【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導電與否,可分為導電真空鍍膜(VM)和不導電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當操作不當應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。在重新開機前,要注意檢漏工作。首先啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴散泵部分真空度是否達到標準,否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處的密封圈是否正常。真空鍍膜機品牌有很多,你如何選擇?廣東大直徑射頻離子源源頭實力廠家
【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,對基材表面做預(yù)處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層:靶材蒸發(fā)的結(jié)果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚!北京射頻離子源專業(yè)生產(chǎn)真空鍍膜機廠家排名。
【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,(注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽閥內(nèi)的污垢。2.當粗抽泵(滑閥泵,旋片泵)連續(xù)工作一個月(雨季減半),需更換新油。方法:擰開放油螺栓,放掉舊油,再將泵啟動數(shù)秒,使泵內(nèi)的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓,加入新油至額定量(油視鏡觀察)。連續(xù)使用半年以上,換油時應(yīng)將油蓋打開,用布擦干凈箱內(nèi)污垢。3.在重新開機前,要注意檢漏。方法:啟動維持泵,關(guān)好da門,數(shù)分鐘后,觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕,否則要進行檢漏。檢查聯(lián)接處是否裝密封膠圈,或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱,否則擴散泵油會燒環(huán),真空鍍膜設(shè)備無法進入工作狀態(tài)。
【機械泵分類】機械泵有很多種,常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。機械泵是從da氣開始工作的,它的主要參數(shù)有極限真空,抽氣速率,此為設(shè)計與選用機械泵的重要依據(jù)。單級泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空,雙級機械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕,甚至更高。抽氣速率,是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運轉(zhuǎn)時,單位時間內(nèi)所能排出氣體的體積,可以用下公式計算:Sth=2nVs=2nfsLfs表示吸氣結(jié)束時空腔截面積,L表示空腔長度,系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程,Vs表示當轉(zhuǎn)子處于水平位置的時候,吸氣結(jié)束,此時空腔內(nèi)的體積da,轉(zhuǎn)速為n。機械泵排氣的效果還與電機的轉(zhuǎn)速及皮帶的松緊度有關(guān)系,當電機的皮帶比較松,電機轉(zhuǎn)速很慢的時候,機械泵的排氣效果也會變差,所以要經(jīng)常保養(yǎng),點檢,機械泵油的密封效果也需要常常點檢,油過少,達不到密封效果,泵內(nèi)會漏氣,油過多,把吸氣孔堵塞,無法吸氣和排氣,一般,在油位在線下0.5厘米即可。真空鍍膜機的工作原理。
【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊,開轟擊30秒,關(guān)轟擊→開真空計→當真空到,關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥,當真空達到7x10-3pa,開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后,關(guān)閉真空計、離子源→關(guān)精抽閥,前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥,取件→上料,反復(fù)開始操作。特別注意:1.設(shè)備停用時,鍍膜室要保持真空狀態(tài),減少內(nèi)表面氣體的吸附,防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱,未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸,防止氧化。3.要保證機器內(nèi)擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設(shè)備運行中遇有停電或其它事故發(fā)生,須先停擴散泵,關(guān)精抽閥,前置閥和真空計。5.產(chǎn)品做完下班后,關(guān)了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關(guān)維持泵。射頻離子源可用于能源領(lǐng)域,如核能、太陽能等。福建光學鍍膜射頻離子源源頭實力廠家
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【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經(jīng)過一次碰撞損失一部分動能,經(jīng)過多次碰撞后,喪失了能量成為“終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),后到達陽極時已經(jīng)是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產(chǎn)生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉(zhuǎn)入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應(yīng)力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。廣東大直徑射頻離子源源頭實力廠家