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甘肅大直徑射頻離子源

來源: 發(fā)布時間:2023-08-22

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的較da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機該如何維修。甘肅大直徑射頻離子源

【真空鍍膜機之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng):排氣系統(tǒng)為鍍膜機真空系統(tǒng)的重要部分,主要有由機械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為:機械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài),為擴散泵后繼抽真空提供前提,之后當擴散泵抽真空腔的時候,機械泵又配合油擴散泵組成串聯(lián),以這樣的方式完成抽氣動作。四川離子束刻蝕射頻離子源真空鍍膜機的產(chǎn)業(yè)集群。

【真空鍍膜機沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳氫化合物污染)。通常對于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件,為了獲得原子態(tài)的清潔表面,消除其表面污染的標準方法是化學清洗,真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后(或系統(tǒng)運行后),由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定,這時對它們進行除氣處理就很困難,一旦系統(tǒng)受到(偶然)污染(主要是da原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染),通常要拆卸后重新處理再安裝.而用反應(yīng)氣體工藝,可以進行原位在線除氣處理.有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染.其清洗機理:在系統(tǒng)中引述氧化性氣體(O2、N0)和還原性氣體(H2、NH3)對金屬表面進行化學反應(yīng)清洗,消除污染,以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì),表面反應(yīng)速率的da小通過調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言,精確的參數(shù)要通過實驗來確定.對于不同的結(jié)晶取向,這些參數(shù)是不同的。

【射頻離子源簡介】:國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23,主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等,是公司技術(shù)團隊全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源,屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行業(yè)的技術(shù)封鎖,同時也激勵了國內(nèi)的同行制造業(yè)。離子源設(shè)備能促進光電產(chǎn)業(yè)升級,在國內(nèi)也是一項“卡脖子”技術(shù)。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應(yīng)多種工作氣體的特點。國產(chǎn)真空鍍膜機廠商推薦。

【真空鍍膜機鍍塑料件時抽真空時間過長是什么原因?】(1)真空室有漏氣現(xiàn)象:da家都知道,真空蒸發(fā)鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的,若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置,則真空鍍很長時間都不能抽得上來的;(2)即使真空室沒有漏氣,因為塑料產(chǎn)品的放氣量da,所以抽真空,特別是高真空很難達到。真空室內(nèi)太臟放氣,而且由于塑料產(chǎn)品的放氣,造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純,有雜氣的存在,造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗,發(fā)黃,發(fā)黑等。(3)也許是真空機組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了。射頻離子源是一種高能離子源,可用于各種科學研究和工業(yè)應(yīng)用。云南離子束輔助沉積射頻離子源批發(fā)價格

射頻離子源可用于航空航天領(lǐng)域,如推進系統(tǒng)、導航系統(tǒng)等。甘肅大直徑射頻離子源

【真空鍍膜對環(huán)境的基本要求】加工真空鍍膜工藝襯底(基片)表面的清潔處理很重要?;M入鍍膜室前均應(yīng)進行認真的鍍前清潔處理,達到工件去油、去污和脫水的目的?;砻嫖廴緛碜粤慵诩庸?、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物;零件表面在潮濕空氣中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的氣體。真空鍍膜廠家這些污物基本上均可采用去油或化學清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面,不能在da氣環(huán)境中存放,要用封閉容器或保潔柜貯存,以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底,可使碳氫化合物蒸氣的吸附減至小。因為這些容器優(yōu)先吸附碳氫化合物。對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面,一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。qing除鍍膜室內(nèi)的灰塵,設(shè)置清潔度高的工作間,保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求??諝鉂穸萪a的地區(qū),除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部件認真清洗外,還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi),注意油擴散泵返油,對加熱功率高的擴散泵必須采取擋油措施。甘肅大直徑射頻離子源

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