【光學薄膜制備技術之物理qi相學沉積(PVD)】物理qi相沉積法，簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術。1)熱蒸發(fā)：光學薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡單、經濟、操作方便。2)濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過動量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強，純度高，可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。3)離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。4)離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術中增設離子發(fā)生器—離子源，產生離子束，在熱蒸發(fā)進行的同時，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結構(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達到改善膜層光學和機械性能。 光學鍍膜機技術教程；重慶光學鍍膜機真空抽過顏色會怎么樣

【鍍膜玻璃的主要產生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，VacuumEvaporation)是指在一定的真空條件下，利用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金屬氧化物）到一定溫度條件下，使其原子或分子從表面汽化逸出，形成蒸汽流，并飛行濺射到玻璃基板表面凝結形成固態(tài)薄膜的方法。由于真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發(fā)材料而產生，所以又稱熱蒸發(fā)法。蒸發(fā)源作為蒸發(fā)裝置的關鍵部件，大多數蒸發(fā)材料都要求在1000-2000℃的高溫下蒸發(fā)。真空蒸鍍法按蒸發(fā)源的不同可分為電阻法、電子束蒸發(fā)法、高頻感應法和激光蒸發(fā)法等。目前，采用真空蒸鍍法生產鍍膜玻璃的均是采用間歇式生產。廣西新克隆光學鍍膜機原理歡迎咨詢成都國泰真空設備有限公司。

    【光學薄膜的研究新進展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認為是自然界中較硬的物質。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結構的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學惰性強和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數jin為。金剛石薄膜的高熱導率、高摩擦系數和良好的透光性也使其常作為導彈的整流罩材料。類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過金剛石硬度20%的絕緣硬質無定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導率高、化學惰性強、良好的光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究價值和廣fan的應用前景，引起學術界極大興趣。美國已經將類金剛石薄膜材料作為國家21世紀的戰(zhàn)略材料之一。

二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像質量，涂鍍一層或多層透明介質膜，稱為增透膜或減反射膜。光學鍍膜機真空度多少？

    【光學鍍膜之何為化學氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點有哪些】化學氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學反應，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達到1μm/min(3)與PVD比較的話?；瘜W量論組成或合金的鍍膜較容易達成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時鍍數十芯片缺點:(1)熱力學及化學反應機制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產生作用(3)反應氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時需小心(4)反應生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質。 光學鍍膜機哪個牌子的好？安徽振華2700光學鍍膜機

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    【光學鍍膜機的清洗】設備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設備抽氣越來越慢。此時，應對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。 重慶光學鍍膜機真空抽過顏色會怎么樣

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