色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會(huì)有殘留的顏色，我們也會(huì)發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中yang部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3）鍍減反射膜技術(shù) ：有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機(jī)鏡片在超過100 °C時(shí)便會(huì)發(fā)黃，隨后很快分解。

    【光學(xué)鍍膜之何為濺射鍍】用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上?；糜谡龑?duì)靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。①反應(yīng)濺射法：即將反應(yīng)氣體(O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上，適用濺射化合物膜。②高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上沉積。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對(duì)靶的濺射持續(xù)進(jìn)行，適用濺射絕緣膜。 成都國泰真空設(shè)備有限公司專做光學(xué)鍍膜機(jī)歡迎前來咨詢。

【光學(xué)鍍膜為什么需要鍍減反射膜之鏡面反射和“鬼影”】1）鏡面反射：光線通過鏡片的前后表面時(shí)，不但會(huì)產(chǎn)生折射，還會(huì)產(chǎn)生反射。這種在鏡片前表面產(chǎn)生的反射光會(huì)使別人看戴鏡者眼睛時(shí)，看到的卻是鏡片表面一片白光。拍照時(shí)，這種反光還會(huì)嚴(yán)重影響戴鏡者的美觀。 2）"鬼影"：眼鏡光學(xué)理論認(rèn)為眼鏡片屈光力會(huì)使所視物體在戴鏡者的遠(yuǎn)點(diǎn)形成一個(gè)清晰的像，也可以解釋為所視物的光線通過鏡片發(fā)生偏折并聚集于視網(wǎng)膜上，形成像點(diǎn)。但是由于屈光鏡片的前后表面的曲率不同，并且存在一定量的反射光，它們之間會(huì)產(chǎn)生內(nèi)反射光。內(nèi)反射光會(huì)在遠(yuǎn)點(diǎn)球面附近產(chǎn)生虛像，也就是在視網(wǎng)膜的像點(diǎn)附近產(chǎn)生虛像點(diǎn)。這些虛像點(diǎn)會(huì)影響視物的清晰度和舒適性。關(guān)于光學(xué)鍍膜機(jī)，你知道多少？江蘇光學(xué)鍍膜機(jī)難不難學(xué)

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