【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)?、乙炔等反?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品?！倦x子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)膜。光學(xué)真空鍍膜設(shè)備制造商。貴州金華真空鍍膜設(shè)備哪種好

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之破邊、炸裂】： 一般的鍍膜會(huì)對(duì)基片加熱，由于基片是裝架在金屬圈、碟內(nèi)，由于鏡圈或碟片與鏡片（基片）的熱膨脹系數(shù)不一致，冷卻過(guò)程中會(huì)造成鏡片的破便或炸裂。 有些大鏡片，由于出罩時(shí)的溫度較高，與室溫的溫差較大，鏡片的熱應(yīng)力作用造成鏡片炸裂或破邊。有些零件邊緣倒邊的形狀容易造成卡圈而破邊。 改善對(duì)策： 1. 夾具（鏡圈、碟片）的設(shè)計(jì)，在尺寸配合上要合理，充分考慮制造誤差帶來(lái)的影響。 2. 注意鏡圈、碟片的變形，已經(jīng)變形的夾具不能使用。 3. 選用合適的夾具才來(lái)哦（非導(dǎo)磁材料、不生銹、耐高溫不變性），不銹鋼較為理想（熱變形系數(shù)?。?，就是加工難度大，價(jià)格貴。 4. 對(duì)于大鏡片應(yīng)降低出罩時(shí)的溫度，減少溫差，防止炸裂。 5. 如果時(shí)鏡圈，可以考慮在鏡圈上開(kāi)槽，作為緩沖。天津真空鍍膜設(shè)備廠家電話價(jià)格成都真空鍍膜設(shè)備廠家有哪些？

【真空鍍膜設(shè)備使用步驟】1電控柜的操作1)開(kāi)水泵、氣源2)開(kāi)總電源3)開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4)開(kāi)機(jī)械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5)觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開(kāi)前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開(kāi)總電源2)同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅，若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護(hù)燈會(huì)常亮。3)開(kāi)高壓，高壓會(huì)達(dá)到10KV以上，調(diào)節(jié)束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。3關(guān)機(jī)順序1)關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。2)待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。3)到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。

【真空鍍膜機(jī)概述】： 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五大系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時(shí)間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值；因此，只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí)，自動(dòng)化程序才會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機(jī)能長(zhǎng)時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn)；降低故障時(shí)間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機(jī)器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機(jī)器利用率等。關(guān)于真空鍍膜設(shè)備，你知道多少？

【離子鍍膜法之活性反應(yīng)蒸鍍法】：活性反應(yīng)蒸鍍法(ABE):利用電子束加熱使膜材氣化；依靠正偏置探極和電子束間的低壓等離子體輝光放電或二次電子使充入的氧氣、氮?dú)?、乙炔等反?yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，蒸鍍效率高，能獲得三氧化鋁(AL2O3)、氮化鈦(TiN)、碳化鈦(TiC)等薄膜；可用于鍍機(jī)械制品、電子器件、裝飾品。【離子鍍膜法之空心陰極離子鍍(HCD)】：空心陰極離子鍍(HCD):利用等離子電子束加熱使膜材氣化；依靠低壓大電流的電子束碰撞使充入的氣體Ar或其它惰性氣體、反應(yīng)氣體離化。這種方法的特點(diǎn)是：基板溫升小，要對(duì)基板加熱，離化率高，電子束斑較大，能鍍金屬膜、介質(zhì)膜、化合物膜；可用于鍍裝飾鍍層、機(jī)械制品。真空鍍膜設(shè)備大概多少錢一臺(tái)？江蘇匯成真空鍍膜設(shè)備

國(guó)產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備哪家好？貴州金華真空鍍膜設(shè)備哪種好

【真空鍍膜設(shè)備之真空的測(cè)量】： 真空計(jì)： A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對(duì)流規(guī)： 用來(lái)測(cè)粗真空的真空計(jì)，從大氣到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢，受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī)： 用來(lái)測(cè)高真空或超高真空的真空計(jì)，熱燈絲的離子規(guī)測(cè)量范圍一般從1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，燈絲在工作時(shí)遇到大氣會(huì)燒毀；冷陰極的離子規(guī)一般可以測(cè)到1E&11Torr，精度在20%~50%，特別是超高真空下測(cè)量精度很差，需要高壓電源，探頭內(nèi)有磁鐵，使用時(shí)不能用于某些無(wú)磁的場(chǎng)合。 C、電容式壓力計(jì)： 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr，動(dòng)態(tài)范圍大約104范圍，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在讀數(shù)的0.25%，可以高到0.15%。 D、寬量程真空計(jì)： 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合，兩個(gè)規(guī)可以自動(dòng)切換，在低真空時(shí)切換到皮拉尼規(guī)，高真空時(shí)可切換到離子規(guī)。貴州金華真空鍍膜設(shè)備哪種好