【真空鍍膜電阻加熱蒸發(fā)法】:電阻加熱蒸發(fā)法就是采用鎢、鉬等高熔點(diǎn)金屬,做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓電流通過,對蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入坩鍋中進(jìn)行間接加熱蒸發(fā)。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜設(shè)備構(gòu)造簡單、造價便宜、使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。目前在鍍鋁制品的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是:加熱所能達(dá)到的Zui高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。真空鍍膜設(shè)備使用時,需要注意哪些問題?山西國外真空鍍膜設(shè)備廠商
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】:現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕??赡艹梢蛴校?.膜結(jié)構(gòu)問題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過大,膜結(jié)構(gòu)粗糙3.溫差:鏡片出罩時內(nèi)外溫差過大4.潮氣:鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內(nèi)POLYCOLD解凍時水汽過重6.蒸鍍中充氧不完全,膜結(jié)構(gòu)不均勻。7.膜與膜之間的應(yīng)力改善思路:膜外白霧成因很多但各有特征,盡量對癥下藥。主要思路,一是把膜做的致密光滑些不容易吸附,二是改善環(huán)境減少吸附的對象。改善對策:1.改善膜系,外層加二氧化硅,使膜表面光滑,不易吸附。2.降低出罩時的鏡片溫度3.改善充氧(加大),改善膜結(jié)構(gòu)4.適當(dāng)降低蒸發(fā)速率,改善柱狀結(jié)構(gòu)5.離子輔助鍍膜,改善膜結(jié)構(gòu)6.加上Polycold解凍時的小充氣閥7.從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時的真空度。 廣西真空鍍膜設(shè)備工廠錦成國泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣?
【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之機(jī)器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之機(jī)器故障和人為中斷: 模擬:根據(jù)已經(jīng)實(shí)鍍的鏡片(測試比較片)實(shí)測分光數(shù)據(jù)輸入計算機(jī)膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標(biāo)值,再根據(jù)已經(jīng)掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實(shí)際鍍制的膜系數(shù)據(jù)。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數(shù)據(jù),通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實(shí)現(xiàn)目標(biāo)的Zui佳方案。 試鍍:根據(jù)新優(yōu)化的后續(xù)膜層數(shù)據(jù),試鍍?nèi)舾社R片或測試片,確認(rèn)補(bǔ)色膜系的可行性。 補(bǔ)色鍍:對試鍍情況確認(rèn)后實(shí)施補(bǔ)色鍍。補(bǔ)色鍍前,確認(rèn)基片是否潔凈,防止產(chǎn)生其他不良。
【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】:真空泵:真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來講,真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。按真空泵的工作原理,真空泵基本上可以分為兩種類型,即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。A、粗真空泵(RoughVacuumPump):一般用于抽粗真空,有油泵和干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種:旋轉(zhuǎn)葉片泵:油泵,極限真空可達(dá)10&3Torr,抽速1~650CFM隔膜泵:干泵,極限真空1Torr左右,抽速<10CFM往復(fù)式活塞泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速6~32CFM渦旋式真空泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速12~25CFM螺旋泵:干泵,極限真空10&3Torr,抽速30~318CFM真空鍍膜機(jī)真空四個階段。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內(nèi)色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策: 1. 對減反膜,設(shè)計條件許可時,外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質(zhì)的侵蝕。 2. 適當(dāng)降低蒸鍍速率(在一定范圍內(nèi)),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個人衛(wèi)生改善 9. 檢討真空室返油狀況,防止返油。 10. 適當(dāng)降低基片溫度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜層,根據(jù)硝材特性,選擇合適的膜層材料。真空鍍膜設(shè)備常見故障及解決方法。貴州真空鍍膜設(shè)備的膜厚如何測量
電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備是什么?山西國外真空鍍膜設(shè)備廠商
在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程形成薄膜。真空鍍膜機(jī)對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。山西國外真空鍍膜設(shè)備廠商