【真空鍍膜真空蒸發(fā)鍍膜原理】: 真空蒸發(fā)法的原理是:在真空條件下,用蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)材料,使之蒸發(fā)或升華進(jìn)入氣相,氣相粒子流直接射向基片上沉積或結(jié)晶形成固態(tài)薄膜;由于環(huán)境是真空,因此,無(wú)論是金屬還是非金屬,在這種情況下蒸發(fā)要比常壓下容易得多。真空蒸發(fā)鍍膜是發(fā)展較早的鍍膜技術(shù),其特點(diǎn)是:設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單,沉積速率快,膜層純度高,制膜材料及被鍍件材料范圍很廣,鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連續(xù)化,應(yīng)用相當(dāng)guang泛。按蒸發(fā)源的不同,主要分為:電阻加熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、電弧蒸發(fā)和激光蒸發(fā)等。真空鍍膜設(shè)備相關(guān)資料。廣西真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線
【離子鍍的歷史】:真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來(lái)取得了巨大的進(jìn)步,我國(guó)也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程。【離子鍍的原理】:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽(yáng)極,工件接陰極,當(dāng)通以三至五千伏高壓直流電以后,蒸發(fā)源與工件之間產(chǎn)生輝光放電。由于真空罩內(nèi)充有惰性氬氣,在放電電場(chǎng)作用下部分氬氣被電離,從而在陰極工件周圍形成一等離子暗區(qū)。帶正電荷的氬離子受陰極負(fù)高壓的吸引,猛烈地轟擊工件表面,致使工件表層粒子和臟物被轟濺拋出,從而使工件待鍍表面得到了充分的離子轟擊清洗。隨后,接通蒸發(fā)源交流電源,蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā),進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。帶正電荷的蒸發(fā)料離子,在陰極吸引下,隨同氬離子一同沖向工件,當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數(shù)量時(shí),則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。天津定制真空鍍膜設(shè)備光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。
看冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。真空鍍膜機(jī)需要配置冷卻水循環(huán)系統(tǒng),冷卻水用去離子水的效果更佳,對(duì)于防腐蝕也起到很大的作用,對(duì)于一些容易生銹的部件還會(huì)有很好的抑制作用。如果在去離子水中適量的加入一些防腐劑也可以起到防腐蝕的作用?,F(xiàn)在有很多的真空鍍膜機(jī)都是采用全自動(dòng)控制的方式。雖然說(shuō)是全自動(dòng)控制,但是各種區(qū)別還是很大的,其中有很多還處在半自動(dòng)的狀態(tài)。能夠?qū)崿F(xiàn)完全自動(dòng)控制的真空鍍膜還不是很多,而且自動(dòng)控制的功能模塊的區(qū)別還是很大的。電源設(shè)置。真空電源、進(jìn)口電源以及國(guó)產(chǎn)電源之間的差距還是比較明顯的,之間的價(jià)差也不小。一臺(tái)國(guó)產(chǎn)的20KW中頻電源大概在八萬(wàn)左右,而一臺(tái)進(jìn)口的中頻電源則達(dá)到了二十萬(wàn)。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】:一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱,由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi),由于鏡圈或碟片與鏡片(基片)的熱膨脹系數(shù)不一致,冷卻過(guò)程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂。有些大鏡片,由于出罩時(shí)的溫度較高,與室溫的溫差較大,鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。改善對(duì)策:1.夾具(鏡圈、碟片)的設(shè)計(jì),在尺寸配合上要合理,充分考慮制造誤差帶來(lái)的影響。2.注意鏡圈、碟片的變形,已經(jīng)變形的夾具不能使用。3.選用合適的夾具才來(lái)哦(非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性),不銹鋼較為理想(熱變形系數(shù)?。褪羌庸るy度大,價(jià)格貴。4.對(duì)于大鏡片應(yīng)降低出罩時(shí)的溫度,減少溫差,防止炸裂。5.如果時(shí)鏡圈,可以考慮在鏡圈上開(kāi)槽,作為緩沖!真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來(lái)越慢?
【真空蒸鍍的歷史】:1857年MichaelFaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展?!菊婵照翦兊脑怼浚涸谡婵諣顟B(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類可分為:抵抗加熱、電子束、高周波誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹(shù)脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍?!菊舭l(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】:優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。廣東真空鍍膜設(shè)備廠家。安徽豫榮真空鍍膜設(shè)備廠
成都真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些?廣西真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線
【為什么要在真空中鍍膜】:1.鍍的過(guò)程中不會(huì)受空氣分子碰撞,有較大的動(dòng)量到達(dá)待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如:鍍金屬膜時(shí)可以防止氧化3.成膜過(guò)程不受氣體影響,致密牢固4.真空(負(fù)壓)狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點(diǎn)教常壓下低,易于融化蒸發(fā)(對(duì)于蒸發(fā)類型的鍍膜)真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能,達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為Zui具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一,并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。廣西真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)線
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