【光學(xué)真空鍍膜之電子qiang蒸鍍系統(tǒng)注意事項(xiàng)】 光學(xué)真空鍍膜機(jī)電子qiang蒸鍍法比傳統(tǒng)熱電阻式加熱法的熱轉(zhuǎn)換效率高而秏能少,對(duì)蒸鍍材料的選擇方面受限較少。以純?cè)刂翦兌?電阻式蒸鍍受限于加熱溫度,多半只從事鋁、鉻、金、銀等少數(shù)幾種薄膜，電子束蒸鍍則可制鍍高熔點(diǎn)材料如鎢、鉬等金屬和活性甚強(qiáng)的鈦、鈮等金屬,即便是很難使用濺鍍技術(shù)制備的磁性材料如鐵、鈷、鎳等金屬,亦能夠蒸鍍出品質(zhì)良好的薄膜。為了顧及薄膜純度,在操作技巧上純?cè)刂翦兺ǔ２扇「哒婵斩扰c高蒸鍍速率的鍍膜條件。化合物材料如氧化物、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用電子qiang蒸鍍方式,部份材料在被電子束加熱蒸發(fā)過程中會(huì)因高熱而發(fā)生解離現(xiàn)象,這也是蒸鍍法的主要缺點(diǎn),通常是采用反應(yīng)式蒸鍍方式解決,為了確保薄膜形成時(shí)缺乏的部份能利用基板高溫在反應(yīng)過程將其補(bǔ)足,在操作上鍍膜速率必須適切地降低。部分屬于絕緣性的化合物在連續(xù)被電子轟擊時(shí)會(huì)有負(fù)電荷累積問題,使得后續(xù)電子受負(fù)電位排斥而無(wú)法完全抵達(dá)待鍍材料表面,因此坩堝座在電路設(shè)計(jì)上是使其呈接地電位,以協(xié)助累積之負(fù)電荷順利導(dǎo)出,這在小型坩堝是相當(dāng)有效,但對(duì)大型坩堝則很難避免有些許鍍膜速率不穩(wěn)定情形。國(guó)產(chǎn)光學(xué)鍍膜機(jī)廠商推薦。海南gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

    【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點(diǎn)有哪些】化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。優(yōu)點(diǎn):(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆(2)沉積速率快，大氣CVD可以達(dá)到1μm/min(3)與PVD比較的話。化學(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達(dá)成(4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等(5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷(6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時(shí)鍍數(shù)十芯片缺點(diǎn):(1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機(jī)制不易了解或不甚了解(2)需要在高溫下進(jìn)行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用(3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時(shí)需小心(4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì)。 上海光學(xué)鍍膜機(jī)好不好光學(xué)鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？

    【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進(jìn)行的，放置在真空艙內(nèi)的離子qiang將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進(jìn)行減反射膜的鍍膜。2）真空鍍膜：真空蒸發(fā)工藝能夠保證將純質(zhì)的鍍膜材料鍍于鏡片的表面，同時(shí)在蒸發(fā)過程中，對(duì)鍍膜材料的化學(xué)成分能嚴(yán)密控制。真空蒸發(fā)工藝能夠?qū)τ谀拥暮穸染_控制，精度達(dá)到。3）膜層牢固性：對(duì)眼鏡片而言，膜層的牢固性是至關(guān)重要的，是鏡片重要的質(zhì)量指標(biāo)。鏡片的質(zhì)量指標(biāo)包括鏡片抗磨損、抗文化館、抗溫差等。因此現(xiàn)在有了許多針對(duì)性的物理化學(xué)測(cè)試方法，在模擬戴鏡者的使用條件下，對(duì)鍍膜鏡片進(jìn)行膜層牢度質(zhì)量的測(cè)試。這些測(cè)試方法包括：鹽水試驗(yàn)、蒸汽試驗(yàn)、去離子水試驗(yàn)、鋼絲絨磨擦試驗(yàn)、溶解試驗(yàn)、黏著試驗(yàn)、溫差試驗(yàn)和潮濕度試驗(yàn)等等。

光學(xué)鍍膜由薄膜層組合而成，它會(huì)產(chǎn)生干涉效應(yīng)來改變光學(xué)系統(tǒng)的透射或反射性能。光學(xué)鍍膜的性能取決于層數(shù)、每層的厚度和不同層之間的折射率。精密光學(xué)中常見鍍膜類型有：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和濾光片膜（短波通，長(zhǎng)波通，陷波等）。增透膜適用于大多數(shù)折射光學(xué)件，可以增大光通量并減少不必要的反射。高反射膜可以在單個(gè)波長(zhǎng)或某段波長(zhǎng)范圍內(nèi)提供比較大反射，多用于反射鏡。分光鏡膜用于將入射光分為透射光和反射光輸出。濾光片鍍膜適用于大量生命科學(xué)和醫(yī)學(xué)應(yīng)用，能夠以特定波長(zhǎng)透射、反射、吸收或衰減光。愛特蒙特光學(xué)還可以提供各種定制鍍膜，滿足您的應(yīng)用需求。光學(xué)鍍膜機(jī)技術(shù)教程。

    （一）電子槍頭電子槍的***頭安裝好壞直接影響到工作的正常進(jìn)行，其發(fā)生的故障有90%同電子槍***頭有關(guān)。電子槍***頭有使用一段時(shí)間后，會(huì)因?yàn)榻M件的污染而影響電子束的成型及功率，需要拆卸清潔。（二）坩堝的維護(hù)拆坩堝之前，請(qǐng)先關(guān)掉水路用壓縮空氣把電子槍冷卻管內(nèi)的水分盡可能吹干凈。蒸發(fā)源裝卸順序：1.拆落兩條冷卻水連接管。2.擰出電子槍***頭連接高壓線兩個(gè)螺絲。3.拆坩堝傳動(dòng)連接座、聯(lián)軸器。4.擰落蒸發(fā)源四個(gè)固定螺絲。5.把蒸發(fā)源搬運(yùn)到一個(gè)穩(wěn)定平整的工作臺(tái)。6.拆落坩堝蓋板四個(gè)螺絲，取下蓋板打磨干凈。7.檢查蓋板上面兩個(gè)密封圈是否需要更換。8.把蒸發(fā)源反轉(zhuǎn)過來倒置，用木板墊住坩堝部分。9.擰下固定坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)四個(gè)螺絲10.抬起蒸發(fā)源，取下坩堝11.把坩堝倒置，擰下坩堝底蓋的八個(gè)螺絲，清洗干凈里面的污垢，檢查是否需要近密封圈。12.擰下導(dǎo)水管的一個(gè)螺絲13.擰下坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)與坩堝蓋板連接的四個(gè)螺絲14.撥出坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)軸，檢查轉(zhuǎn)動(dòng)軸的油封是否需要換件15.把坩堝清潔干凈安裝。安裝按上面的倒過順序來進(jìn)行。（三）導(dǎo)磁板及掃描圈的維護(hù)導(dǎo)磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護(hù)，如需拆卸，請(qǐng)注意永磁鐵的極向，及導(dǎo)磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實(shí)。 光學(xué)鍍膜機(jī)品牌有很多，你如何選擇？河北光學(xué)鍍膜機(jī)轉(zhuǎn)讓

光學(xué)鍍膜機(jī)哪個(gè)牌子的好？海南gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（1.50＋1）平方＝0.04＝4%。 鏡片有兩個(gè)表面，如果R1為鏡片前表面的量，R2為鏡片后表面的反射量，則鏡片的總反射量R＝R1＋R2。（計(jì)算R2的反射量時(shí)，入射光為100%－R1）。鏡片的透光量T＝100%-R1-R2。 由此可見，高折射率的鏡片如果沒有減反射膜，反射光會(huì)對(duì)戴鏡者帶來的不適感比較強(qiáng)烈。海南gmk光學(xué)鍍膜機(jī)

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