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河北高真空鍍膜設(shè)備

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-08-14

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】: 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來(lái)改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)過(guò)薄膜后在光譜上會(huì)起變化,因此這些變化會(huì)使得光學(xué)薄膜至少具有下列功能: &反射的提高或穿透的降低 &反射的降低或穿透的提高 &雙色、偏極光的分光作用 &光譜帶通或戒指等濾光作用 &輻射器之光通量調(diào)整 &光電資訊的儲(chǔ)存及輸入真空鍍膜設(shè)備常見(jiàn)故障及解決方法。河北高真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜真空濺射法】:真空濺射法是物理qi相沉積法中的后起之秀。隨著高純靶材料和高純氣體制備技術(shù)的發(fā)展,濺射鍍膜技術(shù)飛速發(fā)展,在多元合金薄膜的制備方面顯示出獨(dú)到之處。其原理為:稀薄的空氣在異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電場(chǎng)的作用下,對(duì)陰極靶材料表面進(jìn)行轟擊,把靶材料表面的分子、原子、離子及電子等濺射出來(lái),被濺射出來(lái)的粒子帶有一定的動(dòng)能,沿一定的方法射向基體表面,在基體表面形成鍍層。特點(diǎn)為:鍍膜層與基材的結(jié)合力強(qiáng);鍍膜層致密、均勻;設(shè)備簡(jiǎn)單,操作方便,容易控制。主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目前應(yīng)用較多的是磁控濺射法。河北高真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備日常怎么維護(hù)?

【真空鍍膜機(jī)常見(jiàn)故障】: 一、 當(dāng)正在鍍膜室真空突然下降 1. 蒸發(fā)源水路膠圈損壞(更換膠圈) 2. 坩堝被打穿(更換坩堝) 3. 高壓電極密封處被擊穿(更換膠圈) 4. 工轉(zhuǎn)動(dòng)密封處膠圈損壞(更換膠圈) 5. 預(yù)閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 6. 高閥突然關(guān)閉可能是二位五通閥損壞(更換二位五通閥) 7. 機(jī)械泵停機(jī)可能是繼電器斷開(kāi)(檢查繼電器是否工作正常) 8. 烘烤引入線電極密封處被擊穿(更換膠圈) 9. 擋板動(dòng)密封處膠圈損壞(更換膠圈) 10. 玻璃觀察視鏡出現(xiàn)裂紋、炸裂(更換玻璃) 二、長(zhǎng)期工作的鍍膜機(jī)抽真空的時(shí)間很長(zhǎng)且達(dá)不到工作真空、恢復(fù)真空、極限真空、保真空: 1. 蒸發(fā)室有很多粉塵(應(yīng)清洗) 2. 擴(kuò)散泵很久未換油(應(yīng)清洗換油) 3. 前級(jí)泵反壓強(qiáng)大太機(jī)械泵真空度太低(應(yīng)清洗換油) 4. 各動(dòng)密封膠圈損壞(更換膠圈) 5. 由于蒸發(fā)室長(zhǎng)期溫度過(guò)高使其各密封膠圈老化(更換膠圈) 6. 蒸發(fā)室各引入水路密封處是否有膠圈損壞(更換膠圈) 7. 各引入座螺釘、螺母有無(wú)松動(dòng)現(xiàn)象(重新壓緊) 8. 高低預(yù)閥是否密封可靠(注油)

【濺射的四要素】:①靶材物質(zhì),②電磁場(chǎng),③底物,④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備【濺射收益】:1)離子每一次撞擊靶材時(shí),靶材所釋放出的靶材原子;2)影響濺射收益的因素:①等離子體中離子動(dòng)能,②入射離子的入射角度;3)Zui大濺射收益的決定因素:①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì);4)入射角度的影響因素①由電場(chǎng)決定,②靶材表面于入射源的相對(duì)角度?!緸R射率】:定義:每單位時(shí)間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個(gè)數(shù)。濺射率的影響因素:①離子動(dòng)能(取決于電源電壓和氣體壓力)②等離子密度(取決于氣體壓力和電流)。統(tǒng)計(jì)學(xué)公式:Rs(統(tǒng)計(jì)學(xué))=d/t。注:濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間,因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜,久之會(huì)產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進(jìn)行定期清潔。真空鍍膜機(jī)使用時(shí),需要注意哪些問(wèn)題?

【濺射鍍膜定義】:定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽(yáng)離子在電場(chǎng)力作用下高速向靶材沖擊,陽(yáng)離子和靶材進(jìn)行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個(gè)的動(dòng)力學(xué)過(guò)程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時(shí),將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運(yùn)動(dòng)。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢(shì)壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動(dòng)并波及周?chē)?,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過(guò)程稱為級(jí)聯(lián)碰撞。級(jí)聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達(dá)到表面,克服勢(shì)壘逸出,這就形成了級(jí)聯(lián)濺射,這就是濺射機(jī)理。當(dāng)級(jí)聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時(shí),動(dòng)態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級(jí)聯(lián)碰撞。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。貴州uv噴涂真空鍍膜設(shè)備

真空鍍膜機(jī)技術(shù)教程。河北高真空鍍膜設(shè)備

【真空鍍膜設(shè)備使用步驟】1電控柜的操作1)開(kāi)水泵、氣源2)開(kāi)總電源3)開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4)開(kāi)機(jī)械泵、予抽,開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。5)觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開(kāi)前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭,觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開(kāi)總電源2)同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān),延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅,若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。3)開(kāi)高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。3關(guān)機(jī)順序1)關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。2)待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。3)到50以下時(shí),再關(guān)維持泵。河北高真空鍍膜設(shè)備

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