【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。真空鍍膜機(jī)的工作原理。成都離子束刻蝕射頻離子源批發(fā)價(jià)格

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴(kuò)散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關(guān)轟擊→開真空計(jì)→當(dāng)真空到，關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開始操作。特別注意：1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場(chǎng)下才能對(duì)擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運(yùn)行中遇有停電或其它事故發(fā)生，須先停擴(kuò)散泵，關(guān)精抽閥，前置閥和真空計(jì)。5.產(chǎn)品做完下班后，關(guān)了擴(kuò)散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。遼寧光學(xué)薄膜射頻離子源生產(chǎn)廠家真空鍍膜機(jī)真空四個(gè)階段。

【真空鍍膜之離子束濺射鍍膜】離子束濺射沉積法在離子源內(nèi)由惰性氣體(通常為氬)產(chǎn)生具有較高能量的離子轟擊靶材料，把靶材料沉積到基片上的方法。離子束濺射沉積法的一da優(yōu)點(diǎn)是基片相對(duì)于離子源和靶是du立的，它的溫度可以單獨(dú)控制?；ǔ＝拥匚?，它和靶與高頻電路無關(guān)，不會(huì)象陰極濺射鍍膜那樣受到高能電子的轟擊，因而溫度較低。所以只要配置一臺(tái)較好的恒溫循環(huán)器(如HX1050型，控溫范圍為-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品臺(tái)的單獨(dú)控溫，就可以根據(jù)不同樣品的要求以及薄膜生長(zhǎng)不同階段的溫度需要進(jìn)行適當(dāng)調(diào)節(jié)。根據(jù)現(xiàn)有離子束濺射設(shè)備的構(gòu)造，設(shè)計(jì)、加工了專門的金屬樣品架，放上樣品后蓋上金屬壓片，用螺絲緊密地固定在鍍膜腔體的樣品臺(tái)上，可使樣品和控溫的樣品臺(tái)有良好的熱接觸。并在樣品架中放置了一個(gè)測(cè)溫鉑電阻，用螺絲把金屬壓片連同其下的鉑電阻一起固定壓緊，再用導(dǎo)線引出與高精度的萬用表相連，以監(jiān)測(cè)薄膜生長(zhǎng)過程中的樣品溫度。

射頻中和器采用L型接法匹配：匹配速度快，效率高，點(diǎn)火更優(yōu)。源頭和中和器結(jié)構(gòu)經(jīng)常拆解部分的內(nèi)六角進(jìn)行電鍍及消氣處理，防止拆卸過程卡死，備件及耗品重復(fù)利用率高。射頻電源及控制部分單獨(dú)裝配在一個(gè)電柜內(nèi)，RF線纜做防輻射和泄漏處理，避免對(duì)通訊、控制信號(hào)的干擾，同時(shí)也做良好的散熱處理。直流電源電壓紋波做了二次濾波處理，高壓輸出的紋波小于50mV，離子源束流的穩(wěn)定性和重復(fù)性較好，鍍膜的產(chǎn)品的折射率更穩(wěn)定。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預(yù)判的技術(shù)；直流引入快速滅弧技術(shù)，同時(shí)提高了射頻和直流部分的穩(wěn)定性，軟件設(shè)置了自檢和自診斷功能，即：使用前系統(tǒng)自檢，使用中即時(shí)刷新，對(duì)非調(diào)整性輸入的變化提前警報(bào)并告知客戶做好預(yù)案。射頻離子源，實(shí)現(xiàn)高精度鍍膜。

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對(duì)產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。適用材料：所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。常見的為注塑件和金屬件。工藝成本:無模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過10分鐘。環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。錦成國(guó)泰真空鍍膜機(jī)怎么樣？陜西離子束刻蝕射頻離子源自主研發(fā)設(shè)計(jì)生產(chǎn)

射頻離子源采用高頻電場(chǎng)來加速和離子化氣體分子，產(chǎn)生高能離子束。成都離子束刻蝕射頻離子源批發(fā)價(jià)格

國(guó)泰真空射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個(gè)負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同國(guó)泰射頻離子源采用通用的LC高頻諧振原理，使用可調(diào)電容快速調(diào)諧，使整個(gè)負(fù)載阻抗匹配到50?，從而使功率輸出比較大，電離化效率比較高，調(diào)諧馬達(dá)采用步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)位+編碼器快速定位，并帶鎖止和記憶功能，以滿足負(fù)載在不同的真空環(huán)境、不同阻抗快速點(diǎn)火。射頻部分匹配采用了硬件反饋和軟件提前記憶并預(yù)判的技術(shù)；直流引入快速滅弧技術(shù)，同時(shí)提高了射頻和直流部分的穩(wěn)定性，軟件設(shè)置了自檢和自診斷功能，即：使用前系統(tǒng)自檢，使用中即時(shí)刷新，對(duì)非調(diào)整性輸入的變化提前警報(bào)并告知客戶做好預(yù)案。成都離子束刻蝕射頻離子源批發(fā)價(jià)格